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公开(公告)号：CN1431679A
公开(公告)日：2003-07-23
申请号：CN03115427.1
申请日：2003-02-14
Applicant: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
IPC: H01L21/00
Abstract: 本发明公开了一种注氧隔离(SIMOX)技术制备全介质隔离的硅量子线的方法。本发明的特征是将SOI衬底材料的制备工艺与其后形成硅量子线的牺牲热氧化工艺结合在一起；在制备SOI衬底材料的过程中完成硅量子线的制备，具体包括三个步骤：(a)确定量子线区域并在其四周光刻出沟槽；(b)离子注入；(c)高温退火。本发明在减少工艺步骤、降低成本的同时提高了硅量子线的质量。所制备的硅量子线适合于制造单电子晶体管(SET)等固体纳米器件。
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公开(公告)号：CN1424754A
公开(公告)日：2003-06-18
申请号：CN02160742.7
申请日：2002-12-27
Applicant: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
IPC: H01L21/84
Abstract: 本发明公开了一种制备高质量图形化SOI材料的方法，依次包括在半导体衬底上生成掩模、离子注入和高温退火，其特征在于(1)离子注入前在硅片上形成掩模以在体硅区域完全阻挡离子的注入；(2)离子注入时的能量范围是50～200 keV，相应的剂量范围是2.0×1017～7.0×1017cm－2，注入剂量和能量之间的优化关系的公式是D(1017cm－2)＝(0.035±0.005)×E(keV)；(3)离子注入后的高温退火的温度为1200～1375℃，退火的时间为1～24个小时，退火的气氛为氩气或氮气与氧气的混合气体，其中氧气的体积含量为0.5％～20％。采用本发明提供的方法所制备的图形化SOI材料具有平整度高，缺陷密度低，过渡区小等优点，适合于制造集成体硅和SOI电路的系统芯片。
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公开(公告)号：CN120012688A
公开(公告)日：2025-05-16
申请号：CN202411877558.8
申请日：2024-12-19
Applicant: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 , 广东省大湾区集成电路与系统应用研究院
IPC: G06F30/367 , G06F30/392 , G06F119/08
Abstract: 本发明提供了一种SOI射频器件低温模型建模方法，包括：对射频器件在各温度下的直流特性进行建模；建立用于低温S参数仿真的小信号等效电路图；根据小信号等效电路图，从不同温度下的射频实测数据中提取小信号参数；将不同温度提取出来的上述参数进行建模，建立这些参数与温度之间的关系并写入SPICE网表；建立Ft,Fmax与温度之间的联系。本发明针对低温情况，采用不同温度下的提取数据进行建模，建立Ft,Fmax与温度之间的联系，使其能够适用于低温环境。
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公开(公告)号：CN113655360B
公开(公告)日：2025-04-01
申请号：CN202110913198.2
申请日：2021-08-10
Applicant: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
Abstract: 本发明提供了一种RF MOS器件的在片测试结构的去嵌方法，包括如下步骤：在同一衬底上同时形成待测器件，以及相对应的引脚结构、开路结构、短路结构以及直通结构；分别对上述待测器件、引脚结构、开路结构、短路结构、直通结构进行S参数测试；利用电磁仿真模型仿真一个金属条阻抗，算出实际短路结构引入的阻抗；利用所获得的实际短路结构引入的阻抗，将S参数转换为Y参数。本发明通过对一个金属条进行电磁仿真其阻抗来模拟实际用于去嵌的短路结构中用于共地互连的那部分金属块的阻抗，并在去嵌过程中将该阻抗去除，从而在更高频率的时候也能获得更好的去嵌精度。
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公开(公告)号：CN113642706B
公开(公告)日：2024-12-27
申请号：CN202110913994.6
申请日：2021-08-10
Applicant: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
Abstract: 本发明提供了一种神经元网络单元，包括静态随机存储单元、正向读出隔离支路、以及反向读出隔离支路；所述静态随机存储单元包括电学串联的第一传输晶体管和第二传输晶体管，以及并联在第一和第二传输晶体管之间的两个对置互锁的第一和第二反相器，所述正向读出隔离支路连接至第一传输晶体管与两个对置互锁的反相器之间，用于根据静态随机存储单元存储的控制信号，将一外部输入的数字电压转化为模拟电流输出；所述反向读出隔离支路连接至第二传输晶体管与两个对置互锁的反相器之间，用于根据静态随机存储单元存储的控制信号，将一外部输入的数字电压转化为模拟电流输出。
