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公开(公告)号：CN107012431A
公开(公告)日：2017-08-04
申请号：CN201710310386.X
申请日：2017-05-04
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥鑫晟光电科技有限公司
CPC分类号： C23C14/243 , C23C14/543
摘要： 本发明实施例提供一种蒸镀源、蒸镀装置及蒸镀方法，涉及真空蒸发镀膜领域，能够解决现有的掺杂蒸镀过程中，无法对同一膜层的多种蒸镀材料蒸发速率实时控制以实现膜层梯度掺杂的问题。包括至少两个相邻设置的子蒸镀源，每一个子蒸镀源包括有蒸镀坩埚以及设置在蒸镀坩埚上的蒸镀出口，在至少一个子蒸镀源的蒸镀出口覆盖有速率调节部件。速率调节部件包括透过区域，移动速率调节部件可调节透过区域与蒸镀出口的重合面积。
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公开(公告)号：CN102712994B
公开(公告)日：2014-08-20
申请号：CN201080060061.7
申请日：2010-12-24
申请人： 韩商SNU精密股份有限公司
IPC分类号： C23C14/24
CPC分类号： C23C16/4485 , B01D1/0017 , B01D1/0082 , C23C14/24 , C23C14/543 , C23C16/52
摘要： 本发明揭示一种汽化装置及其控制方法，包含：汽化坩埚（vaporization crucible），用以容置原料；汽化加热单元，用以藉由加热所述汽化坩埚而汽化所述原料；温度量测单元，用以量测所述汽化坩埚的温度；功率量测单元，用以量测所述汽化加热单元的施加功率；以及控制单元，用以根据所述温度量测单元的温度变化值与所述功率量测单元的功率变化值其中之任一者，控制所述原料的汽化量。所述汽化装置使用非接触式/电子方法，所述非接触式/电子方法藉由原料的汽化期间的温度变化值与功率变化值而量测汽化量。因此，因不同于接触式方法，汽化量量测单元并不直接接触原料气体，故可供应各种原料并可达成大量原料供应或长时间原料供应而不会使功能劣化。另外，因所述电子方法能够精确地量测汽化量，故可提高原料供应的精确度。
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公开(公告)号：CN102712994A
公开(公告)日：2012-10-03
申请号：CN201080060061.7
申请日：2010-12-24
申请人： 韩商SNU精密股份有限公司
IPC分类号： C23C14/24
CPC分类号： C23C16/4485 , B01D1/0017 , B01D1/0082 , C23C14/24 , C23C14/543 , C23C16/52
摘要： 本发明揭示一种汽化装置及其控制方法，包含：汽化坩埚（vaporization crucible），用以容置原料；汽化加热单元，用以藉由加热所述汽化坩埚而汽化所述原料；温度量测单元，用以量测所述汽化坩埚的温度；功率量测单元，用以量测所述汽化加热单元的施加功率；以及控制单元，用以根据所述温度量测单元的温度变化值与所述功率量测单元的功率变化值其中之任一者，控制所述原料的汽化量。所述汽化装置使用非接触式/电子方法，所述非接触式/电子方法藉由原料的汽化期间的温度变化值与功率变化值而量测汽化量。因此，因不同于接触式方法，汽化量量测单元并不直接接触原料气体，故可供应各种原料并可达成大量原料供应或长时间原料供应而不会使功能劣化。另外，因所述电子方法能够精确地量测汽化量，故可提高原料供应的精确度。
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公开(公告)号：CN1487116A
公开(公告)日：2004-04-07
申请号：CN03178764.9
申请日：2003-07-18
申请人： LG电子株式会社
CPC分类号： C23C14/12 , C23C14/243 , C23C14/543 , H01L51/56
摘要： 本发明提供了可以补偿加热装置与蒸镀材料表面之间的间隔变化的、用于形成有机场致发光膜的蒸镀源。包括：容器，由上部板、侧壁和底构件构成；加热装置，对蒸镀材料提供热量；以及移动装置，根据探测装置的信号进行工作，移动加热装置，加热装置借助于移动装置向下移动，使得加热装置与蒸镀材料表面之间的间隔维持初始设定值。探测装置和加热装置设置在上部板上，移动装置包括：多个缸筒，使上部板上下移动；以及控制装置，接收探测装置的信号，当上部板与蒸镀材料表面之间的间隔比设定的间隔大时，使缸筒工作，沿侧壁向下移动上部板。
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公开(公告)号：CN107236932A
公开(公告)日：2017-10-10
申请号：CN201710662320.7
申请日：2017-08-04
申请人： 京东方科技集团股份有限公司
发明人： 刘晓云
CPC分类号： C23C14/243 , C23C14/543
摘要： 本发明提供了一种坩埚装置及蒸镀设备，所述坩埚装置包括：用于盛放蒸镀材料的坩埚本体，所述坩埚本体上设有开口；设置于所述坩埚本体的开口所在一侧的加热单元；以及，移动单元，所述移动单元与所述坩埚本体连接，用于驱动所述坩埚本体在靠近所述加热单元或远离所述加热单元的方向上移动。本发明能够避免坩埚内材料受热不均，避免材料长时间加热而发生劣化现象，或者避免由于材料加热不均匀，导致材料消耗过程中出现蒸镀镀率波动的现象发生，同时能够达到加快降温速度的效果，进而减少设备空闲时间。
