公开(公告)号：CN101114578B

公开(公告)日：2011-08-10

申请号：CN200710137308.0

申请日：2007-07-20

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 山冈英人 ,  厨子卓哉 ,  芳谷光明

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/67 ,  H01L21/677 ,  H01L21/027 ,  H01L21/30 ,  H01L21/306 ,  G03F7/30

Abstract: 本发明提供一种在防止发生不均匀处理的同时进行高效率的基板处理的基板处理方法及基板处理装置。通过在显影处理室(3)中对水平姿态的基板供给显影液以实施显影处理后，在洗净处理室(4)对倾斜姿态的基板(S)供给洗净液以进行洗净处理。此时，显影处理后，使基板(S)在显影处理室(3)中从水平姿态向临时倾斜姿态(比适用于洗净处理的基板(S)的倾斜姿态的斜度小的姿态)变换，在该临时倾斜姿态的状态下，将基板(S)从显影处理室(3)输送到洗净处理室(4)。然后，在洗净处理室(4)中，将基板(S)的姿态从临时倾斜姿态变换为最终倾斜姿态，以进行洗净处理。

公开(公告)号：CN101114578A

公开(公告)日：2008-01-30

申请号：CN200710137308.0

申请日：2007-07-20

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 山冈英人 ,  厨子卓哉 ,  芳谷光明

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/67 ,  H01L21/677 ,  H01L21/027 ,  H01L21/30 ,  H01L21/306 ,  G03F7/30

Abstract: 本发明提供一种在防止发生不均匀处理的同时进行高效率的基板处理的基板处理方法及基板处理装置。通过在显影处理室(3)中对水平姿态的基板供给显影液以实施显影处理后，在洗净处理室(4)对倾斜姿态的基板(S)供给洗净液以进行洗净处理。此时，显影处理后，使基板(S)在显影处理室(3)中从水平姿态向临时倾斜姿态(比适用于洗净处理的基板(S)的倾斜姿态的斜度小的姿态)变换，在该临时倾斜姿态的状态下，将基板(S)从显影处理室(3)输送到洗净处理室(4)。然后，在洗净处理室(4)中，将基板(S)的姿态从临时倾斜姿态变换为最终倾斜姿态，以进行洗净处理。