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公开(公告)号：CN1702559B
公开(公告)日：2010-09-01
申请号：CN200510081730.X
申请日：2005-05-20
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： B·斯特里科克 , H·H·M·科西 , C·A·霍根达姆 , J·J·S·M·梅坦斯 , K·J·J·M·扎亚 , M·库佩鲁斯
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70341 , G03F7/70641 , G03F7/70783
Abstract: 一种湿浸式光刻装置，包括构型成在光刻装置的投影系统和基底之间的空间内容纳液体的液体供给系统构件，以及设置成补偿该液体供给系统构件与基底台之间的相互作用的液体供给系统构件补偿器。
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公开(公告)号：CN1702559A
公开(公告)日：2005-11-30
申请号：CN200510081730.X
申请日：2005-05-20
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： B·斯特里科克 , H·H·M·科西 , C·A·霍根达姆 , J·J·S·M·梅坦斯 , K·J·J·M·扎亚 , M·库佩鲁斯
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70341 , G03F7/70641 , G03F7/70783
Abstract: 一种湿浸式光刻装置，包括构型成在光刻装置的投影系统和基底之间的空间内容纳液体的液体供给系统构件，以及设置成补偿该液体供给系统构件与基底台之间的相互作用的液体供给系统构件补偿器。
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公开(公告)号：CN102147574A
公开(公告)日：2011-08-10
申请号：CN201110083335.0
申请日：2004-06-09
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： J·洛夫 , H·布特勒 , S·N·L·当德斯 , A·科勒斯辰科 , E·R·鲁普斯特拉 , H·J·M·梅杰 , J·C·H·穆肯斯 , R·A·S·里特塞马 , F·范沙克 , T·F·森格斯 , K·西蒙 , J·T·德斯米特 , A·斯特拉艾杰 , B·斯特里科克 , E·T·M·比拉尔特 , C·A·胡根达姆 , H·范桑坦 , M·A·范德科霍夫 , M·克鲁恩 , A·J·登博夫 , J·J·奥坦斯 , J·J·S·M·梅坦斯
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70141 , G03F7/70341 , G03F7/7085 , G03F7/70883
Abstract: 本发明公开了一种光刻装置和器件制造方法。在所述装置中，投影系统的最后元件和传感器之间的空间填充有液体。
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公开(公告)号：CN101881930A
公开(公告)日：2010-11-10
申请号：CN201010224595.0
申请日：2005-05-20
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： B·斯特里科克 , H·H·M·科西 , C·A·霍根达姆 , J·J·S·M·梅坦斯 , K·J·J·M·扎亚 , M·库佩鲁斯
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70341 , G03F7/70641 , G03F7/70783
Abstract: 本发明公开了一种光刻装置和器件制造方法。所述光刻装置包括构型成在光刻装置的投影系统和基底之间的空间内容纳液体的液体供给系统构件，以及设置成补偿该液体供给系统构件与基底台之间的相互作用的液体供给系统构件补偿器。
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公开(公告)号：CN1573564B
公开(公告)日：2011-05-18
申请号：CN200410047698.9
申请日：2004-06-09
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： J·洛夫 , H·布特勒 , S·N·L·当德斯 , A·科勒斯辰科 , E·R·鲁普斯特拉 , H·J·M·梅杰 , J·C·H·穆肯斯 , R·A·S·里特塞马 , F·范沙克 , T·F·森格斯 , K·西蒙 , J·T·德斯米特 , A·斯特拉艾杰 , B·斯特里科克 , E·T·M·比拉尔特 , C·A·胡根达姆 , H·范桑坦 , M·A·范德科霍夫 , M·克鲁恩 , A·J·登博夫 , J·J·奥坦斯 , J·J·S·M·梅坦斯
CPC classification number: G03F7/70141 , G03F7/70341 , G03F7/7085 , G03F7/70883
Abstract: 本发明公开了一种光刻投影装置，在该装置中投影系统的最后元件和传感器之间的空间填充有液体。
