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公开(公告)号：CN1637608B
公开(公告)日：2011-03-16
申请号：CN200410049043.5
申请日：2004-06-11
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： J·T·德斯米特 , V·Y巴尼内 , T·H·J·比斯肖普斯 , T·M·莫德曼 , M·M·T·M·迪里奇斯
CPC classification number: G03F7/70341 , G03F7/708 , G03F7/70858
Abstract: 一种光刻装置和器件制造方法，其使用了限定在容器(13)中的高折射率的液体，该液体至少部分地填充投射透镜的最终元件和基底之间的成像区域。对在溶解了大气气体的液体中形成的或者从暴露于液体的装置元件中放气形成的气泡进行检测并去除，使得气泡不会干涉曝光而导致在基底上的印刷缺陷。通过测量与液体中的超声衰减有关的频率来进行检测，通过对液体除气和加压、使液体与大气隔离、使用低表面张力的液体、提供通过成像区域的液体的连续流动、和相位移动超声驻波波节图案来进行气泡去除。
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公开(公告)号：CN1501175A
公开(公告)日：2004-06-02
申请号：CN200310123328.4
申请日：2003-11-11
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： J·洛夫 , E·T·M·比拉亚尔特 , H·布特勒 , S·N·L·唐德斯 , C·A·胡格达姆 , A·科勒斯伊辰科 , E·R·鲁普斯特拉 , H·J·M·梅杰 , J·J·S·M·默顿斯 , J·C·H·穆肯斯 , R·A·S·里特塞马 , F·范沙克 , T·F·森格斯 , K·西蒙 , J·T·德斯米特 , A·斯特拉艾杰 , B·斯特里夫克 , H·范桑坦
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70341 , G03F7/707 , G03F7/7085 , G03F7/70866
Abstract: 公开了一种在投射系统最终元件与基底之间的空间充满液体的光刻投射装置。边缘密封构件17、117至少部分地环绕基底W或其它在基底台WT上的物体以防止当基底的边缘部分被成像或照射时毁灭性的液体损失。
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公开(公告)号：CN101713932A
公开(公告)日：2010-05-26
申请号：CN200910206096.6
申请日：2003-11-11
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： J·洛夫 , E·T·M·比拉亚尔特 , H·布特勒 , S·N·L·唐德斯 , C·A·胡格达姆 , A·科勒斯伊辰科 , E·R·鲁普斯特拉 , H·J·M·梅杰 , J·J·S·M·默顿斯 , J·C·H·穆肯斯 , R·A·S·里特塞马 , F·范沙克 , T·F·森格斯 , K·西蒙 , J·T·德斯米特 , A·斯特拉艾杰 , B·斯特里夫克 , H·范桑坦
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70341 , G03F7/707 , G03F7/7085 , G03F7/70866
Abstract: 本发明提供一种光刻装置和器件制造方法，其中光刻装置包括：用于支撑构图部件的支撑结构，构图部件用于根据理想的图案对辐射光束进行构图；用于保持基底的基底台；用于将带图案的光束投射到基底的靶部上的投射系统；以及用于用液体至少部分填充投射系统与基底、或与放置在基底台上的传感器、或者与基底和传感器两者之间的空间的液体供给系统；其中，基底台还包括边缘密封构件，边缘密封构件至少部分环绕基底的边缘、或传感器的边缘、或者基底和传感器两者的边缘，并且用于提供面向投射系统基本上与基底、或传感器、或基底和传感器两者的主表面共面的主表面，其中液体供给系统向传感器和/或边缘密封构件和/或基底的局部区域提供液体。
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公开(公告)号：CN1573564A
公开(公告)日：2005-02-02
申请号：CN200410047698.9
申请日：2004-06-09
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： J·洛夫 , H·布特勒 , S·N·L·当德斯 , A·科勒斯辰科 , E·R·鲁普斯特拉 , H·J·M·梅杰 , J·C·H·穆肯斯 , R·A·S·里特塞马 , F·范沙克 , T·F·森格斯 , K·西蒙 , J·T·德斯米特 , A·斯特拉艾杰 , B·斯特里科克 , E·T·M·比拉尔特 , C·A·胡根达姆 , H·范桑坦 , M·A·范德科霍夫 , M·克鲁恩 , A·J·登博夫 , J·J·奥坦斯 , J·J·S·M·梅坦斯
CPC classification number: G03F7/70141 , G03F7/70341 , G03F7/7085 , G03F7/70883
Abstract: 本发明公开了一种光刻投影装置，在该装置中投影系统的最后元件和传感器之间的空间填充有液体。
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公开(公告)号：CN102147574B
公开(公告)日：2013-10-09
申请号：CN201110083335.0
申请日：2004-06-09
