公开(公告)号：CN101159227A

公开(公告)日：2008-04-09

申请号：CN200710153187.9

申请日：2007-09-28

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 吉田武司

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/02 ,  H01L21/30 ,  H01L21/67 ,  B08B3/02 ,  G02F1/1333 ,  H01J9/00 ,  G03F1/00 ,  G11B7/26 ,  G11B5/84

CPC classification number: H01L21/67051 ,  H01L21/67017 ,  Y10S134/902

Abstract: 基板处理装置包括水平保持基板使其绕铅垂旋转轴线旋转的保持单元；对该单元保持的基板供给处理液的供给单元；第一引导部，围在保持单元周围，有沿旋转轴线延伸的上端部，引导处理液流下；第二引导部，位于第一引导部外侧并围着保持单元，有沿旋转轴线延伸并与第一引导部上端部重叠的上端部，引导处理液流下；第三引导部，位于第二引导部外侧并围着保持单元，有沿旋转轴线延伸并与第二引导部上端部重叠的上端部，引导处理液流下；第一回收槽，位于第一引导部外侧并与第一引导部一体，回收由第二引导部引导的处理液；第二回收槽，位于第一回收槽外侧并与第一引导部一体，回收由第三引导部引导的处理液；使各引导部分别独立升降的驱动机构。

公开(公告)号：CN100361274C

公开(公告)日：2008-01-09

申请号：CN200510091979.9

申请日：2005-08-15

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 奥野英治 ,  吉田武司

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/68 ,  B08B3/02 ,  B05C11/00

CPC classification number: H01L21/68728 ,  H01L21/68778 ,  H01L21/68785 ,  H01L21/68792 ,  Y10S134/902 ,  Y10T279/17231 ,  Y10T279/18

Abstract: 本装置涉及保持基板并使其旋转的基板保持旋转装置。该装置包括：旋转基座，其与旋转轴连接，以该旋转轴为中心进行旋转；挟持构件，其安装于上述旋转基座上，可在与基板的周缘部接触而能够挟持基板的挟持位置和从该挟持位置退避开的退避位置之间进行位移；挟持构件驱动机构，其用于在上述挟持位置和退避位置之间驱动该挟持构件；旋转限制机构，其与该挟持构件驱动机构联动，而在允许上述旋转基座的旋转的旋转允许状态和限制上述旋转基座的旋转的旋转限制状态之间进行变换。

公开(公告)号：CN1750233A

公开(公告)日：2006-03-22

申请号：CN200510091979.9

申请日：2005-08-15

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 奥野英治 ,  吉田武司

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/68 ,  B08B3/02 ,  B05C11/00

CPC classification number: H01L21/68728 ,  H01L21/68778 ,  H01L21/68785 ,  H01L21/68792 ,  Y10S134/902 ,  Y10T279/17231 ,  Y10T279/18

Abstract: 本装置涉及保持基板并使其旋转的基板保持旋转装置。该装置包括：旋转基座，其与旋转轴连接，以该旋转轴为中心进行旋转；挟持构件，其安装于上述旋转基座上，可在与基板的周缘部接触而能够挟持基板的挟持位置和从该挟持位置退避开的退避位置之间进行位移；挟持构件驱动机构，其用于在上述挟持位置和退避位置之间驱动该挟持构件；旋转限制机构，其与该挟持构件驱动机构联动，而在允许上述旋转基座的旋转的旋转允许状态和限制上述旋转基座的旋转的旋转限制状态之间进行变换。

公开(公告)号：CN100521085C

公开(公告)日：2009-07-29

申请号：CN200710153187.9

申请日：2007-09-28

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 吉田武司

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/02 ,  H01L21/30 ,  H01L21/67 ,  B08B3/02 ,  G02F1/1333 ,  H01J9/00 ,  G03F1/00 ,  G11B7/26 ,  G11B5/84

CPC classification number: H01L21/67051 ,  H01L21/67017 ,  Y10S134/902

Abstract: 基板处理装置包括水平保持基板使其绕铅垂旋转轴线旋转的保持单元；对该单元保持的基板供给处理液的供给单元；第一引导部，围在保持单元周围，有沿旋转轴线延伸的上端部，引导处理液流下；第二引导部，位于第一引导部外侧并围着保持单元，有沿旋转轴线延伸并与第一引导部上端部重叠的上端部，引导处理液流下；第三引导部，位于第二引导部外侧并围着保持单元，有沿旋转轴线延伸并与第二引导部上端部重叠的上端部，引导处理液流下；第一回收槽，位于第一引导部外侧并与第一引导部一体，回收由第二引导部引导的处理液；第二回收槽，位于第一回收槽外侧并与第一引导部一体，回收由第三引导部引导的处理液；使各引导部分别独立升降的驱动机构。