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公开(公告)号：CN1612051A
公开(公告)日：2005-05-04
申请号：CN200410087957.0
申请日：2004-10-27
Applicant: ASML荷兰有限公司 , 卡尔蔡司SMT股份公司
CPC classification number: G03F7/70341
Abstract: 将液体供给到投影系统的最后元件和基底之间的空间。朝真空室的气流可防止湿气逸出到投影装置的其它装置。这保护了光刻装置的复杂装置免受湿气的损坏。
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公开(公告)号：CN1684001A
公开(公告)日：2005-10-19
申请号：CN200510064163.7
申请日：2005-04-13
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： A·Y·科勒斯恩臣科 , J·J·M·巴塞曼斯 , S·N·L·多纳斯 , C·A·胡根达姆 , H·詹森 , J·J·S·M·梅坦斯 , J·C·H·穆肯斯 , F·G·P·皮特斯 , B·斯特里科克 , F·J·H·M·特尤尼斯森 , H·范桑坦
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70341 , G03F7/70733 , G03F7/70866 , G03F7/70908
Abstract: 本发明公开一种湿浸式光刻装置的基底台，包括用于收集液体的隔板。该隔板环绕基底并与基底分隔开。按照这种方式，可以收集从供液系统溢出的任何液体，并降低光刻投影装置的精密部件受污染的危险。
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公开(公告)号：CN1573564A
公开(公告)日：2005-02-02
申请号：CN200410047698.9
申请日：2004-06-09
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： J·洛夫 , H·布特勒 , S·N·L·当德斯 , A·科勒斯辰科 , E·R·鲁普斯特拉 , H·J·M·梅杰 , J·C·H·穆肯斯 , R·A·S·里特塞马 , F·范沙克 , T·F·森格斯 , K·西蒙 , J·T·德斯米特 , A·斯特拉艾杰 , B·斯特里科克 , E·T·M·比拉尔特 , C·A·胡根达姆 , H·范桑坦 , M·A·范德科霍夫 , M·克鲁恩 , A·J·登博夫 , J·J·奥坦斯 , J·J·S·M·梅坦斯
CPC classification number: G03F7/70141 , G03F7/70341 , G03F7/7085 , G03F7/70883
Abstract: 本发明公开了一种光刻投影装置，在该装置中投影系统的最后元件和传感器之间的空间填充有液体。
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公开(公告)号：CN102147574B
公开(公告)日：2013-10-09
申请号：CN201110083335.0
申请日：2004-06-09
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： J·洛夫 , H·布特勒 , S·N·L·当德斯 , A·科勒斯辰科 , E·R·鲁普斯特拉 , H·J·M·梅杰 , J·C·H·穆肯斯 , R·A·S·里特塞马 , F·范沙克 , T·F·森格斯 , K·西蒙 , J·T·德斯米特 , A·斯特拉艾杰 , B·斯特里科克 , E·T·M·比拉尔特 , C·A·胡根达姆 , H·范桑坦 , M·A·范德科霍夫 , M·克鲁恩 , A·J·登博夫 , J·J·奥坦斯 , J·J·S·M·梅坦斯
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70141 , G03F7/70341 , G03F7/7085 , G03F7/70883
Abstract: 本发明公开了一种光刻装置和器件制造方法。在所述装置中，投影系统的最后元件和传感器之间的空间填充有液体。
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公开(公告)号：CN101520611B
公开(公告)日：2013-06-05
申请号：CN200910133537.4
申请日：2005-04-13
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： A·Y·科勒斯恩臣科 , J·J·M·巴塞曼斯 , S·N·L·多纳斯 , C·A·胡根达姆 , H·詹森 , J·J·S·M·梅坦斯 , J·C·H·穆肯斯 , F·G·P·皮特斯 , B·斯特里科克 , F·J·H·M·特尤尼斯森 , H·范桑坦
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70341 , G03F7/70733 , G03F7/70866 , G03F7/70908
Abstract: 本发明公开一种湿浸式光刻装置的基底台，包括用于收集液体的阻挡构件。该阻挡构件环绕基底并与基底分隔开。按照这种方式，可以收集从供液系统溢出的任何液体，并降低光刻投影装置的精密部件受污染的危险。
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