半导体装置
    11.
    发明授权

    公开(公告)号:CN110556361B

    公开(公告)日:2024-05-03

    申请号:CN201910119085.8

    申请日:2019-02-18

    Abstract: 提供了一种半导体装置。所述半导体装置可以包括:多个有源图案和多个栅极结构,位于基底上;第一绝缘中间层,覆盖有源图案和栅极结构;多个第一接触插塞,延伸穿过第一绝缘中间层;多个第二接触插塞,延伸穿过第一绝缘中间层;以及第一连接图案,与从第一接触插塞和第二接触插塞中选择的至少一个接触插塞的侧壁直接接触。每个栅极结构可以包括栅极绝缘层、栅电极和覆盖图案。每个第一接触插塞可以与和栅极结构相邻的有源图案接触。每个第二接触插塞可以与栅极结构中的栅电极接触。第一连接图案的上表面可以与第一接触插塞的上表面和第二接触插塞的上表面基本共面。

    半导体装置
    13.
    发明公开

    公开(公告)号:CN110416210A

    公开(公告)日:2019-11-05

    申请号:CN201910206680.5

    申请日:2019-03-19

    Abstract: 提供了一种半导体装置。所述半导体装置包括:基底;栅极结构,位于基底上;第一蚀刻停止层、第二蚀刻停止层和层间绝缘层,堆叠在栅极结构上;以及接触插塞,穿透层间绝缘层、第二蚀刻停止层和第一蚀刻停止层并且接触栅极结构的侧壁。接触插塞包括具有第一宽度的下部和具有第二宽度的上部。接触插塞的下表面具有台阶形状。

    包括自对准接触的半导体器件及其制造方法

    公开(公告)号:CN110299321A

    公开(公告)日:2019-10-01

    申请号:CN201910071670.5

    申请日:2019-01-25

    Abstract: 提供了一种具有改进的产品可靠性的半导体器件及其制造方法。所述半导体器件包括:衬底;位于所述衬底上的栅电极;位于所述栅电极的侧壁上的第一间隔物;位于所述第一间隔物的侧壁上的导电接触,所述导电接触突出超过所述栅电极的顶表面;由所述栅电极的顶表面、所述第一间隔物的顶表面和所述导电接触的侧壁限定的沟槽;沿着所述沟槽的至少部分侧壁和所述沟槽的底表面延伸的蚀刻停止层;以及位于所述蚀刻停止层上并且填充所述沟槽的覆盖图案,其中,所述覆盖图案包括氧化硅或介电常数低于氧化硅的介电常数的低k材料。

    半导体器件
    18.
    发明公开

    公开(公告)号:CN110752212A

    公开(公告)日:2020-02-04

    申请号:CN201910374990.8

    申请日:2019-05-07

    Abstract: 半导体器件包括:栅极,在衬底上沿第一方向延伸,所述栅极中的每个栅极包括栅极绝缘层、栅电极和第一间隔物;第一接触插塞,在所述栅极中的相邻栅极之间与衬底接触,第一接触插塞与所述栅极中的相应栅极的侧壁间隔开;第二接触插塞,与相应栅电极的上表面相接触,第二接触插塞在所述第一接触插塞之间;以及绝缘间隔物,在第二接触插塞和相邻的第一接触插塞之间的间隙中,绝缘间隔物接触第二接触插塞和相邻的第一接触插塞的侧壁,并且第二接触插塞和相邻的第一接触插塞的上表面基本上彼此共面。

    半导体装置
    19.
    发明公开

    公开(公告)号:CN110556361A

    公开(公告)日:2019-12-10

    申请号:CN201910119085.8

    申请日:2019-02-18

    Abstract: 提供了一种半导体装置。所述半导体装置可以包括:多个有源图案和多个栅极结构,位于基底上;第一绝缘中间层,覆盖有源图案和栅极结构;多个第一接触插塞,延伸穿过第一绝缘中间层;多个第二接触插塞,延伸穿过第一绝缘中间层;以及第一连接图案,与从第一接触插塞和第二接触插塞中选择的至少一个接触插塞的侧壁直接接触。每个栅极结构可以包括栅极绝缘层、栅电极和覆盖图案。每个第一接触插塞可以与和栅极结构相邻的有源图案接触。每个第二接触插塞可以与栅极结构中的栅电极接触。第一连接图案的上表面可以与第一接触插塞的上表面和第二接触插塞的上表面基本共面。

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