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公开(公告)号：CN101114577B
公开(公告)日：2011-07-27
申请号：CN200710137095.1
申请日：2007-07-24
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
CPC classification number: H01L21/67051 , H01L21/67225
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置，该基板处理装置具有接口区。另外，以与接口区相邻的方式配置有曝光装置。接口区包括第一以及第二清洗/干燥处理单元。在第一清洗/干燥处理单元中，对曝光处理之前的基板(W)进行清洗以及干燥处理，在第二清洗/干燥处理单元中，对曝光处理之后的基板(W)进行清洗以及干燥处理。
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公开(公告)号：CN101064240A
公开(公告)日：2007-10-31
申请号：CN200710101081.4
申请日：2007-04-26
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/027 , G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70925 , G03F7/70341 , G03F7/70533 , G03F7/7075 , G03F7/70916 , G03F7/70991
Abstract: 一种能降低在曝光装置内的载物台等机构的污染的基板处理方法、基板处理系统以及基板处理装置。将仿真基板向在曝光前后进行抗蚀剂涂布处理和显影处理的基板处理装置搬送，其中仿真基板在校准处理中使用，而该校准处理是在对应于液浸曝光的曝光单元中调整图案图像的曝光位置的处理。在基板处理装置中，将接受到的仿真基板表面和背面反转，然后将其搬送到背面清洗处理单元中执行背面清洗处理。其后再次将仿真基板表面和背面反转，然后将其搬送到表面清洗处理单元而执行表面清洗处理。清洗后的仿真基板再次从基板处理装置返回到曝光单元中。由于能够在曝光单元侧使用清洁的仿真基板执行校准处理，因此能够降低基板载物台等曝光单元内的机构的污染。
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公开(公告)号：CN101114577A
公开(公告)日：2008-01-30
申请号：CN200710137095.1
申请日：2007-07-24
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
CPC classification number: H01L21/67051 , H01L21/67225
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置，该基板处理装置具有接口区。另外，以与接口区相邻的方式配置有曝光装置。接口区包括第一以及第二清洗/干燥处理单元。在第一清洗/干燥处理单元中，对曝光处理之前的基板(W)进行清洗以及干燥处理，在第二清洗/干燥处理单元中，对曝光处理之后的基板(W)进行清洗以及干燥处理。
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公开(公告)号：CN1786829A
公开(公告)日：2006-06-14
申请号：CN200510129567.X
申请日：2005-12-06
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
IPC: G03F7/20 , H01L21/027 , G03F7/26
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置，其具有：分度器区、反射防止膜用处理区、抗蚀膜用处理区、显影处理区、清洗处理区以及接口区。以相邻于接口区的方式配置曝光装置。清洗处理区具有清洗处理部。在抗蚀膜用处理区中，在基板上形成抗蚀膜。在曝光装置中对基板进行曝光处理之前，在清洗处理部中进行基板的清洗以及干燥处理。
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公开(公告)号：CN101136319A
公开(公告)日：2008-03-05
申请号：CN200710148563.5
申请日：2007-08-29
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/027 , H01L21/30 , G03F7/30 , G03F1/00 , G02F1/1333 , G11B7/26
Abstract: 一种基板处理方法及装置，在从喷出喷嘴向基板表面喷出洗涤液的同时，使喷出喷嘴进行扫描而对基板进行旋转干燥时可消除显影缺陷等的产生。由旋转卡盘(10)将基板(W)保持为水平姿势，通过旋转马达(14)使基板(W)围绕铅垂轴旋转，在一边从纯水喷出喷嘴(20)的喷出口向基板(W)表面喷出洗涤液，一边使纯水喷出喷嘴(20)的喷出口从与基板(W)中心对峙的位置到与基板(W)周缘对峙的位置进行扫描时，使该喷嘴开始移动后，在基板(W)中心附近，在基板(W)上仅产生一个干燥芯作为形成干燥区域时的始点，防止在基板(W)中心附近产生两个以上的干燥芯。且使以该干燥芯为始点的干燥区域在基板(W)整个表面上扩展而使其干燥。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101013659A
