公开(公告)号：CN110914954B

公开(公告)日：2023-09-08

申请号：CN201880030307.2

申请日：2018-05-07

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 苏宗辉 ,  V·普拉巴卡尔 ,  A·A·哈贾 ,  J·李

IPC: H01L21/02 ,  C23C16/455 ,  H01L21/67

Abstract: 提供了用于斜面蚀刻处理的方法和设备，并且包括将衬底放置在容纳设置在所述衬底上方的掩模的处理腔室中，其中所述衬底具有边缘和中心并含有沉积的层。所述方法包括：使等离子体沿着所述掩模的外表面并向所述衬底的所述边缘流动；以及使所述边缘暴露于所述等离子体并用所述等离子体从所述边缘蚀刻所述沉积的层。所述方法还包括：使净化气体从定位在所述掩模的内表面上的两个或更多个开口并向所述衬底的所述中心流动；以及使所述衬底的所述上表面在所述中心处暴露于所述净化气体并使所述净化气体从所述中心沿着所述上表面朝向所述边缘径向地流动，以在所述等离子体和所述净化气体的界面处形成蚀刻轮廓。

公开(公告)号：CN112889145A

公开(公告)日：2021-06-01

申请号：CN201980069562.2

申请日：2019-09-26

Applicant: 应用材料公司

Inventor： J·M·舒浩勒 ,  J·C·伯拉尼克 ,  J·李

IPC: H01L21/687 ,  H01L21/67 ,  H01L21/02 ,  C23C16/458

Abstract: 本公开内容的实施例总体上涉及升降杆固持器、升降杆固持器组件、以及包含升降杆固持器和/或升降杆固持器组件的基板支撑件。在一个或多个实施例中，一种升降杆固持器包含：具有第一外径的顶盖；耦接到顶盖的基部，其中基部具有第二外径；轴向地穿过顶盖和基部形成的第一孔腔，其中第一孔腔具有侧壁；以及从第一孔腔的侧壁延伸到基部的外表面的多个第二孔腔，其中弹簧加载构件被设置在第二孔腔中的每一者内。

公开(公告)号：CN110914954A

公开(公告)日：2020-03-24

申请号：CN201880030307.2

申请日：2018-05-07

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 苏宗辉 ,  V·普拉巴卡尔 ,  A·A·哈贾 ,  J·李

IPC: H01L21/02 ,  C23C16/455 ,  H01L21/67

Abstract: 提供了用于斜面蚀刻处理的方法和设备，并且包括将衬底放置在容纳设置在所述衬底上方的掩模的处理腔室中，其中所述衬底具有边缘和中心并含有沉积的层。所述方法包括：使等离子体沿着所述掩模的外表面并向所述衬底的所述边缘流动；以及使所述边缘暴露于所述等离子体并用所述等离子体从所述边缘蚀刻所述沉积的层。所述方法还包括：使净化气体从定位在所述掩模的内表面上的两个或更多个开口并向所述衬底的所述中心流动；以及使所述衬底的所述上表面在所述中心处暴露于所述净化气体并使所述净化气体从所述中心沿着所述上表面朝向所述边缘径向地流动，以在所述等离子体和所述净化气体的界面处形成蚀刻轮廓。

公开(公告)号：CN102217048B

公开(公告)日：2014-05-21

申请号：CN200980134141.X

申请日：2009-08-27

Applicant: 应用材料公司

Inventor： A·M·亨特 ,  J·李 ,  R·S·拉马努加姆 ,  托玛斯·霍

IPC: H01L21/324 ,  H01L21/66

CPC classification number: H01L21/67248 ,  H01L21/67115

Abstract: 本发明的具体实施例是有关于在扩大温度范围(包含低温)下快速热处理基板的方法和设备。在此也揭露了使用扩大温度的高温测定系统的系统和方法，所述高温测定系统采用穿透式辐射侦测器系统。同时也叙述了结合穿透式辐射侦测器系统和发射式辐射侦测器系统的系统。

公开(公告)号：CN211045385U

公开(公告)日：2020-07-17

申请号：CN201922311864.6

申请日：2019-12-20

Applicant: 应用材料公司

Inventor： V·S·C·帕里米 ,  Z·黄 ,  J·李 ,  S·拉达克里什南 ,  程睿 ,  D·N·凯德拉亚 ,  J·C·罗查 ,  U·M·科尔卡 ,  K·杰纳基拉曼 ,  S·M·博贝克 ,  P·K·库尔施拉希萨 ,  V·K·普拉巴卡尔 ,  B·S·权

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/687

Abstract: 本公开内容的实施方式总体上涉及一种基座，所述基座用于增加支撑在其上的基板中的温度均匀性。所述基座包括主体，所述主体中嵌入有加热器。所述主体包括图案化的表面，所述图案化的表面包括第一区域和围绕所述中心区域的第二区域，所述第一区域具有在第一高度从所述主体的基底表面延伸的第一多个柱，所述第二区域具有在大于第一高度的第二高度从基底表面延伸的第二多个柱，其中所述第一多个柱和所述第二多个柱中的每一者的上表面基本上共面并且限定基板接收表面。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

公开(公告)号：CN212199413U

公开(公告)日：2020-12-22

申请号：CN202020083218.9

申请日：2020-01-15

Applicant: 应用材料公司

Inventor： S·M·博贝克 ,  V·S·C·帕里米 ,  P·K·库尔施拉希萨 ,  V·K·普拉巴卡尔 ,  K·D·李 ,  S·河 ,  J·李

IPC: C23C16/458 ,  C23C16/513

Abstract: 本公开内容的各方面整体上涉及底座、其部件以及将其用于衬底处理腔室的方法。在一个实现方式中，一种用于在衬底处理腔室中进行设置的底座包括主体。所述主体包括支撑表面。所述主体还包括从所述支撑表面向上突出的台阶状表面。所述台阶状表面围绕所述支撑表面设置以包围所述支撑表面。所述台阶状表面限定边缘环，使得所述边缘环与所述底座成一体以形成所述主体，所述主体是整体的。所述底座还包括：电极，所述电极设置在所述主体中；以及一个或多个加热器，所述一个或多个加热器设置在所述主体中。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利