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公开(公告)号：CN100573039C
公开(公告)日：2009-12-23
申请号：CN200710140995.1
申请日：2007-08-15
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
IPC: G01B11/22
Abstract: 一种沟槽图案的深度的测定方法和测定装置，把在测定区域(93)形成有沿给定沟槽方向延伸的沟槽图案的基板(9)保持在保持部(21)上；光照明部(3)对基板(9)的测定区域(93)照射照明光，分光器(5)的衍射光栅(52)把来自测定区域(93)的照明光的反射光分光，从而取得测定分光反射率。此时在沟槽形状测定装置(1)中，以使对应于衍射光栅(52)的光栅方向的基板(9)上的方向与沟槽方向呈45度的状态来配置衍射光栅(52)，所以即使在因沟槽图案的影响而限定了来自基板(9)的反射光的振动方向的情况下，也不会受反射光的偏振光的影响而能正确地求得测定区域(93)的分光反射率，并能高精度地求出沟槽图案的深度。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101183656A
公开(公告)日：2008-05-21
申请号：CN200710170065.0
申请日：2007-11-09
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
Abstract: 应力测定装置(1)中，通过由遮光图案拍摄部(43)接收经由物镜(457)而照射至基板(9)上的光的反射光，从而得到配置于光学系统(45)的孔径光阑部(453)的遮光图案(453a)的像。在控制部(5)中，基于遮光图案拍摄部(43)的输出，求得多个倾斜矢量测定区域中的基板(9)的倾斜矢量以及基板(9)的表面形状，基于根据表面形状所求得的曲率半径、膜厚以及根据基板的厚度可求得膜内应力。在应力测定装置(1)中，由于来自物镜(457)的光在基板上大致成为平行光，故基板上的各倾斜矢量测定区域中能够不调焦而进行测定，从而能够容易且迅速地求得基板的表面形状。其结果，能够容易且迅速地求得基板(9)上膜内应力。
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公开(公告)号：CN100550335C
公开(公告)日：2009-10-14
申请号：CN200710170065.0
申请日：2007-11-09
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
Abstract: 应力测定装置(1)中，通过由遮光图案拍摄部(43)接收经由物镜(457)而照射至基板(9)上的光的反射光，从而得到配置于光学系统(45)的孔径光阑部(453)的遮光图案(453a)的像。在控制部(5)中，基于遮光图案拍摄部(43)的输出，求得多个倾斜矢量测定区域中的基板(9)的倾斜矢量以及基板(9)的表面形状，基于根据表面形状所求得的曲率半径、膜厚以及根据基板的厚度可求得膜内应力。在应力测定装置(1)中，由于来自物镜(457)的光在基板上大致成为平行光，故基板上的各倾斜矢量测定区域中能够不调焦而进行测定，从而能够容易且迅速地求得基板的表面形状。其结果，能够容易且迅速地求得基板(9)上膜内应力。
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公开(公告)号：CN101131318A
公开(公告)日：2008-02-27
申请号：CN200710140995.1
申请日：2007-08-15
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
IPC: G01B11/22
Abstract: 一种沟槽图案的深度的测定方法和测定装置，把在测定区域(93)形成有沿给定沟槽方向延伸的沟槽图案的基板(9)保持在保持部(21)上；光照明部(3)对基板(9)的测定区域(93)照射照明光，分光器(5)的衍射光栅(52)把来自测定区域(93)的照明光的反射光分光，从而取得测定分光反射率。此时在沟槽形状测定装置(1)中，以使对应于衍射光栅(52)的光栅方向的基板(9)上的方向与沟槽方向45度的状态来配置衍射光栅(52)，所以即使在因沟槽图案的影响而限定了来自基板(9)的反射光的振动方向的情况下，也不会受反射光的偏振光的影响而能正确地求得测定区域(93)的分光反射率，并能高精度地求出沟槽图案的深度。
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公开(公告)号：CN1226590C
公开(公告)日：2005-11-09
申请号：CN03160220.7
申请日：2003-09-27
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
CPC classification number: G01N21/211 , G01B11/168 , G01N21/9501
Abstract: 本发明提供薄膜厚度测量装置及反射系数测量装置和方法。薄膜厚度测量装置(1)包括：椭圆偏光计(3)，用于获取衬底(9)上薄膜的偏振状态；和光干涉单元(4)，用于获取衬底上薄膜的光谱强度。在光干涉单元的光学系统(45)中，光屏蔽光栅(453a)设置在孔径光阑元件(453)中，来自光源(41)的照明光通过光学系统发射至衬底。来自衬底(9)的反射光导引至光屏蔽光栅成像元件(43)，在此获取光屏蔽光栅的映像。当椭圆偏光计(3)进行薄膜厚度测量时，基于光屏蔽光栅的映像得出衬底的倾斜角，并且光接收单元(32)获得反射光的偏振状态。使用得到的倾斜角由反射光的偏振状态，计算部分(51)高精度地得出薄膜厚度。
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公开(公告)号：CN1502969A
公开(公告)日：2004-06-09
申请号：CN03160220.7
申请日：2003-09-27
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
CPC classification number: G01N21/211 , G01B11/168 , G01N21/9501
Abstract: 薄膜厚度测量装置(1)包括：椭圆偏光计(3)，用于获取衬底(9)上薄膜的偏振状态；和光干涉单元(4)，用于获取衬底(9)上薄膜的光谱强度。在光干涉单元(4)的光学系统(45)中，光屏蔽光栅(453a)设置在孔径光阑元件(453)中，来自光源(41)的照明光通过光学系统(45)发射至衬底(9)。来自衬底(9)的反射光导引至光屏蔽光栅成像元件(43)，在此获取光屏蔽光栅(453a)的映像。当椭圆偏光计(3)进行薄膜厚度测量时，基于光屏蔽光栅(453a)的映像得出衬底(9)的倾斜角，并且光接收单元(32)获得反射光的偏振状态。使用得到的倾斜角由反射光的偏振状态，计算部分(51)高精度地得出薄膜厚度。
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