公开(公告)号：CN101178543A

公开(公告)日：2008-05-14

申请号：CN200710137033.0

申请日：2007-07-19

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 高木善则 ,  大森雅文 ,  高井武

IPC: G03F7/16 ,  G02F1/1333 ,  B23Q3/08 ,  H01L21/683 ,  B25H1/00

Abstract: 一种吸附工作台及基板处理装置，在抑制成本增加和涂布不良的同时，改善大气在基板背面的循环。在基板处理装置的吸附工作台(3)的上表面(30)上形成呈格子状的开放槽(34)。开放槽(34)在吸附工作台(3)保持着基板(90)的状态下也开放于大气。在由开放槽(34)隔开的保持部(35)的保持面(36)上设置有吸附孔(37)和吸附槽(38)，并使吸附孔(37)和吸附槽(38)连通。吸附槽(38)在吸附工作台(3)保持着基板(90)的状态下不开放于大气。进而，使吸附孔(37)和排气机构连通。在吸附工作台(3)保持基板(90)时，从排气机构吸引空气，利用吸附孔(37)和吸附槽(38)吸附基板(90)的背面。

公开(公告)号：CN100385200C

公开(公告)日：2008-04-30

申请号：CN200510109770.0

申请日：2005-09-20

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 谷口和隆 ,  上田邦夫

IPC: G01B11/30 ,  G01N21/88

Abstract: 一种不均检查装置(1)，检查涂敷在基板(9)上的抗蚀剂的浓淡不均，其对基板(9)的拍摄图像进行压缩后进行低通滤波处理，进而通过高通滤波部(4214)进行高通滤波处理。在高通滤波部(4214)，在高通窗口存在于边缘附近时，高通窗口被缩小从而避开成为滤波处理的像素值算出的对象的关注像素所属的区域以外的区域。这样，在不均检查装置(1)中，通过将利用于高通滤波处理的像素组限制为高通窗口内的像素、即实质上关注像素所属的区域内的像素，从而能提高边缘附近的不均检查的精度。

公开(公告)号：CN101159227A

公开(公告)日：2008-04-09

申请号：CN200710153187.9

申请日：2007-09-28

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 吉田武司

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/02 ,  H01L21/30 ,  H01L21/67 ,  B08B3/02 ,  G02F1/1333 ,  H01J9/00 ,  G03F1/00 ,  G11B7/26 ,  G11B5/84

CPC classification number: H01L21/67051 ,  H01L21/67017 ,  Y10S134/902

Abstract: 基板处理装置包括水平保持基板使其绕铅垂旋转轴线旋转的保持单元；对该单元保持的基板供给处理液的供给单元；第一引导部，围在保持单元周围，有沿旋转轴线延伸的上端部，引导处理液流下；第二引导部，位于第一引导部外侧并围着保持单元，有沿旋转轴线延伸并与第一引导部上端部重叠的上端部，引导处理液流下；第三引导部，位于第二引导部外侧并围着保持单元，有沿旋转轴线延伸并与第二引导部上端部重叠的上端部，引导处理液流下；第一回收槽，位于第一引导部外侧并与第一引导部一体，回收由第二引导部引导的处理液；第二回收槽，位于第一回收槽外侧并与第一引导部一体，回收由第三引导部引导的处理液；使各引导部分别独立升降的驱动机构。

公开(公告)号：CN100376867C

公开(公告)日：2008-03-26

申请号：CN200510084409.7

申请日：2005-07-15

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 藤原成章

IPC: G01B11/30

CPC classification number: G06T7/0004 ,  G06T2207/30141

Abstract: 本发明涉及检测形成在印刷电路板上的有机膜的膜检测装置、检验系统以及检验印刷电路板的方法。功能单元包括由计算机执行的数据处理部件和检测部件。数据处理部件接受输入，该输入包括通过对合格目标印刷电路板和样本印刷电路板的实验获得的阈值信息，以及用于识别检验区域以产生特征数据和检验区域数据的信息。检测部件参考检验区域数据，从而在构成关于待检验的印刷电路板的被捕捉图像数据的像素中，选择对应于检验区域的像素。然后，检测部件根据所选像素的像素值计算测定值，以将计算所得的测定值与包括在特征数据之中的阈值做比较，由此根据比较结果检测有机膜。本发明减少了在检验印刷电路板的有机膜期间操作员的负担，可实现高精确度的检验。

公开(公告)号：CN101145505A

公开(公告)日：2008-03-19

申请号：CN200710153720.1

申请日：2007-09-14

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 宫城雅宏 ,  佐藤雅伸 ,  荒木浩之

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/02 ,  H01L21/311 ,  H01L21/67

CPC classification number: H01L21/67051

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置和基板处理方法。基板处理装置(1)具有挡住从处理液供给部(3)供给而从基板(9)上飞溅出来的处理液的防溅罩(41)。防溅罩(41)由绝缘材料形成。对防溅罩(41)的外周面(411b)实施亲水化处理，在处理基板(9)时，将水保持在防溅罩(41)的外周面(411b)上。由此，不会因由特殊的导电材料形成防溅罩而大幅度地增加基板处理装置(1)的制造成本，能够利用保持在外周面(411b)上的水来抑制纯水飞溅时产生的防溅罩(41)的带电电位，其结果是，能够防止因基板(9)的感应带电而引起在向基板(9)供给处理液时在基板(9)上产生放电。

