公开(公告)号：CN101114578B

公开(公告)日：2011-08-10

申请号：CN200710137308.0

申请日：2007-07-20

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 山冈英人 ,  厨子卓哉 ,  芳谷光明

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/67 ,  H01L21/677 ,  H01L21/027 ,  H01L21/30 ,  H01L21/306 ,  G03F7/30

Abstract: 本发明提供一种在防止发生不均匀处理的同时进行高效率的基板处理的基板处理方法及基板处理装置。通过在显影处理室(3)中对水平姿态的基板供给显影液以实施显影处理后，在洗净处理室(4)对倾斜姿态的基板(S)供给洗净液以进行洗净处理。此时，显影处理后，使基板(S)在显影处理室(3)中从水平姿态向临时倾斜姿态(比适用于洗净处理的基板(S)的倾斜姿态的斜度小的姿态)变换，在该临时倾斜姿态的状态下，将基板(S)从显影处理室(3)输送到洗净处理室(4)。然后，在洗净处理室(4)中，将基板(S)的姿态从临时倾斜姿态变换为最终倾斜姿态，以进行洗净处理。

公开(公告)号：CN100483618C

公开(公告)日：2009-04-29

申请号：CN200610164680.6

申请日：2006-12-15

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 芳谷光明

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/027 ,  H01L21/677 ,  G03F7/00 ,  G03F7/30

Abstract: 一种基板处理装置，是以水平状态在基板表面形成了处理液的液层之后、将基板变换为倾斜姿态的装置，能够用处理液对基板表面进行均匀地处理。当通过显影液供给喷嘴(22)将显影液供给到表面上的基板(S)被搬送辊(21、31)搬送到倾斜机构时，从显影液补充喷嘴(43)对利用倾斜机构而开始向倾斜姿态变换的基板(S)的上端部供给显影液。姿态变换后的基板被搬送辊(41)搬送到下一个工序的清洗室(5)。

公开(公告)号：CN1992158A

公开(公告)日：2007-07-04

申请号：CN200610164680.6

申请日：2006-12-15

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 芳谷光明

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/027 ,  H01L21/677 ,  G03F7/00 ,  G03F7/30

Abstract: 一种基板处理装置，是以水平状态在基板表面形成了处理液的液层之后、将基板变换为倾斜姿态的装置，能够用处理液对基板表面进行均匀地处理。当通过显影液供给喷嘴(22)将显影液供给到表面上的基板(S)被搬送辊(21、31)搬送到倾斜机构时，从显影液补充喷嘴(43)对利用倾斜机构而开始向倾斜姿态变换的基板(S)的上端部供给显影液。姿态变换后的基板被搬送辊(41)搬送到下一个工序的清洗室(5)。

公开(公告)号：CN101114578A

公开(公告)日：2008-01-30

申请号：CN200710137308.0

申请日：2007-07-20

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 山冈英人 ,  厨子卓哉 ,  芳谷光明

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/67 ,  H01L21/677 ,  H01L21/027 ,  H01L21/30 ,  H01L21/306 ,  G03F7/30

Abstract: 本发明提供一种在防止发生不均匀处理的同时进行高效率的基板处理的基板处理方法及基板处理装置。通过在显影处理室(3)中对水平姿态的基板供给显影液以实施显影处理后，在洗净处理室(4)对倾斜姿态的基板(S)供给洗净液以进行洗净处理。此时，显影处理后，使基板(S)在显影处理室(3)中从水平姿态向临时倾斜姿态(比适用于洗净处理的基板(S)的倾斜姿态的斜度小的姿态)变换，在该临时倾斜姿态的状态下，将基板(S)从显影处理室(3)输送到洗净处理室(4)。然后，在洗净处理室(4)中，将基板(S)的姿态从临时倾斜姿态变换为最终倾斜姿态，以进行洗净处理。