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发明公开
描绘系统、描绘装置及描绘方法无效

公开(公告)号：CN101324760A

公开(公告)日：2008-12-17

申请号：CN200810109454.7

申请日：2008-06-12

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 雨森清忠 , 生藤邦夫 , 小八木康幸 , 小川秀明 , 安福孝次

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明提供一种描绘系统、描绘装置及描绘方法，其能够在多台描绘装置或多个描绘处理部中，使用来自一个光源的光同时进行描绘处理和其它处理，能够提高激光的工作率和基板的制造效率。描绘系统(100)将从激光振荡器(110)射出的脉冲光分割为主脉冲光和副脉冲光，将主脉冲光和副脉冲光交替分配给第一描绘装置(1a)和第二描绘装置(1b)。因此，能够在两台描绘装置(1a、1b)中，并行交替地进行使用了主脉冲光的描绘处理和使用了副脉冲光的校准处理。由此，能够提高激光振荡器(110)的工作率和基板(9)的制造效率。

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