-
公开(公告)号：CN100526987C
公开(公告)日：2009-08-12
申请号：CN200510093924.1
申请日：2005-08-18
Applicant: ASML荷兰有限公司 , ASML控股股份有限公司
Inventor： N·R·肯佩 , H·H·M·科西 , S·N·L·多德斯 , R·F·德格拉附 , C·A·胡根达姆 , N·坦卡特 , J·J·S·M·梅坦斯 , F·范德穆伦 , F·J·H·M·特尤尼斯森 , J·-G·C·范德图尔恩 , M·C·M·维哈根 , S·P·C·贝弗罗恩德 , J·P·M·斯穆勒斯 , H·弗戈
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70883 , G03F7/70341 , G03F7/70858 , G03F7/70866 , G03F7/7095
Abstract: 一种光刻投影装置，其设置成使用投影系统来将图案从图案形成装置投射到衬底上，具有设置成可将液体供给到所述投影系统与衬底之间的空间中的液体供给系统，还包括液体去除系统，所述液体去除系统包括：具有与存在有液体的体积相邻的敞开端的导管；位于所述导管的端部与所述体积之间的多孔件；设置成可在所述多孔件上形成压力差的抽吸装置；和至少部分地围绕着所述空间的构件，所述导管包括处于所述构件的朝向衬底的表面中的凹部，所述多孔件封闭了所述凹部，所述多孔件具有直径处于5至50微米的范围内的孔。本发明还提供了一种器件制造方法。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1737690A
公开(公告)日：2006-02-22
申请号：CN200510093924.1
申请日：2005-08-18
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： N·R·肯佩 , H·H·M·科西 , S·N·L·多德斯 , R·F·德格拉附 , C·A·胡根达姆 , N·坦卡特 , J·J·S·M·梅坦斯 , F·范德穆伦 , F·J·H·M·特尤尼斯森 , J·-G·C·范德图尔恩 , M·C·M·维哈根 , S·P·C·贝弗罗恩德 , J·P·M·斯穆勒斯
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70883 , G03F7/70341 , G03F7/70858 , G03F7/70866 , G03F7/7095
Abstract: 一种用于浸入式光刻投影装置中的液体去除系统中的多孔件，其可整平不均匀的流动。可在多孔件的沸腾点之下在多孔件上保持压力差，使得可得到单相液流。或者，可采用多孔件来减少两相流动中的不均匀性。
-
公开(公告)号：CN1684001A
公开(公告)日：2005-10-19
申请号：CN200510064163.7
申请日：2005-04-13
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： A·Y·科勒斯恩臣科 , J·J·M·巴塞曼斯 , S·N·L·多纳斯 , C·A·胡根达姆 , H·詹森 , J·J·S·M·梅坦斯 , J·C·H·穆肯斯 , F·G·P·皮特斯 , B·斯特里科克 , F·J·H·M·特尤尼斯森 , H·范桑坦
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70341 , G03F7/70733 , G03F7/70866 , G03F7/70908
Abstract: 本发明公开一种湿浸式光刻装置的基底台，包括用于收集液体的隔板。该隔板环绕基底并与基底分隔开。按照这种方式，可以收集从供液系统溢出的任何液体，并降低光刻投影装置的精密部件受污染的危险。
-
公开(公告)号：CN101520611B
公开(公告)日：2013-06-05
申请号：CN200910133537.4
申请日：2005-04-13
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： A·Y·科勒斯恩臣科 , J·J·M·巴塞曼斯 , S·N·L·多纳斯 , C·A·胡根达姆 , H·詹森 , J·J·S·M·梅坦斯 , J·C·H·穆肯斯 , F·G·P·皮特斯 , B·斯特里科克 , F·J·H·M·特尤尼斯森 , H·范桑坦
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70341 , G03F7/70733 , G03F7/70866 , G03F7/70908
Abstract: 本发明公开一种湿浸式光刻装置的基底台，包括用于收集液体的阻挡构件。该阻挡构件环绕基底并与基底分隔开。按照这种方式，可以收集从供液系统溢出的任何液体，并降低光刻投影装置的精密部件受污染的危险。
-
公开(公告)号：CN101520611A
公开(公告)日：2009-09-02
申请号：CN200910133537.4
申请日：2005-04-13
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： A·Y·科勒斯恩臣科 , J·J·M·巴塞曼斯 , S·N·L·多纳斯 , C·A·胡根达姆 , H·詹森 , J·J·S·M·梅坦斯 , J·C·H·穆肯斯 , F·G·P·皮特斯 , B·斯特里科克 , F·J·H·M·特尤尼斯森 , H·范桑坦
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70341 , G03F7/70733 , G03F7/70866 , G03F7/70908
Abstract: 本发明公开一种湿浸式光刻装置的基底台，包括用于收集液体的阻挡构件。该阻挡构件环绕基底并与基底分隔开。按照这种方式，可以收集从供液系统溢出的任何液体，并降低光刻投影装置的精密部件受污染的危险。
-
公开(公告)号：CN100495214C
公开(公告)日：2009-06-03
申请号：CN200510064163.7
申请日：2005-04-13
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： A·Y·科勒斯恩臣科 , J·J·M·巴塞曼斯 , S·N·L·多纳斯 , C·A·胡根达姆 , H·詹森 , J·J·S·M·梅坦斯 , J·C·H·穆肯斯 , F·G·P·皮特斯 , B·斯特里科克 , F·J·H·M·特尤尼斯森 , H·范桑坦
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70341 , G03F7/70733 , G03F7/70866 , G03F7/70908
Abstract: 本发明公开一种湿浸式光刻装置的基底台，包括用于收集液体的隔板。该隔板环绕基底并与基底分隔开。按照这种方式，可以收集从供液系统溢出的任何液体，并降低光刻投影装置的精密部件受污染的危险。
-
-
-
-
-
Search Results
6
records
(took 0.022 seconds)
