公开(公告)号：CN107541705A

公开(公告)日：2018-01-05

申请号：CN201710495599.4

申请日：2017-06-26

Applicant: 威科仪器有限公司

Inventor： 波里斯·L·宙斯 ,  维克多·卡纳罗 ,  尤里·尼古拉·叶夫图霍夫 ,  山迪普·柯里 ,  方兴杰

IPC: C23C14/32 ,  C23C14/06 ,  H05H1/34

CPC classification number: C23C14/325 ,  C23C14/0605 ,  C23C14/0611 ,  C23C14/243 ,  C23C14/542 ,  C23C14/543 ,  C23C14/564 ,  H01J37/32055 ,  H01J37/32357 ,  H01J37/32568 ,  H01J37/32614 ,  H01J37/32633 ,  H01J37/3266

Abstract: 本申请涉及供电弧等离子体沉积用的增强式阴极电弧源。改进的阴极电弧源和DLC膜沉积方法，其中在圆柱形石墨空腔内部产生定向喷射的含碳等离子体流，所述空腔的深度约等于阴极直径。所产生的碳等离子体膨胀通过孔口进入周围真空中，引起等离子体流发生强烈的自收缩。所述方法代表了一种重复工艺，其包括两个步骤：上述等离子体产生/沉积步骤和与之交替的回收步骤。这个步骤可以通过使空腔内部的阴极棒向孔口方向移动来定期除去腔壁上所积聚的过量碳。所述阴极棒伸出而高于所述孔口，且移回到初始阴极尖端位置。所述步骤可以定期再现直到膜沉积至目标厚度为止。技术优点包括膜硬度、密度和透明度改进、再现性高、持续操作时间长和微粒减少。

公开(公告)号：CN105531395A

公开(公告)日：2016-04-27

申请号：CN201480048399.9

申请日：2014-08-13

Applicant: 株式会社神户制钢所

Inventor： 山本兼司

IPC: C23C14/06 ,  B23B27/14 ,  C23C14/32

CPC classification number: C23C14/22 ,  C04B35/58007 ,  C04B35/58021 ,  C04B35/581 ,  C23C14/0021 ,  C23C14/0664 ,  C23C14/325 ,  H01J37/32055 ,  H01J37/32614 ,  H01J37/32669

Abstract: 实现显示出优异的耐磨损性，并且在摩擦系数小的滑动环境下难以咬合，即润滑性优异的硬质皮膜。该硬质皮膜是组成式满足M1-a-bCaNb的皮膜，具有的特征在于，所述M由从Ti、Cr和Al所构成的组中选择的一种以上的元素构成，或者，由所述元素和从除去Ti的第4族元素、第5族元素、除去Cr的第6族元素、Si、Y和稀土类元素所构成的组中选择的一种以上的元素构成，所述M、C、N的原子比满足0.01≤a≤0.50，0.10≤b≤0.50和0＜1-a-b，并且，所述皮膜中的碳的全部键中所占的碳与碳的键比率y为0.20以上。

公开(公告)号：CN103668099A

公开(公告)日：2014-03-26

申请号：CN201310421921.0

申请日：2013-09-16

Applicant: 蒸汽技术公司

Inventor： V·戈罗霍夫斯基 ,  W·格兰特 ,  E·W·泰勒 ,  D·胡梅尼克 ,  K·邦度姆

IPC: C23C14/46 ,  C23C14/35 ,  C23C16/448

CPC classification number: H01J37/3438 ,  C23C14/0641 ,  C23C14/22 ,  C23C14/32 ,  C23C14/325 ,  C23C14/3471 ,  C23C14/3478 ,  C23C14/35 ,  C23C14/354 ,  C23C14/355 ,  H01J37/32055 ,  H01J37/32614 ,  H01J37/32917 ,  H01J37/32935 ,  H01J37/3405 ,  H01J37/3408 ,  H01J37/3417 ,  H01J49/12

Abstract: 本发明涉及一种涂布系统以及在该涂布系统中涂布基底的方法。该涂布系统包括真空腔室以及位于该真空腔室内的涂布组合件。该涂布组合件包括：蒸气源，该蒸气源将待涂布的材料提供到基底上；用于固持待涂布的基底的基底固持器，使得基底位于蒸气源的前方；阴极腔室组合件；以及远程阳极。该阴极腔室组合件包括阴极、可选的初级阳极以及屏蔽物，该屏蔽物将阴极与真空腔室隔离。该屏蔽物界定用于将电子发射电流从该极传输到真空腔室中的开口。该蒸气源位于阴极与远程阳极之间，而远程阳极耦合到阴极。该涂布系统还包括连接在阴极与初级阳极之间的初级电源以及连接在阴极腔室组合件与远程阳极之间的次级电源。

