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公开(公告)号:CN1501175A
公开(公告)日:2004-06-02
申请号:CN200310123328.4
申请日:2003-11-11
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor: J·洛夫 , E·T·M·比拉亚尔特 , H·布特勒 , S·N·L·唐德斯 , C·A·胡格达姆 , A·科勒斯伊辰科 , E·R·鲁普斯特拉 , H·J·M·梅杰 , J·J·S·M·默顿斯 , J·C·H·穆肯斯 , R·A·S·里特塞马 , F·范沙克 , T·F·森格斯 , K·西蒙 , J·T·德斯米特 , A·斯特拉艾杰 , B·斯特里夫克 , H·范桑坦
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70341 , G03F7/707 , G03F7/7085 , G03F7/70866
Abstract: 公开了一种在投射系统最终元件与基底之间的空间充满液体的光刻投射装置。边缘密封构件17、117至少部分地环绕基底W或其它在基底台WT上的物体以防止当基底的边缘部分被成像或照射时毁灭性的液体损失。
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公开(公告)号:CN101713932A
公开(公告)日:2010-05-26
申请号:CN200910206096.6
申请日:2003-11-11
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor: J·洛夫 , E·T·M·比拉亚尔特 , H·布特勒 , S·N·L·唐德斯 , C·A·胡格达姆 , A·科勒斯伊辰科 , E·R·鲁普斯特拉 , H·J·M·梅杰 , J·J·S·M·默顿斯 , J·C·H·穆肯斯 , R·A·S·里特塞马 , F·范沙克 , T·F·森格斯 , K·西蒙 , J·T·德斯米特 , A·斯特拉艾杰 , B·斯特里夫克 , H·范桑坦
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70341 , G03F7/707 , G03F7/7085 , G03F7/70866
Abstract: 本发明提供一种光刻装置和器件制造方法,其中光刻装置包括:用于支撑构图部件的支撑结构,构图部件用于根据理想的图案对辐射光束进行构图;用于保持基底的基底台;用于将带图案的光束投射到基底的靶部上的投射系统;以及用于用液体至少部分填充投射系统与基底、或与放置在基底台上的传感器、或者与基底和传感器两者之间的空间的液体供给系统;其中,基底台还包括边缘密封构件,边缘密封构件至少部分环绕基底的边缘、或传感器的边缘、或者基底和传感器两者的边缘,并且用于提供面向投射系统基本上与基底、或传感器、或基底和传感器两者的主表面共面的主表面,其中液体供给系统向传感器和/或边缘密封构件和/或基底的局部区域提供液体。
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公开(公告)号:CN1684001A
公开(公告)日:2005-10-19
申请号:CN200510064163.7
申请日:2005-04-13
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor: A·Y·科勒斯恩臣科 , J·J·M·巴塞曼斯 , S·N·L·多纳斯 , C·A·胡根达姆 , H·詹森 , J·J·S·M·梅坦斯 , J·C·H·穆肯斯 , F·G·P·皮特斯 , B·斯特里科克 , F·J·H·M·特尤尼斯森 , H·范桑坦
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70341 , G03F7/70733 , G03F7/70866 , G03F7/70908
Abstract: 本发明公开一种湿浸式光刻装置的基底台,包括用于收集液体的隔板。该隔板环绕基底并与基底分隔开。按照这种方式,可以收集从供液系统溢出的任何液体,并降低光刻投影装置的精密部件受污染的危险。
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公开(公告)号:CN1573564A
公开(公告)日:2005-02-02
申请号:CN200410047698.9
申请日:2004-06-09
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor: J·洛夫 , H·布特勒 , S·N·L·当德斯 , A·科勒斯辰科 , E·R·鲁普斯特拉 , H·J·M·梅杰 , J·C·H·穆肯斯 , R·A·S·里特塞马 , F·范沙克 , T·F·森格斯 , K·西蒙 , J·T·德斯米特 , A·斯特拉艾杰 , B·斯特里科克 , E·T·M·比拉尔特 , C·A·胡根达姆 , H·范桑坦 , M·A·范德科霍夫 , M·克鲁恩 , A·J·登博夫 , J·J·奥坦斯 , J·J·S·M·梅坦斯
CPC classification number: G03F7/70141 , G03F7/70341 , G03F7/7085 , G03F7/70883
Abstract: 本发明公开了一种光刻投影装置,在该装置中投影系统的最后元件和传感器之间的空间填充有液体。
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公开(公告)号:CN101604122B
公开(公告)日:2012-01-04
申请号:CN200910140165.8
申请日:2004-06-25
Applicant: ASML荷兰有限公司
CPC classification number: G03F7/709 , G03F7/70341
Abstract: 一种光刻投影装置,其中液体供给系统向投影系统(PL)的最后元件和基底W间的空隙(2)提供液体。该液体供给系统包括密封构件(4)。采用从密封构件入口(6)到密封构件出口(8)的液流形成液体密封。
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公开(公告)号:CN101424881B
