-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1226590C
公开(公告)日：2005-11-09
申请号：CN03160220.7
申请日：2003-09-27
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
CPC classification number: G01N21/211 , G01B11/168 , G01N21/9501
Abstract: 本发明提供薄膜厚度测量装置及反射系数测量装置和方法。薄膜厚度测量装置(1)包括：椭圆偏光计(3)，用于获取衬底(9)上薄膜的偏振状态；和光干涉单元(4)，用于获取衬底上薄膜的光谱强度。在光干涉单元的光学系统(45)中，光屏蔽光栅(453a)设置在孔径光阑元件(453)中，来自光源(41)的照明光通过光学系统发射至衬底。来自衬底(9)的反射光导引至光屏蔽光栅成像元件(43)，在此获取光屏蔽光栅的映像。当椭圆偏光计(3)进行薄膜厚度测量时，基于光屏蔽光栅的映像得出衬底的倾斜角，并且光接收单元(32)获得反射光的偏振状态。使用得到的倾斜角由反射光的偏振状态，计算部分(51)高精度地得出薄膜厚度。
-
公开(公告)号：CN1502969A
公开(公告)日：2004-06-09
申请号：CN03160220.7
申请日：2003-09-27
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
CPC classification number: G01N21/211 , G01B11/168 , G01N21/9501
Abstract: 薄膜厚度测量装置(1)包括：椭圆偏光计(3)，用于获取衬底(9)上薄膜的偏振状态；和光干涉单元(4)，用于获取衬底(9)上薄膜的光谱强度。在光干涉单元(4)的光学系统(45)中，光屏蔽光栅(453a)设置在孔径光阑元件(453)中，来自光源(41)的照明光通过光学系统(45)发射至衬底(9)。来自衬底(9)的反射光导引至光屏蔽光栅成像元件(43)，在此获取光屏蔽光栅(453a)的映像。当椭圆偏光计(3)进行薄膜厚度测量时，基于光屏蔽光栅(453a)的映像得出衬底(9)的倾斜角，并且光接收单元(32)获得反射光的偏振状态。使用得到的倾斜角由反射光的偏振状态，计算部分(51)高精度地得出薄膜厚度。
-
公开(公告)号：CN101131545B
公开(公告)日：2011-04-20
申请号：CN200710142398.2
申请日：2007-08-22
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种即使不对对位摄像机使用高性能的驱动机构，在光照射部和对位摄像机的位置关系发生了变化时，也能够在基板上的正确的位置进行描画的图案描画装置以及对位方法。图案描画装置(1)检测出各对位摄像机(41～44)相对于从光学头(32)照射的脉冲光的相对位置的偏移量，并根据该偏移量来修正基板(9)的对位量以及基板(9)的描画开始位置。由此，即使从光学头(32)照射的脉冲光与各对位摄像机(41～44)的位置关系发生了变化，也可以在修正该变化量的同时进行描画处理。因此，图案描画装置(1)能够在基板(9)上的正确位置进行描画。
-
公开(公告)号：CN101187781A
公开(公告)日：2008-05-28
申请号：CN200710154365.X
申请日：2007-09-26
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
Abstract: 本发明提供一种能够缓解在扫描区域的连接点产生的不均的图形描绘装置。在该图形描绘装置中，通过向主扫描方向上的多次曝光扫描来进行图形描绘。在先行的曝光扫描和后续的曝光扫描之间，曝光头相对基板(9)在副扫描方向上相对移动的幅度(h)比一个扫描区域(As)在副扫描方向上的幅度(w)短。由此，通过先行的曝光扫描和后续的曝光扫描，使扫描区域As的一部分重复。因此，在毗邻的扫描区域As的连接点形成了实施过先行的曝光扫描和后续的曝光扫描两次曝光扫描的重复范围(B1)。在重复范围B1内，由于能够使曝光头两端部的不均匀特性的影响混匀平整，所以能够缓解在扫描区域As的连接点产生的不均。
-
公开(公告)号：CN101131545A
公开(公告)日：2008-02-27
申请号：CN200710142398.2
申请日：2007-08-22
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种即使不对对位摄像机使用高性能的驱动机构，在光照射部和对位摄像机的位置关系发生了变化时，也能够在基板上的正确的位置进行描画的图案描画装置以及对位方法。图案描画装置(1)检测出各对位摄像机(41～44)相对于从光学头(32)照射的脉冲光的相对位置的偏移量，并根据该偏移量来修正基板(9)的对位量以及基板(9)的描画开始位置。由此，即使从光学头(32)照射的脉冲光与各对位摄像机(41～44)的位置关系发生了变化，也可以在修正该变化量的同时进行描画处理。因此，图案描画装置(1)能够在基板(9)上的正确位置进行描画。
-
-
-
-
Search Results
5
records
(took 0.022 seconds)
