公开(公告)号：CN104364873B

公开(公告)日：2017-06-13

申请号：CN201380030692.8

申请日：2013-06-11

Applicant: 诺伊维翁有限责任公司

Inventor： L·斯科多普洛娃

IPC: H01J3/02 ,  H01J37/077 ,  H01J37/34 ,  H01J37/32

CPC classification number: H01J37/3244 ,  C23C14/34 ,  H01J37/077 ,  H01J37/18 ,  H01J37/301 ,  H01J37/3053 ,  H01J37/315 ,  H01J37/34 ,  H01J2237/3137

Abstract: 一种用于生成等离子体并且用于使电子束指向靶(3)的设备(2；2'；2″；2IV；2V；2VI；2VII；2VIII)；该设备(2；2'；2″；2IV；2V；2VI；2VII；2VIII)包括中空元件(5)；激活组(21)，其被设计为以使电子束指向与中空元件分离的另一元件的方式在中空元件(5)和所述分离元件之间施加电势差；以及具有至少一个渐细部分(13)的拉伐尔喷嘴(23)，该渐细部分朝着所述分离元件逐渐变细并且被设计为朝着所述分离元件使气体流加速。

公开(公告)号：CN103003467B

公开(公告)日：2015-04-01

申请号：CN201180022808.4

申请日：2011-05-06

Applicant: 弗吉尼亚大学专利基金会 ,  弗劳恩霍弗实用研究促进协会

Inventor： H.N.G.瓦德利 ,  G.马托施 ,  F-H.勒格纳 ,  B.舍费尔 ,  C.梅茨纳

IPC: C23C14/34 ,  C23C14/30 ,  C23C14/22 ,  C23C14/00

CPC classification number: C23C14/325 ,  C23C14/0021 ,  C23C14/228 ,  H01J37/3053 ,  H01J37/32055 ,  H01J37/3233 ,  H01J37/32357 ,  H01J37/32449 ,  H01J37/32568 ,  H01J37/32614 ,  H01J2237/006 ,  H01J2237/3137

Abstract: 一种等离子体辅助定向气相沉积工艺，其利用无污电弧定向气相沉积（SA-DVD）方法来在定向气相沉积设备中产生等离子体。通过电子或其他高强度定向能量束蒸发由被包含在水冷却坩埚中的一个或多个源材料产生蒸气。该蒸气被夹带在跨音速氦气或其他气体射流中并且被输运到基板用于沉积。用于蒸发的电子或其他定向能量束被同时用于电离所述蒸气和形成射流的气体（氦气，或其他包括惰性气体和反应气体的组合的气体）。被放置在电子束撞击位置附近的阳极吸引在定向能量束与靶表面的相互作用期间形成的散射电子，并使得能够形成密度高的等离子体。该等离子体首先朝向基板被夹带蒸气的气体射流通过离子拖拽机制输运。然而，如果基板是充分带电的（被电偏置），则等离子体离子被朝向基板静电加速，并且该额外的动量有助于在部件表面上的沉积和蒸气输运。

公开(公告)号：CN101484966A

公开(公告)日：2009-07-15

申请号：CN200780025606.9

申请日：2007-06-28

Applicant: 弗劳恩霍弗实用研究促进协会

Inventor： G·马陶什 ,  H·弗拉斯克 ,  J·-S·利比格 ,  V·柯克霍夫 ,  J·-P·海因斯 ,  L·克洛斯

IPC: H01J37/147 ,  H01J37/305

CPC classification number: H01J37/3053 ,  C23C14/243 ,  C23C14/30 ,  H01J37/147 ,  H01J2237/3137

Abstract: 本发明涉及一种电子束蒸发装置，其包括真空加工室(2)、产生借此加热待蒸发物料(5)的电子束(7)的轴向电子枪(6)、和设置在物料(5)和待镀膜基材(3)之间的隔挡(9)，该隔挡具有至少一个蒸发孔(10)，物料蒸气穿过该蒸发孔到达该基材(3)，其中，该隔挡(9)包括磁系统(14)，借助该磁系统，该电子束(7)可经过蒸发孔(10)被转向待蒸发物料(5)。

