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公开(公告)号：CN101916050A
公开(公告)日：2010-12-15
申请号：CN201010249792.8
申请日：2005-06-23
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70933 , G03F7/70341 , G03F7/70808
Abstract: 本发明公开了一种光刻投影装置。该装置包括一配置成调节辐射光束的照射系统和一配置成支撑构图部件的支撑结构。该构图部件用于在辐射光束的横截面将图案赋予给辐射光束。该装置还包括一配置成保持基底的基底台，一配置成将带图案的光束投影到基底的靶部上的投影系统，以及一配置成将流体提供给一个容积的流体供给系统。该容积包括至少一部分投影系统和/或至少一部分照射系统。该装置还包括一配置成将流体供给系统连接到基底台、基底、支撑结构、构图部件、或其任何组合的连接部件。
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公开(公告)号：CN101916041A
公开(公告)日：2010-12-15
申请号：CN201010233655.5
申请日：2005-12-07
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： P·R·M·亨努斯 , J·J·S·M·梅坦斯 , P·J·C·H·斯穆德斯 , P·斯米特斯
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70341 , G03F7/707 , G03F7/70808 , G03F7/7085 , G03F7/709
Abstract: 一种湿浸式光刻法的光刻装置，其中在基底台的不同部件之间的密封可以布置成减小不同部件之间的力的传递。
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公开(公告)号：CN101872130A
公开(公告)日：2010-10-27
申请号：CN201010114018.6
申请日：2004-08-27
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： M·M·T·M·迪里奇斯 , S·N·L·当德斯 , J·H·W·贾科布斯 , H·詹森 , E·R·鲁普斯特拉 , J·J·S·M·梅坦斯 , M·K·斯塔文加 , B·斯特里克 , M·C·M·维哈根 , L·塞恩蒂恩斯-格鲁达
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70866 , B01D19/0031 , B01D61/025 , B01D61/24 , C02F1/04 , C02F1/20 , C02F1/28 , C02F1/283 , C02F1/32 , C02F1/42 , C02F1/441 , C02F2103/40 , G03F7/2041 , G03F7/70341
Abstract: 一种光刻投射装置，包括：用于提供辐射投射光束的辐射系统；用于支撑构图装置的支撑结构，所述构图装置用于根据所需的图案对投射光束进行构图；用于保持基底的基底台；用于将带图案的辐射光束投射到基底的目标部分上的投射系统；用于以浸液至少部分填充所述投射系统的最后元件和所述基底之间的空间的液体供给系统，所述液体供给系统包括用于净化所述浸液的液体净化器，其中所述液体净化器包括位于所述空间的上游并不与所述空间接触的脱气单元。
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公开(公告)号：CN101241316A
公开(公告)日：2008-08-13
申请号：CN200810081442.8
申请日：2005-12-01
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： J·J·M·巴塞曼斯 , S·N·L·多德斯 , C·A·霍根达姆 , J·J·S·M·梅坦斯 , J·C·H·穆肯斯 , B·斯特里克
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70341
Abstract: 公开了一种包括液体供给系统的浸入式光刻装置，该液体供给系统具有设置成可将液体供给到光刻装置的投影系统与衬底之间的空间中的入口，以及设置成可去除至少部分液体的出口，该液体供给系统设置成可使入口、出口或这两者围绕基本上垂直于衬底的曝光面的轴线旋转。
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公开(公告)号：CN1770018A
公开(公告)日：2006-05-10
申请号：CN200510114138.5
申请日：2005-10-18
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： J·J·S·M·梅坦斯 , S·N·L·多德斯 , R·F·德格拉夫 , C·A·胡根达姆 , A·J·范德内特 , F·J·H·M·特尼斯森 , P·A·J·廷内曼斯 , M·C·M·维哈根 , J·J·L·H·维斯帕 , E·A·M·范戈佩
CPC classification number: G03F7/70716 , G03F7/70341
Abstract: 光刻装置和器件制造方法公开了一种光刻装置，其包括配置成使用液体至少部分填充投影系统和基底之间的空间的液体供给系统，配置成去除液体和气体混合物的出口，所述液体和气体混合物流过液体供给系统的液体限制结构和基底之间的间隙，配置成通过所述出口排出混合物的排空系统，该排空系统包括布置成把混合物中的液体和气体分开的分离罐和分离罐压力控制器，该分离罐压力控制器与分离罐的非液体填充区相连，并配置成使非液体填充区保持稳定的压力。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1684001A
公开(公告)日：2005-10-19
申请号：CN200510064163.7
申请日：2005-04-13
