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公开(公告)号：CN100570486C
公开(公告)日：2009-12-16
申请号：CN200510004307.X
申请日：2005-01-14
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种图形描绘装置(1)，包括：保持基板(9)的平台单元(3)；在X方向上移动平台单元(3)的平台移动机构(2)；水银灯(512)；具有光闸开口的光闸；具有多个掩模组开口的掩模组；在X方向上移动光闸的X方向移动机构，扫描通过了光闸开口和掩模组开口的光被引导到的光照射区域而描绘图形。在图形描绘装置(1)中，在图形的描绘开始点附近和描绘结束点附近，按照与平台单元(3)的移动速度相等的移动速度，在X方向上移动光闸，改变光照射区域的长度，调整图形的端部的累积光量，使之与图形上的其他部位的累积光量相等。
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公开(公告)号：CN1573555A
公开(公告)日：2005-02-02
申请号：CN200410031310.6
申请日：2004-03-26
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
Inventor： 小八木康幸
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种图案绘制装置(1)，具有保持基板(9)的台(32)；将台(32)移动的台移动机构(2)；向基板(9)射出光的光射出部(51)；掩模部(52)，该掩模部(52)具有形成多个开口的第1掩模(53)和第2掩模(54)；光学组件(58)，该光学组件(58)对照射有通过掩模部(52)的光的基板(9)上的光照射区域进行放大、缩小。在该图案绘制装置(1)中，通过改变第1掩模(53)和第2掩模(54)的开口的重合部分、以及光学组件(58)的倍率，可容易改变所绘制的图案的宽度和间距，可以较高分辨率在基板(9)上的感光材料上高速地绘制条带状的图案。
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公开(公告)号：CN100395582C
公开(公告)日：2008-06-18
申请号：CN200510065570.X
申请日：2005-04-18
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
Inventor： 小八木康幸
IPC: G02B27/18 , G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 投影光学系统(6)包括把以焦点(P1)为中心的凹面镜(611)作为背面镜而形成的凹凸透镜612即第一反射镜构件(61)和把在基准点(P1)与第一反射镜构件(61)之间并大致以基准点(P1)为中心的凸面镜(621)作为背面镜而形成的凹凸透镜(622)即第二反射镜构件(62)。来自物体侧的光与中心轴(J1)平行地入射在第一反射镜构件(61)上被凹面镜(611)，凸面镜(621)、凹面镜(611)反射后被与中心轴(J1)平行地引导出后形成像。借此可以使在凹面镜与凸面镜之间反射3次的投影光学系统(6)中通过凹面镜(612、622)抑制像差。
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公开(公告)号：CN1784606A
公开(公告)日：2006-06-07
申请号：CN200480012573.0
申请日：2004-05-10
Applicant: 大日本网目版制造株式会社 , JSR株式会社
CPC classification number: G01R3/00 , G01R1/06716 , G01R1/07378
Abstract: 一种光制造装置(1)，包括：平台(2)，用于在其上固定基板(9)；送料部件(3)，用于将光敏材料送到基板(9)上；层形成部件(4)，用于均匀地涂布光敏材料以形成材料层；以及光发射部件(5)，用于将空间调制的光束发射到材料层上。光制造装置(1)通过重复材料的形成和发光，在基板9上以高的位置准确性并在很小的范围内形成大量的用于细探针的弹性显微结构并以极小的间隔排列这些显微结构。这些显微结构通过后面处理中的电镀而成为弹性探针。
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公开(公告)号：CN100419435C
公开(公告)日：2008-09-17
申请号：CN200480012573.0
申请日：2004-05-10
Applicant: 大日本网目版制造株式会社 , JSR株式会社
CPC classification number: G01R3/00 , G01R1/06716 , G01R1/07378
Abstract: 一种光制造装置(1)，包括：平台(2)，用于在其上固定基板(9)；送料部件(3)，用于将光敏材料送到基板(9)上；层形成部件(4)，用于均匀地涂布光敏材料以形成材料层；以及光发射部件(5)，用于将空间调制的光束发射到材料层上。光制造装置(1)通过重复材料的形成和发光，在基板9上以高的位置准确性并在很小的范围内形成大量的用于细探针的弹性显微结构并以极小的间隔排列这些显微结构。这些显微结构通过后面处理中的电镀而成为弹性探针。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1292312C