公开(公告)号：CN101361154A

公开(公告)日：2009-02-04

申请号：CN200780001460.4

申请日：2007-09-18

Applicant: 住友电气工业株式会社

Inventor： 植田晓彦 ,  山本喜之 ,  西林良树 ,  今井贵浩

IPC: H01J9/02 ,  H01J1/304

CPC classification number: H01J1/3044 ,  H01J9/025 ,  H01J37/065 ,  H01J37/073 ,  H01J2201/30407 ,  H01J2201/30411 ,  H01J2201/30419 ,  H01J2201/30457 ,  H01J2237/06341 ,  H01J2237/26 ,  H01J2237/3137 ,  H01J2237/3146 ,  H01J2237/31749 ,  H01J2237/3175

Abstract: 一种金刚石电子源和制造该金刚石电子源的方法，在该金刚石电子源中，作为在电子显微镜或其他电子束装置中使用的电子发射点，单个尖锐末端形成在其尺寸使在微加工工序中难以进行抗蚀剂涂布的柱状金刚石单晶的一端。研磨柱状金刚石单晶(10)的一端，以形成光滑平面(11)，并且在光滑平面(11)上形成陶瓷层(12)。使用聚焦离子束装置，在陶瓷层(12)上沉积具有指定形状的薄膜层(14)，并在此之后使用薄膜层(14)作为掩模通过蚀刻来图案化陶瓷层(12)。使用得到的陶瓷掩模以通过干法蚀刻在柱状金刚石单晶(10)的一端处形成单个尖锐末端。

公开(公告)号：CN107231818A

公开(公告)日：2017-10-03

申请号：CN201580050192.X

申请日：2015-09-18

Applicant: 等离子体应用有限公司

Inventor： 德米特里·亚莫利奇

IPC: H01J3/02 ,  H01J37/32 ,  H01J37/34 ,  C23C14/32

CPC classification number: C23C14/30 ,  C23C14/32 ,  H01J3/025 ,  H01J37/32055 ,  H01J37/3233 ,  H01J37/32422 ,  H01J37/32449 ,  H01J37/32596 ,  H01J37/32816 ,  H01J37/34 ,  H01J37/3467 ,  H01J2237/06366 ,  H01J2237/3137 ,  H01J2237/332

Abstract: 一种虚拟阴极沉积装置，利用虚拟等离子体阴极产生高密度电子束以消融固体靶材。高压电脉冲电离气体产生的等离子体短时间出现在靶材前方，作为靶材附近的虚拟等离子体阴极。然后这种等离子体消失，允许被消融的靶材以等离子体羽流的形式流向衬底。多个虚拟阴极同时提供羽流以汇合成一个均匀的等离子体羽流，该等离子体羽流在附近的衬底上冷凝以导致大范围的均匀厚度薄膜的沉积。

公开(公告)号：CN101484966B

公开(公告)日：2012-05-30

申请号：CN200780025606.9

申请日：2007-06-28

Applicant: 弗劳恩霍弗实用研究促进协会

Inventor： G·马陶什 ,  H·弗拉斯克 ,  J·-S·利比格 ,  V·柯克霍夫 ,  J·-P·海因斯 ,  L·克洛斯

IPC: H01J37/147 ,  H01J37/305

CPC classification number: H01J37/3053 ,  C23C14/243 ,  C23C14/30 ,  H01J37/147 ,  H01J2237/3137

Abstract: 本发明涉及一种电子束蒸发装置，其包括真空加工室(2)、产生借此加热待蒸发物料(5)的电子束(7)的轴向电子枪(6)、和设置在物料(5)和待镀膜基材(3)之间的隔挡(9)，该隔挡具有至少一个蒸发孔(10)，物料蒸气穿过该蒸发孔到达该基材(3)，其中，该隔挡(9)包括磁系统(14)，借助该磁系统，该电子束(7)可经过蒸发孔(10)被转向待蒸发物料(5)。

公开(公告)号：CN1946869B

公开(公告)日：2011-09-14

申请号：CN200580012669.1

申请日：2005-01-24

Applicant: 株式会社昭和真空

Inventor： 泷本昌行 ,  小室弘之 ,  布施丰 ,  阿部辰弥 ,  青名端一仁

IPC: C23C14/24 ,  H01R39/00

CPC classification number: C23C14/505 ,  C23C14/32 ,  H01J37/023 ,  H01J37/24 ,  H01J37/3053 ,  H01J2237/024 ,  H01J2237/3137 ,  H01R39/381 ,  H01R39/64