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： A·Y·科勒斯恩臣科 , J·J·M·巴塞曼斯 , S·N·L·多纳斯 , C·A·胡根达姆 , H·詹森 , J·J·S·M·梅坦斯 , J·C·H·穆肯斯 , F·G·P·皮特斯 , B·斯特里科克 , F·J·H·M·特尤尼斯森 , H·范桑坦
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70341 , G03F7/70733 , G03F7/70866 , G03F7/70908
Abstract: 本发明公开一种湿浸式光刻装置的基底台，包括用于收集液体的隔板。该隔板环绕基底并与基底分隔开。按照这种方式，可以收集从供液系统溢出的任何液体，并降低光刻投影装置的精密部件受污染的危险。
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公开(公告)号：CN1591192A
公开(公告)日：2005-03-09
申请号：CN200410068266.6
申请日：2004-08-27
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： M·M·T·M·迪里奇斯 , S·N·L·当德斯 , J·H·W·贾科布斯 , H·詹森 , E·R·鲁普斯特拉 , J·J·S·M·梅坦斯 , M·K·斯塔文加 , B·斯特里克 , M·C·M·维哈根 , L·塞恩蒂恩斯-格鲁达
CPC classification number: G03F7/70866 , B01D19/0031 , B01D61/025 , B01D61/24 , C02F1/04 , C02F1/20 , C02F1/28 , C02F1/283 , C02F1/32 , C02F1/42 , C02F1/441 , C02F2103/40 , G03F7/2041 , G03F7/70341
Abstract: 在一种光刻投射装置中，液体供给系统在投射系统的最后元件和带有液体封闭系统的基底之间的空间保持液体。该液体供给系统还包括用于净化浸液的脱矿物质单元、蒸馏单元和UV照射源。为了抑制生命体生长，化学药品可以加到浸液中，并且液体供给系统的部件可以由对可见光非透明的材料制造，从而减少生命体的生长。
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公开(公告)号：CN1573564A
公开(公告)日：2005-02-02
申请号：CN200410047698.9
申请日：2004-06-09
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： J·洛夫 , H·布特勒 , S·N·L·当德斯 , A·科勒斯辰科 , E·R·鲁普斯特拉 , H·J·M·梅杰 , J·C·H·穆肯斯 , R·A·S·里特塞马 , F·范沙克 , T·F·森格斯 , K·西蒙 , J·T·德斯米特 , A·斯特拉艾杰 , B·斯特里科克 , E·T·M·比拉尔特 , C·A·胡根达姆 , H·范桑坦 , M·A·范德科霍夫 , M·克鲁恩 , A·J·登博夫 , J·J·奥坦斯 , J·J·S·M·梅坦斯
CPC classification number: G03F7/70141 , G03F7/70341 , G03F7/7085 , G03F7/70883
Abstract: 本发明公开了一种光刻投影装置，在该装置中投影系统的最后元件和传感器之间的空间填充有液体。
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公开(公告)号：CN101571677B
公开(公告)日：2012-11-21
申请号：CN200910134770.4
申请日：2009-04-22
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： R·D·沃森 , Y·J·L·M·凡达麦乐恩 , J·H·W·雅各布斯 , H·詹森 , M·H·A·里恩德尔斯 , J·J·S·M·梅坦斯 , P·P·斯汀贾尔特 , A·M·C·P·德琼 , J·M·W·范德温克尔 , J·P·达派兹赛纳 , M·M·J·范德李 , H·M·D·范里尔 , G·塔纳撒
CPC classification number: G03F7/70341 , G03F7/70925
Abstract: 本发明公开了一种光刻设备和运行光刻设备的方法，还公开了一种光刻投影设备，其包括清洁站。本发明公开了几个清洁站的实施例。在实施例中，采取了措施避免清洁流体与投影系统的最终元件接触。在实施例中，采取了措施避免清洁流体的起泡。本发明还公开了热隔离岛的使用以及其最佳位置。
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公开(公告)号：CN102147574A
公开(公告)日：2011-08-10
申请号：CN201110083335.0
申请日：2004-06-09
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： J·洛夫 , H·布特勒 , S·N·L·当德斯 , A·科勒斯辰科 , E·R·鲁普斯特拉 , H·J·M·梅杰 , J·C·H·穆肯斯 , R·A·S·里特塞马 , F·范沙克 , T·F·森格斯 , K·西蒙 , J·T·德斯米特 , A·斯特拉艾杰 , B·斯特里科克 , E·T·M·比拉尔特 , C·A·胡根达姆 , H·范桑坦 , M·A·范德科霍夫 , M·克鲁恩 , A·J·登博夫 , J·J·奥坦斯 , J·J·S·M·梅坦斯
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70141 , G03F7/70341 , G03F7/7085 , G03F7/70883
Abstract: 本发明公开了一种光刻装置和器件制造方法。在所述装置中，投影系统的最后元件和传感器之间的空间填充有液体。
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