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公开(公告)号：CN101017332A
公开(公告)日：2007-08-15
申请号：CN200710006223.9
申请日：2007-02-07
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
IPC: G03F7/30 , G03F7/32 , G03F7/26 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/3021 , H01L21/67051 , H01L21/67253
Abstract: 本发明提供一种显影装置以及显影方法。将喷出显影液、漂洗液以及氮气的一体喷嘴配置在俯视状态下基板的旋转中心附近。控制部通过对电磁开闭阀进行操作，而在显影过程中使基板旋转的同时持续供给显影液，并在漂洗过程中结束显影液的供给之后即刻就开始漂洗液的供给，从而缩短显影过程的期间。另外，漂洗过程刚结束之后开始供给氮气，而移到干燥过程。由此，即使基板的接触角较大，也能抑制漂洗液的液滴的生成，来防止显影缺陷。
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公开(公告)号：CN1812050A
公开(公告)日：2006-08-02
申请号：CN200510129565.0
申请日：2005-12-06
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/677 , G03F7/00
CPC classification number: G03F7/70991 , H01L21/67051 , H01L21/67173 , H01L21/67178
Abstract: 一种基板处理装置，具有分度器区、反射防止膜用处理区、抗蚀膜用处理区、显影处理区、浸液曝光用处理区以及接口区。以相邻于接口区的方式配置曝光装置。浸液曝光用处理区具有抗蚀剂盖膜用涂敷处理部以及抗蚀剂盖膜用除去处理部。在曝光处理之前，在浸液曝光用处理区形成抗蚀剂盖膜。在曝光处理之后，在浸液曝光用处理区除去抗蚀剂盖膜。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1812049A
公开(公告)日：2006-08-02
申请号：CN200510129563.1
申请日：2005-12-06
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/677 , G03F7/00
Abstract: 本发明提供一种基本处理装置及基板处理方法，在向曝光装置搬送基板时，使用接口用搬送机构的上侧的手部，在搬送从曝光装置被搬出的基板时，使用接口用搬送机构的下侧的手部。在将由曝光装置的曝光处理后的基板搬送到干燥处理部时，使用第五中央机械手下侧的手部，在搬送从干燥处理部被搬出的干燥处理后的基板时，使用第五中央机械手上侧的手部。即，使用上侧的手部搬送未附着液体的基板，使用下侧的手部搬送附着了液体的基板。
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公开(公告)号：CN1786828A
公开(公告)日：2006-06-14
申请号：CN200510129566.5
申请日：2005-12-06
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
IPC: G03F7/20 , H01L21/027 , G03F7/38
Abstract: 基板处理装置具有：分度器模块、反射防止膜用处理模块、抗蚀膜用处理模块、洗涤/显影处理模块以及接口模块。以相邻于接口模块的方式配置曝光装置。在抗蚀膜用处理模块中，在基板上形成抗蚀膜。在曝光装置中对基板进行曝光处理之前，在洗涤/显影处理模块的洗涤处理单元中进行基板的洗涤以及干燥处理。
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公开(公告)号：CN1786827A
公开(公告)日：2006-06-14
申请号：CN200510129564.6
申请日：2005-12-06
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
IPC: G03F7/20 , H01L21/027 , G03F7/26
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置，其具有分度器区、反射防止膜用处理区、抗蚀膜用处理区、显影处理区、干燥处理区以及接口区。曝光装置以相邻于接口区的方式配置。干燥处理区具有干燥处理部。接口区具有接口用搬送机构。在曝光装置中对基板进行曝光处理之后，通过接口用搬送机构将基板搬送到干燥处理部。在干燥处理部对基板进行清洗以及干燥处理。
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公开(公告)号：CN101017332B
公开(公告)日：2010-05-26
申请号：CN200710006223.9
申请日：2007-02-07
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
IPC: G03F7/30 , G03F7/32 , G03F7/26 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/3021 , H01L21/67051 , H01L21/67253
Abstract: 本发明提供一种显影装置以及显影方法。将喷出显影液、漂洗液以及氮气的一体喷嘴配置在俯视状态下基板的旋转中心附近。控制部通过对电磁开闭阀进行操作，而在显影过程中使基板旋转的同时持续供给显影液，并在漂洗过程中结束显影液的供给之后即刻就开始漂洗液的供给，从而缩短显影过程的期间。另外，漂洗过程刚结束之后开始供给氮气，而移到干燥过程。由此，即使基板的接触角较大，也能抑制漂洗液的液滴的生成，来防止显影缺陷。
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公开(公告)号：CN1786829A
公开(公告)日：2006-06-14
申请号：CN200510129567.X
申请日：2005-12-06
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
IPC: G03F7/20 , H01L21/027 , G03F7/26
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置，其具有：分度器区、反射防止膜用处理区、抗蚀膜用处理区、显影处理区、清洗处理区以及接口区。以相邻于接口区的方式配置曝光装置。清洗处理区具有清洗处理部。在抗蚀膜用处理区中，在基板上形成抗蚀膜。在曝光装置中对基板进行曝光处理之前，在清洗处理部中进行基板的清洗以及干燥处理。
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