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公开(公告)号：CN107190237A
公开(公告)日：2017-09-22
申请号：CN201710495891.6
申请日：2017-06-26
申请人： 深圳市华星光电技术有限公司
发明人： 姜亮
CPC分类号： C23C14/26 , C23C14/543
摘要： 本发明公开了一种蒸发源加热系统，其特征在于，包括真空的加热容器、绕所述加热容器外周面设置的第一加热源以及设于所述加热容器内的均热层，所述均热层与所述加热容器内壁相对设置，以均匀传导所述加热容器内壁发出的热量。本发明通过在蒸发源加热系统的加热容器内设置有均热层，一方面避免了局部温度过高引起的材料裂解的风险，另一方面也提高了加热均匀性。另外，通过对加热容器内的均热层进行加热，大幅缩短了实现均匀加热所需的时间，也更方便实时控制系统的加热状态。
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公开(公告)号：CN106967958A
公开(公告)日：2017-07-21
申请号：CN201710338718.5
申请日：2017-05-15
申请人： 成都西沃克真空科技有限公司
IPC分类号： C23C14/54
CPC分类号： C23C14/543 , C23C14/546
摘要： 本发明公开了一种晶振探头用晶振盒，主要由盒体(1)，和设置在盒体(1)内的晶振台；其特征在于，所述晶振台为晶振台，该晶振台包括晶片承接台(2)，和与晶片承接台(2)相配合的三爪绝缘背板(3)。本发明的晶振台内设置了十二位晶片，通过转换位于检测孔的晶片便能对多种不同的靶材蒸发量进行检测，很好的解决了单片式晶片盒不能对多种靶材的蒸发量进行准确的检测的问题，从而有效的减小了操作者的工作量，很好的提高了晶振探头的工作效率。
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公开(公告)号：CN105714252A
公开(公告)日：2016-06-29
申请号：CN201610272054.2
申请日：2016-04-28
申请人： 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
CPC分类号： C23C14/30 , C23C14/54 , C23C14/543
摘要： 本发明实施例提供了一种光学薄膜沉积扫描控制方法及系统，属于光学薄膜沉积扫描控制技术领域。所述方法包括：光电探测器将采集到的预设扫描区域内镀膜材料在电子束光斑扫描下熔化或升华时发出的光信号转化为电信号发送到数据处理装置；数据处理装置根据接收到的电信号优化电子束镀膜设备的电子枪发出的电子束光斑在坩埚内的扫描轨迹；电子束镀膜设备控制电子束光斑在坩埚内以优化后的扫描轨迹扫描镀膜材料，以使镀膜材料蒸发或升华并沉积在待镀元件表面。本发明实施例有效地提高了镀膜材料蒸发速度的稳定性以及扫描完成后镀膜材料的表面平整度，相对于现有的经验式优化调整方法，可控性更好、效率更高。
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公开(公告)号：CN105441878A
公开(公告)日：2016-03-30
申请号：CN201610005830.2
申请日：2016-01-05
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥鑫晟光电科技有限公司
CPC分类号： C23C14/543 , C23C14/12 , C23C14/243 , C23C14/26 , C23C14/54 , C23C14/541
摘要： 本发明公开了一种用于蒸镀的加热装置和蒸镀设备，涉及显示装置制作领域，能够解决现有蒸镀设备加热不均，蒸镀材料易喷射、易发生性能劣化，蒸镀镀率调整时不宜稳定的问题。本发明提供的用于蒸镀的加热装置，包括：坩埚，用于盛装蒸镀原料；可移动加热单元，设置于所述坩埚的外部且蒸镀时高于蒸镀原料；称重传感装置，设置于所述坩埚的下方，用于称重所述坩埚及坩埚内蒸镀原料的重量并输出；控制器，用于接收所述称重传感装置的输出，根据所述坩埚及坩埚内蒸镀原料的重量计算所述坩埚内蒸镀原料的液位高度，并根据所述液位高度控制所述可移动加热单元到所述蒸镀原料的高度。
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公开(公告)号：CN101373602A
公开(公告)日：2009-02-25
申请号：CN200810089705.X
申请日：2008-03-26
申请人： 英特维公司
IPC分类号： G11B5/84
CPC分类号： G11B5/8408 , C23C14/12 , C23C14/543
摘要： 本发明提供了一种用于监测在硬磁盘上形成润滑剂涂层的润滑剂蒸气的质量流速的方法和设备。其中，润滑剂涂层作为润滑剂蒸气提供给位于盘和用于加热成蒸气的液体润滑剂贮液器之间的润滑剂蒸气流动道中的磁盘。该流动道包括贮液器和有孔扩散器之间的蒸气腔室。多个压电晶体在不同时间选择地监测流入蒸气腔室中的润滑剂蒸气的流速，这是由选择性地在蒸汽流入蒸气腔室的蒸气和晶体之间选择打开或关闭闸板达到的结果。可由用于维持晶体温度恒定的反馈设置补偿晶体的温度变化。
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