Abstract: 改进排列在真空室内的旋转电极和接触该旋转电极以便向其提供电功率的电源装置间的接触状态。真空设备具有真空室、排列在真空室内并与真空室电绝缘的旋转电极，以及接触旋转电极以便向其提供电功率的电源装置，其中，旋转电极具有环形形状以及相对于环形形状的中心轴水平旋转，以及电源装置由电极构件组成，以及电极构件和旋转电极在至少一个接触面彼此接触。

公开(公告)号：CN1946869A

公开(公告)日：2007-04-11

申请号：CN200580012669.1

申请日：2005-01-24

Applicant: 株式会社昭和真空

Inventor： 泷本昌行 ,  小室弘之 ,  布施丰 ,  阿部辰弥 ,  青名端一仁

IPC: C23C14/24 ,  H01R39/00

CPC classification number: C23C14/505 ,  C23C14/32 ,  H01J37/023 ,  H01J37/24 ,  H01J37/3053 ,  H01J2237/024 ,  H01J2237/3137 ,  H01R39/381 ,  H01R39/64

Abstract: 改进排列在真空室内的旋转电极和接触该旋转电极以便向其提供电功率的电源装置间的接触状态。真空设备具有真空室、排列在真空室内并与真空室电绝缘的旋转电极，以及接触旋转电极以便向其提供电功率的电源装置，其中，旋转电极具有环形形状以及相对于环形形状的中心轴水平旋转，以及电源装置由电极构件组成，以及电极构件和旋转电极在至少一个接触面彼此接触。

公开(公告)号：CN1670253A

公开(公告)日：2005-09-21

申请号：CN200510068530.0

申请日：2005-03-19

Applicant: 联合工艺公司

Inventor： I·V·贝罗索夫 ,  A·I·库兹米切夫 ,  V·比伯 ,  R·L·梅门

IPC: C23C26/00 ,  C23C16/44 ,  C23C14/34

CPC classification number: C23C14/16 ,  B23P6/007 ,  C23C14/22 ,  C23C14/225 ,  C23C14/32 ,  C23C14/54 ,  C23C14/548 ,  F01D5/005 ,  F05D2230/313 ,  F05D2230/80 ,  H01J37/32935 ,  H01J37/34 ,  H01J2237/3137

Abstract: 为离子增强型物理汽相沉积增加溅射以沉积多组分材料。该工艺可用于沉积镀层和在Ti合金涡轮零件上沉积修复材料。该物理汽相沉积可以是离子增强型电子束物理汽相沉积。

公开(公告)号：CN107437489A

公开(公告)日：2017-12-05

申请号：CN201611243428.4

申请日：2016-12-29

Applicant: FEI ,  公司

Inventor： J.米特彻斯 ,  R.沙姆佩斯 ,  M.赫劳泽克 ,  T.加德卡

IPC: H01J37/26

CPC classification number: H01J37/3405 ,  C23C14/35 ,  H01J37/06 ,  H01J37/08 ,  H01J37/18 ,  H01J37/20 ,  H01J37/26 ,  H01J37/28 ,  H01J37/285 ,  H01J37/32623 ,  H01J37/3464 ,  H01J2237/3137 ,  H01J2237/26

Abstract: 一种带电粒子显微镜，包括真空室，在该真空室中提供了：—样本保持器，其用于将样本保持在照射位置；—粒子光学柱，其用于产生带电粒子束并引导该带电粒子束从而照射该样本；—检测器，其用于响应于被所述射束照射来检测从样本发出的辐射通量，其中：—所述真空室包括原位磁控管溅射沉积模块，其包括用于产生目标材料的蒸气流的磁控管溅射源；—载台被配置成使包括所述样本的至少一部分的样品在所述照射位置与所述沉积模块处的单独沉积位置之间移动；—所述沉积模块被配置成当所述样品被保持在所述沉积位置处时将一层所述目标材料沉积到所述样品上。