公开(公告)号：CN100375110C

公开(公告)日：2008-03-12

申请号：CN200510074603.7

申请日：2005-05-30

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 今村淳志 ,  佐野洋 ,  西原荣治 ,  盐见顺一

IPC: G06K9/34 ,  G06K9/46 ,  G06K9/62 ,  G01N21/88

CPC classification number: G06K9/2036 ,  G06T7/0006 ,  G06T7/90 ,  G06T2207/10152 ,  G06T2207/30141

Abstract: 本发明涉及一种用图像的区域分割获取物体的表面区域的配置的方法。在相互不同的多个照明条件下对物体进行拍摄，获取多个图像。通过对这些多个图像分别进行区域分割，获取与物体的表面区域的配置不同的多个图像区域配置。而且，基于多个图像区域配置，获取物体的表面区域的配置。

公开(公告)号：CN101136319A

公开(公告)日：2008-03-05

申请号：CN200710148563.5

申请日：2007-08-29

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 后藤友宏 ,  真田雅和 ,  茂森和士 ,  玉田修 ,  安田周一

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/027 ,  H01L21/30 ,  G03F7/30 ,  G03F1/00 ,  G02F1/1333 ,  G11B7/26

Abstract: 一种基板处理方法及装置，在从喷出喷嘴向基板表面喷出洗涤液的同时，使喷出喷嘴进行扫描而对基板进行旋转干燥时可消除显影缺陷等的产生。由旋转卡盘(10)将基板(W)保持为水平姿势，通过旋转马达(14)使基板(W)围绕铅垂轴旋转，在一边从纯水喷出喷嘴(20)的喷出口向基板(W)表面喷出洗涤液，一边使纯水喷出喷嘴(20)的喷出口从与基板(W)中心对峙的位置到与基板(W)周缘对峙的位置进行扫描时，使该喷嘴开始移动后，在基板(W)中心附近，在基板(W)上仅产生一个干燥芯作为形成干燥区域时的始点，防止在基板(W)中心附近产生两个以上的干燥芯。且使以该干燥芯为始点的干燥区域在基板(W)整个表面上扩展而使其干燥。

公开(公告)号：CN101131318A

公开(公告)日：2008-02-27

申请号：CN200710140995.1

申请日：2007-08-15

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 山口真二 ,  堀江正浩

IPC: G01B11/22

Abstract: 一种沟槽图案的深度的测定方法和测定装置，把在测定区域(93)形成有沿给定沟槽方向延伸的沟槽图案的基板(9)保持在保持部(21)上；光照明部(3)对基板(9)的测定区域(93)照射照明光，分光器(5)的衍射光栅(52)把来自测定区域(93)的照明光的反射光分光，从而取得测定分光反射率。此时在沟槽形状测定装置(1)中，以使对应于衍射光栅(52)的光栅方向的基板(9)上的方向与沟槽方向45度的状态来配置衍射光栅(52)，所以即使在因沟槽图案的影响而限定了来自基板(9)的反射光的振动方向的情况下，也不会受反射光的偏振光的影响而能正确地求得测定区域(93)的分光反射率，并能高精度地求出沟槽图案的深度。

公开(公告)号：CN101114578A

公开(公告)日：2008-01-30

申请号：CN200710137308.0

申请日：2007-07-20

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 山冈英人 ,  厨子卓哉 ,  芳谷光明

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/67 ,  H01L21/677 ,  H01L21/027 ,  H01L21/30 ,  H01L21/306 ,  G03F7/30

Abstract: 本发明提供一种在防止发生不均匀处理的同时进行高效率的基板处理的基板处理方法及基板处理装置。通过在显影处理室(3)中对水平姿态的基板供给显影液以实施显影处理后，在洗净处理室(4)对倾斜姿态的基板(S)供给洗净液以进行洗净处理。此时，显影处理后，使基板(S)在显影处理室(3)中从水平姿态向临时倾斜姿态(比适用于洗净处理的基板(S)的倾斜姿态的斜度小的姿态)变换，在该临时倾斜姿态的状态下，将基板(S)从显影处理室(3)输送到洗净处理室(4)。然后，在洗净处理室(4)中，将基板(S)的姿态从临时倾斜姿态变换为最终倾斜姿态，以进行洗净处理。

公开(公告)号：CN101101856A

公开(公告)日：2008-01-09

申请号：CN200710106687.7

申请日：2007-06-15

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 柿村崇

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/67 ,  H01L21/683 ,  H01L21/027 ,  H01L21/30 ,  G03F7/38

Abstract: 本发明提供一种可以防止基板下表面的污染和损伤并能够均匀地对基板的面内进行热处理的基板处理装置。基板处理装置(1)以非接触方式将基板(90)保持在基板保持板(12)上，并使基板(90)沿一个方向移动的同时进行加热处理。因此，支承销等部件不会与基板(90)的下表面相抵接，从而防止了基板的损伤或污染。另外，支承销等部件也不会使加热处理局部不均匀。此外，因为搬送基板(90)的同时进行加热处理，所以不管基板(90)的下表面侧的气流如何，都能够均匀地对基板(90)的面内进行热处理。