一种坩埚装置及蒸镀设备
摘要:
本发明提供了一种坩埚装置及蒸镀设备,所述坩埚装置包括:用于盛放蒸镀材料的坩埚本体,所述坩埚本体上设有开口;设置于所述坩埚本体的开口所在一侧的加热单元;以及,移动单元,所述移动单元与所述坩埚本体连接,用于驱动所述坩埚本体在靠近所述加热单元或远离所述加热单元的方向上移动。本发明能够避免坩埚内材料受热不均,避免材料长时间加热而发生劣化现象,或者避免由于材料加热不均匀,导致材料消耗过程中出现蒸镀镀率波动的现象发生,同时能够达到加快降温速度的效果,进而减少设备空闲时间。
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