公开(公告)日:2011-11-30
申请号:CN200810168967.5
申请日:2003-11-11
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor: J·洛夫 , A·T·A·M·德克森 , C·A·胡根达姆 , A·科勒斯伊辰科 , E·R·鲁普斯特拉 , T·M·默德曼 , J·C·H·穆肯斯 , R·A·S·里特塞马 , K·西蒙 , J·T·德斯米特 , A·斯特拉艾杰 , B·斯特里夫克 , H·范桑坦
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F9/7088 , G03F7/70341 , G03F7/707 , G03F7/7085
Abstract: 一种光刻投射装置,包括:用于提供辐射投射光束的辐射系统;用于支撑构图部件的支撑结构,所述构图部件用于根据理想的图案对投射光束进行构图;用于保持基底的基底台;用于将带图案的光束投射到基底的靶部上的投射系统;用于至少部分地将所述投射系统末端元件和所述基底之间的间隙填充液体的液体供给系统所述间隙通过输送管与贮液器以液体方式连接,并且在垂直于液体流动方向的平面中,所述输送管的最小横截面面积至少是其中ΔV是时间tmin内必须从所述间隙清除的液体的容积,L是输送管的长度,η是在所述间隙中液体的粘度,以及ΔPmax是在所述末端元件上的最大允许压力。
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公开(公告)号:CN1573564B
公开(公告)日:2011-05-18
申请号:CN200410047698.9
申请日:2004-06-09
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor: J·洛夫 , H·布特勒 , S·N·L·当德斯 , A·科勒斯辰科 , E·R·鲁普斯特拉 , H·J·M·梅杰 , J·C·H·穆肯斯 , R·A·S·里特塞马 , F·范沙克 , T·F·森格斯 , K·西蒙 , J·T·德斯米特 , A·斯特拉艾杰 , B·斯特里科克 , E·T·M·比拉尔特 , C·A·胡根达姆 , H·范桑坦 , M·A·范德科霍夫 , M·克鲁恩 , A·J·登博夫 , J·J·奥坦斯 , J·J·S·M·梅坦斯
CPC classification number: G03F7/70141 , G03F7/70341 , G03F7/7085 , G03F7/70883
Abstract: 本发明公开了一种光刻投影装置,在该装置中投影系统的最后元件和传感器之间的空间填充有液体。
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公开(公告)号:CN100568101C
公开(公告)日:2009-12-09
申请号:CN200310123328.4
申请日:2003-11-11
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor: J·洛夫 , E·T·M·比拉亚尔特 , H·布特勒 , S·N·L·唐德斯 , C·A·胡格达姆 , A·科勒斯伊辰科 , E·R·鲁普斯特拉 , H·J·M·梅杰 , J·J·S·M·默顿斯 , J·C·H·穆肯斯 , R·A·S·里特塞马 , F·范沙克 , T·F·森格斯 , K·西蒙 , J·T·德斯米特 , A·斯特拉艾杰 , B·斯特里夫克 , H·范桑坦
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70341 , G03F7/707 , G03F7/7085 , G03F7/70866
Abstract: 公开了一种在投射系统最终元件与基底之间的空间充满液体的光刻投射装置。边缘密封构件17、117至少部分地环绕基底W或其它在基底台WT上的物体以防止当基底的边缘部分被成像或照射时毁灭性的液体损失。
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公开(公告)号:CN100507721C
公开(公告)日:2009-07-01
申请号:CN200480038343.1
申请日:2004-12-15
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor: H·范桑坦 , A·Y·科勒斯奈彻科
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70341 , G03F7/7085
Abstract: 公开了用于浸入式光刻投影装置的液体供给系统,其中在投影系统、隔离件和衬底之间界定出空间。隔离件没有被密封,使得在使用中允许浸液从该空间和在隔离件和衬底之间流出。
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公开(公告)号:CN102147574B
公开(公告)日:2013-10-09
申请号:CN201110083335.0
申请日:2004-06-09
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor: J·洛夫 , H·布特勒 , S·N·L·当德斯 , A·科勒斯辰科 , E·R·鲁普斯特拉 , H·J·M·梅杰 , J·C·H·穆肯斯 , R·A·S·里特塞马 , F·范沙克 , T·F·森格斯 , K·西蒙 , J·T·德斯米特 , A·斯特拉艾杰 , B·斯特里科克 , E·T·M·比拉尔特 , C·A·胡根达姆 , H·范桑坦 , M·A·范德科霍夫 , M·克鲁恩 , A·J·登博夫 , J·J·奥坦斯 , J·J·S·M·梅坦斯
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70141 , G03F7/70341 , G03F7/7085 , G03F7/70883
Abstract: 本发明公开了一种光刻装置和器件制造方法。在所述装置中,投影系统的最后元件和传感器之间的空间填充有液体。
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