公开(公告)号：CN101405428A

公开(公告)日：2009-04-08

申请号：CN200780009961.7

申请日：2007-03-06

Applicant: 株式会社神户制钢所

Inventor： 藤井博文

IPC: C23C14/32

CPC classification number: C23C14/325 ,  C23C14/3407 ,  C23C14/351 ,  H01J37/32055 ,  H01J37/32614

Abstract: 本发明提供电弧离子镀方法以及该方法中使用的靶材，能够得到在被处理物的大致全长上均匀的膜厚分布、并且能够谋求提高靶材材料成品率和降低靶材制造成本。因此，在真空室(1)内配置至少能够分割为长度方向两端部(31)、(32)和其以外的中央部(33)的靶材(3)和被处理物。在保护膜形成时，控制靶材表面的电弧斑点位置以使长度方向两端部(31)、(32)的消耗速度比中央部(33)的消耗速度快，并且靶材(3)的中央部(33)达到消耗极限之前，在长度方向两端部(31)、(32)的至少一个达到消耗极限的时刻，仅交换该端部并继续进行膜的形成。

公开(公告)号：CN1494603A

公开(公告)日：2004-05-05

申请号：CN01823097.0

申请日：2001-03-27

Applicant: 特克尼克基业

Inventor： 霍苏·戈伊卡特克萨·拉里尼亚加

IPC: C23C14/35

CPC classification number: H01J37/32055 ,  C23C14/325 ,  H01J37/32614 ,  H01J37/3266

Abstract: 本发明涉及一种电弧蒸发器，包括一阳极(1)和一阴极或靶(2)并用于产生准备施加到真空室内需涂覆部分(10)的蒸发材料。本发明的蒸发器还包括一磁引导装置，用于确保电弧以均匀的方式在靶的整个表面上运动。所述磁引导装置包括两个独立的磁系统，其中第一磁系统由一组永磁体(3)构成，该永磁体设置在阴极或靶(2)的周边并且以如下方式设置成或多或少地与靶(2)共面，即其磁化强度要垂直于所述靶(2)的表面；第二磁系统由一电磁体(4－5)构成，该电磁体设置在靶(2)的后部并且与所述靶间隔开一距离地放置在蒸发器电绝缘主体(6)内，其中至少一个磁极设置成与上述靶(2)的表面相平行。这样，两个磁系统的结合作用就确保了靶(2)被均匀地使用或消耗，同时又提高了蒸发器的稳定性。

公开(公告)号：CN105308367A

公开(公告)日：2016-02-03

申请号：CN201480034311.8

申请日：2014-05-26

Applicant: 株式会社理研

Inventor： 辻胜启

IPC: F16J9/26 ,  C23C14/06 ,  C23C14/32 ,  F02F5/00

CPC classification number: F16J9/26 ,  C23C14/0605 ,  C23C14/225 ,  C23C14/226 ,  C23C14/325 ,  C23C14/505 ,  F02F5/00 ,  F16J9/28 ,  H01J37/32055 ,  H01J37/32614 ,  H01J37/32715

Abstract: 本发明的课题是，提供一种活塞环及其制造方法，对所述活塞环的外周面和侧面赋予不同的覆膜特性，能够在长期维持耐磨耗性的同时，抑制铝在所述活塞环与活塞环槽之间的粘着。解决方案是一种安装于铝合金制的活塞的、沿以Fe为主要成分的气缸套滑动的活塞环(10)，外周面(12a)和至少一个侧面(12b1、1262)形成有不含氢的硬质碳覆膜(3)，形成于外周面的硬质碳覆膜(3a)是没有柱状组织的覆膜，形成于侧面的硬质碳覆膜(3b)具有在与该侧面交叉的方向上伸展的柱状组织。

公开(公告)号：CN105164306A

公开(公告)日：2015-12-16

申请号：CN201480021672.9

申请日：2014-04-14

Applicant: 欧瑞康表面处理解决方案股份公司特鲁巴赫

Inventor： 科琳娜·萨比策 ,  耶格·保里契 ,  皮特·布尔西克 ,  保罗·H·迈尔霍菲尔 ,  理查德·哈赫鲍尔 ,  米利亚姆·阿恩特

IPC: C23C14/32 ,  H01J37/32

CPC classification number: C23C14/325 ,  C23C14/0641 ,  H01J37/32614 ,  H01J37/34