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公开(公告)号：CN119149111A
公开(公告)日：2024-12-17
申请号：CN202411063806.5
申请日：2024-08-05
Applicant: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 , 张江国家实验室
Abstract: 本发明提供了一种采用存算一体仲裁器实现支持存算一体缓存的RISC‑VCPU架构，包括顺序流水线处理器、存算一体数据缓存、指令缓存、存算一体仲裁器。本发明通过采用传统顺序流水结构的顺序流水线处理器，并设计存算一体仲裁器，配合指令缓存以及存算一体数据缓存对顺序流水线处理器进行优化，合并能够合并的指令，从而提高流水线处理效率，并降低能耗，从而实现更加高性能低功耗的RISC‑V CPU。
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公开(公告)号：CN112699629B
公开(公告)日：2024-10-01
申请号：CN202011600780.5
申请日：2020-12-29
Applicant: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 , 上海华力微电子有限公司
IPC: G06F30/367
Abstract: 本发明提供了一种变容二极管漏电电流的建模方法，包括如下步骤：提取拟合电压系数和尺寸拟合系数，建立正向漏电电流模型；提取宽长拟合系数和趋势拟合系数，建立反向漏电电流模型；拟合不同温度下的模型参数，建立温度模型；反馈验证。本发明针对变容二极管的漏电IV特性曲线进行物理特性与数学方法相结合的拟合，因此模型更为准确。
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公开(公告)号：CN112666440B
公开(公告)日：2024-10-01
申请号：CN202011473363.9
申请日：2020-12-15
Applicant: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 , 上海华力微电子有限公司
Abstract: 本发明提供了一种阈值电压的测量方法，包括如下步骤：在晶体管的栅极施加电压Vth0，源极与漏极之间施加一预设电压Vsd；测定源漏之间初始电流Id0；在所述晶体管的栅极均叠加电压偏移Vdelta1；再次测定源漏之间的电流Id1；评估|Id1‑Icon|是否小于一预设误差值，所述Icon为恒定的归一化电流，若小于则记录Vth0‑Vdelta1为该晶体管的阈值电压，若大于，则再次在第二晶体管的栅极均叠加电压偏移Vdelta2，所述Vdelta2的数值与Id1‑Icon呈一致性正相关。本发明考虑到测试获得的电流与归一化电流的数值关系，测试电流与归一化电流的差越大，则后续叠加的电压偏移就越大，两者呈一致性正相关，以使测试能够更迅速的逼近真实的阈值电压，提高了测试效率，有效降低相关测试时间。
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公开(公告)号：CN112837731B
公开(公告)日：2024-08-06
申请号：CN202011636261.4
申请日：2020-12-31
Applicant: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 , 上海华力微电子有限公司
IPC: G11C11/412 , G11C11/417 , H10B10/00
Abstract: 本发明提供了一种存算复用的静态存储单元，输入信号配置可以选自于存储器配置和比较器配置中的任意一种。通过复用一部分晶体管，通过更小的电路面积做到了比较器和存储器的存算复用，提高了存算一体系统的数据处理能力。
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公开(公告)号：CN109461732B
公开(公告)日：2023-05-16
申请号：CN201811212888.X
申请日：2018-10-18
Applicant: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
IPC: H10B10/00 , G11C11/412 , G11C11/417
Abstract: 本发明提供一种静态随机存储单元及其制作方法，上拉晶体管和下拉晶体管的源极均嵌有隧穿二极管结构，可以在不增加器件面积的情况下(最终的有效单元面积可小于7.5μm2)有效抑制PDSOI器件中的浮体效应以及寄生三极管效应引发的漏功耗以及晶体管阈值电压漂移，提高单元的抗噪声能力。并且本发明的SOI六晶体管SRAM单元的制作方法还具有制造工艺简单、与现有逻辑工艺完全兼容等优点，单元内部采用中心对称结构以及单元之间的共享结构，使其方便形成存储阵列，有利于缩短设计SRAM芯片的周期。
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