公开(公告)日：2006-12-27
申请号：CN200410031310.6
申请日：2004-03-26
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
Inventor： 小八木康幸
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种图案绘制装置(1)，具有保持基板(9)的台(32)；将台(32)移动的台移动机构(2)；向基板(9)射出光的光射出部(51)；掩模部(52)，该掩模部(52)具有形成多个开口的第1掩模(53)和第2掩模(54)；光学组件(58)，该光学组件(58)对照射有通过掩模部(52)的光的基板(9)上的光照射区域进行放大、缩小。在该图案绘制装置(1)中，通过改变第1掩模(53)和第2掩模(54)的开口的重合部分、以及光学组件(58)的倍率，可容易改变所绘制的图案的宽度和间距，可以较高分辨率在基板(9)上的感光材料上高速地绘制条带状的图案。
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公开(公告)号：CN101131545B
公开(公告)日：2011-04-20
申请号：CN200710142398.2
申请日：2007-08-22
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种即使不对对位摄像机使用高性能的驱动机构，在光照射部和对位摄像机的位置关系发生了变化时，也能够在基板上的正确的位置进行描画的图案描画装置以及对位方法。图案描画装置(1)检测出各对位摄像机(41～44)相对于从光学头(32)照射的脉冲光的相对位置的偏移量，并根据该偏移量来修正基板(9)的对位量以及基板(9)的描画开始位置。由此，即使从光学头(32)照射的脉冲光与各对位摄像机(41～44)的位置关系发生了变化，也可以在修正该变化量的同时进行描画处理。因此，图案描画装置(1)能够在基板(9)上的正确位置进行描画。
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公开(公告)号：CN101131545A
公开(公告)日：2008-02-27
申请号：CN200710142398.2
申请日：2007-08-22
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种即使不对对位摄像机使用高性能的驱动机构，在光照射部和对位摄像机的位置关系发生了变化时，也能够在基板上的正确的位置进行描画的图案描画装置以及对位方法。图案描画装置(1)检测出各对位摄像机(41～44)相对于从光学头(32)照射的脉冲光的相对位置的偏移量，并根据该偏移量来修正基板(9)的对位量以及基板(9)的描画开始位置。由此，即使从光学头(32)照射的脉冲光与各对位摄像机(41～44)的位置关系发生了变化，也可以在修正该变化量的同时进行描画处理。因此，图案描画装置(1)能够在基板(9)上的正确位置进行描画。
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公开(公告)号：CN1704797A
公开(公告)日：2005-12-07
申请号：CN200510065570.X
申请日：2005-04-18
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
Inventor： 小八木康幸
IPC: G02B27/18 , G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 投影光学系统(6)包括把以焦点(P1)为中心的凹面镜(611)作为背面镜而形成的凹凸透镜612即第一反射镜构件(61)和把在基准点(P1)与第一反射镜构件(61)之间并大致以基准点(P1)为中心的凸面镜(621)作为背面镜而形成的凹凸透镜(622)即第二反射镜构件(62)。来自物体侧的光与中心轴(J1)平行地入射在第一反射镜构件(61)上被凹面镜(611)，凸面镜(621)、凹面镜(611)反射后被与中心轴(J1)平行地引导出后形成像。借此可以使在凹面镜与凸面镜之间反射3次的投影光学系统(6)中通过凹面镜(612、622)抑制像差。
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公开(公告)号：CN101324760A
公开(公告)日：2008-12-17
申请号：CN200810109454.7
申请日：2008-06-12
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种描绘系统、描绘装置及描绘方法，其能够在多台描绘装置或多个描绘处理部中，使用来自一个光源的光同时进行描绘处理和其它处理，能够提高激光的工作率和基板的制造效率。描绘系统(100)将从激光振荡器(110)射出的脉冲光分割为主脉冲光和副脉冲光，将主脉冲光和副脉冲光交替分配给第一描绘装置(1a)和第二描绘装置(1b)。因此，能够在两台描绘装置(1a、1b)中，并行交替地进行使用了主脉冲光的描绘处理和使用了副脉冲光的校准处理。由此，能够提高激光振荡器(110)的工作率和基板(9)的制造效率。
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