Abstract: 本发明涉及借助粉末冶金制造的靶的电弧蒸发，其中成分以金属间化合物的形式存在。为了靶制造而采用以下粉末，该粉末包含第一金属间化合物和第二金属间化合物和/或第一陶瓷化合物和第二陶瓷化合物。

公开(公告)号：CN105164305A

公开(公告)日：2015-12-16

申请号：CN201380076080.2

申请日：2013-04-30

Applicant: 日本ITF株式会社

Inventor： 冈崎尚登 ,  吉原健 ,  石塚浩 ,  松野知保 ,  楢原真司

IPC: C23C14/24

CPC classification number: H01J37/32055 ,  C23C14/325 ,  H01J37/32614 ,  H01J37/3266 ,  H01J37/32669 ,  H01J2237/327 ,  H01J2237/332

Abstract: 本发明提供一种电弧蒸发源，在真空中利用电弧放电使阴极材料熔解、蒸发而在基材表面成膜，包括形成为大致圆板形状的阴极、及配置于阴极的背面侧的磁场产生单元，磁场产生单元构成为如下，即，利用在阴极的背面以磁极朝向相对于阴极的放电面为20°～50°方向配置的至少一个永久磁铁而产生磁场，所述磁场在阴极的外周面形成相对于基材方向为锐角的磁力线、在阴极的放电面的最外周部形成相对于放电面大致垂直的磁力线、在阴极的放电面的靠外周面的部分形成相对于阴极的中心方向为锐角的磁力线，所述电弧蒸发源能够充分利用阴极的外周部，而能够显著提高阴极材料的利用效率。

公开(公告)号：CN103003467A

公开(公告)日：2013-03-27

申请号：CN201180022808.4

申请日：2011-05-06

Applicant: 弗吉尼亚大学专利基金会 ,  弗劳恩霍弗实用研究促进协会

Inventor： H.N.G.瓦德利 ,  G.马托施 ,  F-H.勒格纳 ,  B.舍费尔 ,  C.梅茨纳

IPC: C23C14/34 ,  C23C14/30 ,  C23C14/22 ,  C23C14/00

CPC classification number: C23C14/325 ,  C23C14/0021 ,  C23C14/228 ,  H01J37/3053 ,  H01J37/32055 ,  H01J37/3233 ,  H01J37/32357 ,  H01J37/32449 ,  H01J37/32568 ,  H01J37/32614 ,  H01J2237/006 ,  H01J2237/3137

Abstract: 一种等离子体辅助定向气相沉积工艺，其利用无污电弧定向气相沉积（SA-DVD）方法来在定向气相沉积设备中产生等离子体。通过电子或其他高强度定向能量束蒸发由被包含在水冷却坩埚中的一个或多个源材料产生蒸气。该蒸气被夹带在跨音速氦气或其他气体射流中并且被输运到基板用于沉积。用于蒸发的电子或其他定向能量束被同时用于电离所述蒸气和形成射流的气体（氦气，或其他包括惰性气体和反应气体的组合的气体）。被放置在电子束撞击位置附近的阳极吸引在定向能量束与靶表面的相互作用期间形成的散射电子，并使得能够形成密度高的等离子体。该等离子体首先朝向基板被夹带蒸气的气体射流通过离子拖拽机制输运。然而，如果基板是充分带电的（被电偏置），则等离子体离子被朝向基板静电加速，并且该额外的动量有助于在部件表面上的沉积和蒸气输运。

公开(公告)号：CN1332266A

公开(公告)日：2002-01-23

申请号：CN01122564.5

申请日：2001-07-06

Applicant: 日新电机株式会社

Inventor： 村上浩

IPC: C23C14/24 ,  C23C14/30

CPC classification number: H01J37/32055 ,  C23C14/325 ,  H01J37/32614

Abstract: 真空电弧蒸发源30通过真空电弧放电来蒸发阴极以便由此产生含有阴极材料的等离子体36和38。真空电弧蒸发源30具有含有互不相同的种类的材料并且互相电绝缘的两个阴极32和34。阴极32和34通过绝缘材料40互相同轴地配置。可交换地使用这两个阴极32和34,以便可以通过在数量上少于先有技术的蒸发源来形成包括多个异质薄膜的叠层薄膜。