公开(公告)号：CN100536068C

公开(公告)日：2009-09-02

申请号：CN200710148563.5

申请日：2007-08-29

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 后藤友宏 ,  真田雅和 ,  茂森和士 ,  玉田修 ,  安田周一

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/027 ,  H01L21/30 ,  G03F7/30 ,  G03F1/00 ,  G02F1/1333 ,  G11B7/26

Abstract: 一种基板处理方法及装置，在从喷出喷嘴向基板表面喷出洗涤液的同时，使喷出喷嘴进行扫描而对基板进行旋转干燥时可消除显影缺陷等的产生。由旋转卡盘(10)将基板(W)保持为水平姿势，通过旋转马达(14)使基板(W)围绕铅垂轴旋转，在一边从纯水喷出喷嘴(20)的喷出口向基板(W)表面喷出洗涤液，一边使纯水喷出喷嘴(20)的喷出口从与基板(W)中心对峙的位置到与基板(W)周缘对峙的位置进行扫描时，使该喷嘴开始移动后，在基板(W)中心附近，在基板(W)上仅产生一个干燥芯作为形成干燥区域时的始点，防止在基板(W)中心附近产生两个以上的干燥芯。且使以该干燥芯为始点的干燥区域在基板(W)整个表面上扩展而使其干燥。

公开(公告)号：CN101075553B

公开(公告)日：2010-06-09

申请号：CN200710104103.2

申请日：2007-05-16

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 堀晋平 ,  真田雅和 ,  后藤友宏

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/027 ,  H01L21/3105 ,  H01L21/67 ,  G03F7/30 ,  B08B3/02

CPC classification number: B08B3/024 ,  H01L21/67051

Abstract: 本发明提供一种基板处理方法以及基板处理装置，在从喷出喷嘴向基板的表面喷出清洗液并使喷出喷嘴扫描而使基板旋转干燥时，能够抑制在基板周边部的液体飞溅，并能够防止由液体飞溅产生的液滴再次附着在基板上。由旋转卡盘(10)将基板(W)保持为水平姿势，而通过旋转马达(14)使基板(W)围绕铅垂轴旋转，并且，从纯水喷出喷嘴(20)的喷出口向基板的表面喷出清洗液的同时，使纯水喷出喷嘴的喷出口从与基板中心相对的位置扫描到与基板周边相对的位置，此时，在喷出喷嘴的喷出口从与基板中心相对的位置移动到与基板周边相对的位置的过程中，使基板的转速降低。

公开(公告)号：CN101136319A

公开(公告)日：2008-03-05

申请号：CN200710148563.5

申请日：2007-08-29

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 后藤友宏 ,  真田雅和 ,  茂森和士 ,  玉田修 ,  安田周一

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/027 ,  H01L21/30 ,  G03F7/30 ,  G03F1/00 ,  G02F1/1333 ,  G11B7/26

Abstract: 一种基板处理方法及装置，在从喷出喷嘴向基板表面喷出洗涤液的同时，使喷出喷嘴进行扫描而对基板进行旋转干燥时可消除显影缺陷等的产生。由旋转卡盘(10)将基板(W)保持为水平姿势，通过旋转马达(14)使基板(W)围绕铅垂轴旋转，在一边从纯水喷出喷嘴(20)的喷出口向基板(W)表面喷出洗涤液，一边使纯水喷出喷嘴(20)的喷出口从与基板(W)中心对峙的位置到与基板(W)周缘对峙的位置进行扫描时，使该喷嘴开始移动后，在基板(W)中心附近，在基板(W)上仅产生一个干燥芯作为形成干燥区域时的始点，防止在基板(W)中心附近产生两个以上的干燥芯。且使以该干燥芯为始点的干燥区域在基板(W)整个表面上扩展而使其干燥。

公开(公告)号：CN101075553A

公开(公告)日：2007-11-21

申请号：CN200710104103.2

申请日：2007-05-16

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 堀晋平 ,  真田雅和 ,  后藤友宏

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/027 ,  H01L21/3105 ,  H01L21/67 ,  G03F7/30 ,  B08B3/02

CPC classification number: B08B3/024 ,  H01L21/67051

Abstract: 本发明提供一种基板处理方法以及基板处理装置，在从喷出喷嘴向基板的表面喷出清洗液并使喷出喷嘴扫描而使基板旋转干燥时，能够抑制在基板周边部的液体飞溅，并能够防止由液体飞溅产生的液滴再次附着在基板上。由旋转卡盘(10)将基板(W)保持为水平姿势，而通过旋转马达(14)使基板(W)围绕铅垂轴旋转，并且，从纯水喷出喷嘴(20)的喷出口向基板的表面喷出清洗液的同时，使纯水喷出喷嘴的喷出口从与基板中心相对向的位置扫描到与基板周边相对向的位置，此时，在喷出喷嘴的喷出口从与基板中心相对向的位置移动到与基板周边相对向的位置的过程中，使基板的转速降低。