公开(公告)日：2007-08-08
申请号：CN200710006705.4
申请日：2007-02-02
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/67 , H01L21/68 , H01L21/30 , H01L21/306
Abstract: 一种基板处理装置，具有：分度器区、反射防止膜用处理区、抗蚀膜用处理区、显影处理区、抗蚀盖膜用处理区、抗蚀盖膜除去区、清洗/干燥处理区以及接口区。以与基板处理装置的接口区相邻的方式配置有曝光装置。在曝光装置中，通过浸液法来进行基板的曝光处理。在清洗/干燥处理区的端部清洗单元中，清洗刷与旋转的基板的端部相抵接，来清洗曝光处理前的基板的端部。此时，修正基板的清洗位置。
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公开(公告)号：CN1812050A
公开(公告)日：2006-08-02
申请号：CN200510129565.0
申请日：2005-12-06
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/677 , G03F7/00
CPC classification number: G03F7/70991 , H01L21/67051 , H01L21/67173 , H01L21/67178
Abstract: 一种基板处理装置，具有分度器区、反射防止膜用处理区、抗蚀膜用处理区、显影处理区、浸液曝光用处理区以及接口区。以相邻于接口区的方式配置曝光装置。浸液曝光用处理区具有抗蚀剂盖膜用涂敷处理部以及抗蚀剂盖膜用除去处理部。在曝光处理之前，在浸液曝光用处理区形成抗蚀剂盖膜。在曝光处理之后，在浸液曝光用处理区除去抗蚀剂盖膜。
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公开(公告)号：CN1773674A
公开(公告)日：2006-05-17
申请号：CN200510120447.3
申请日：2005-11-10
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/677
CPC classification number: H01L21/67051 , G03F7/70341 , G03F7/70991 , H01L21/67028 , H01L21/67034 , Y10S414/135
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置以及基板处理方法，基板处理装置具有分度器部、反射防止膜用处理部、抗蚀膜用处理部、干燥/显影处理部以及接口部。曝光装置相邻于接口部而被配置。干燥/显影处理部具有干燥处理部。接口部具有接口用搬送机构。在曝光装置中对基板进行曝光处理之后，通过接口用搬送机构将基板搬送到干燥处理部。在干燥处理部对基板进行清洗以及干燥。
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公开(公告)号：CN1885160A
公开(公告)日：2006-12-27
申请号：CN200610093230.2
申请日：2006-06-23
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
CPC classification number: H01L21/02087 , G03F7/00 , G03F7/162 , G03F7/168 , G03F7/2041 , H01L21/67034 , H01L21/67051 , H01L21/6708 , H01L21/67173 , H01L21/67178 , H01L21/67225 , H01L21/67742 , Y10S134/902
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置。该基板处理装置具有：分度器模块、端部清洗处理模块、反射防止膜用处理模块、抗蚀膜用处理模块、显影处理模块、抗蚀覆盖膜用处理模块、抗蚀覆盖膜除去模块、清洗/干燥处理模块以及接口模块。相邻于基板处理装置的接口模块而配置有曝光装置。在曝光装置中，通过浸液法来进行对基板的曝光处理。在端部清洗模块的端部清洗处理部中，对曝光处理前的基板的端部进行清洗。
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公开(公告)号：CN1755525A
公开(公告)日：2006-04-05
申请号：CN200510106478.3
申请日：2005-09-26
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
Abstract: 本发明提供一种去除设备、保护膜成形设备、基板处理系统和去除方法，其中，涂布处理单元在形成有抗蚀膜的基板的表面上形成具有能溶解于碱水溶液中的成分的覆盖膜。该涂布处理单元能供应在显影处理单元中使用的显影剂，作为用于去除粘附于基板的周边的覆盖膜成分的去除剂。因此，可以在不影响抗蚀膜的情况下选择性地从基板的周边去除覆盖膜。
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