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： J·洛夫 , H·布特勒 , S·N·L·当德斯 , A·科勒斯辰科 , E·R·鲁普斯特拉 , H·J·M·梅杰 , J·C·H·穆肯斯 , R·A·S·里特塞马 , F·范沙克 , T·F·森格斯 , K·西蒙 , J·T·德斯米特 , A·斯特拉艾杰 , B·斯特里科克 , E·T·M·比拉尔特 , C·A·胡根达姆 , H·范桑坦 , M·A·范德科霍夫 , M·克鲁恩 , A·J·登博夫 , J·J·奥坦斯 , J·J·S·M·梅坦斯
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70141 , G03F7/70341 , G03F7/7085 , G03F7/70883
Abstract: 本发明公开了一种光刻装置和器件制造方法。在所述装置中，投影系统的最后元件和传感器之间的空间填充有液体。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101713932B
公开(公告)日：2012-09-26
申请号：CN200910206096.6
申请日：2003-11-11
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： J·洛夫 , E·T·M·比拉亚尔特 , H·布特勒 , S·N·L·唐德斯 , C·A·胡格达姆 , A·科勒斯伊辰科 , E·R·鲁普斯特拉 , H·J·M·梅杰 , J·J·S·M·默顿斯 , J·C·H·穆肯斯 , R·A·S·里特塞马 , F·范沙克 , T·F·森格斯 , K·西蒙 , J·T·德斯米特 , A·斯特拉艾杰 , B·斯特里夫克 , H·范桑坦
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70341 , G03F7/707 , G03F7/7085 , G03F7/70866
Abstract: 本发明提供一种光刻装置和器件制造方法，其中光刻装置包括：用于支撑构图部件的支撑结构，构图部件用于根据理想的图案对辐射光束进行构图；用于保持基底的基底台；用于将带图案的光束投射到基底的靶部上的投射系统；以及用于用液体至少部分填充投射系统与基底、或与放置在基底台上的传感器、或者与基底和传感器两者之间的空间的液体供给系统；其中，基底台还包括边缘密封构件，边缘密封构件至少部分环绕基底的边缘、或传感器的边缘、或者基底和传感器两者的边缘，并且用于提供面向投射系统基本上与基底、或传感器、或基底和传感器两者的主表面共面的主表面，其中液体供给系统向传感器和/或边缘密封构件和/或基底的局部区域提供液体。
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公开(公告)号：CN100470367C
公开(公告)日：2009-03-18
申请号：CN200310120957.1
申请日：2003-11-11
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： J·洛夫 , A·T·A·M·德克森 , C·A·胡根达姆 , A·科勒斯伊辰科 , E·R·鲁普斯特拉 , T·M·默德曼 , J·C·H·穆肯斯 , R·A·S·里特塞马 , K·西蒙 , J·T·德斯米特 , A·斯特拉艾杰 , B·斯特里夫克 , H·范桑坦
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70341 , G03F7/707 , G03F7/7085 , G03F9/7088
Abstract: 在光刻投射装置中，密封构件围绕投射系统的末端元件和光刻投射装置基底台之间间隙。气密封在所述密封构件和所述基底的表面之间形成，以容纳间隙中的液体。
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公开(公告)号：CN102063018B
公开(公告)日：2013-07-10
申请号：CN201010543877.7
申请日：2004-06-11
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： J·T·德斯米特 , V·Y巴尼内 , T·H·J·比斯肖普斯 , T·M·莫德曼 , M·M·T·M·迪里奇斯
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70341 , G03F7/708 , G03F7/70858
Abstract: 一种光刻装置和器件制造方法，其使用了限定在容器(13)中的高折射率的液体，该液体至少部分地填充投射透镜的最终元件和基底之间的成像区域。对在溶解了大气气体的液体中形成的或者从暴露于液体的装置元件中放气形成的气泡进行检测并去除，使得气泡不会干涉曝光而导致在基底上的印刷缺陷。通过测量与液体中的超声衰减有关的频率来进行检测，通过对液体除气和加压、使液体与大气隔离、使用低表面张力的液体、提供通过成像区域的液体的连续流动、和相位移动超声驻波波节图案来进行气泡去除。
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公开(公告)号：CN101424881B
公开(公告)日：2011-11-30
申请号：CN200810168967.5
申请日：2003-11-11
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： J·洛夫 , A·T·A·M·德克森 , C·A·胡根达姆 , A·科勒斯伊辰科 , E·R·鲁普斯特拉 , T·M·默德曼 , J·C·H·穆肯斯 , R·A·S·里特塞马 , K·西蒙 , J·T·德斯米特 , A·斯特拉艾杰 , B·斯特里夫克 , H·范桑坦
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F9/7088 , G03F7/70341 , G03F7/707 , G03F7/7085
Abstract: 一种光刻投射装置，包括：用于提供辐射投射光束的辐射系统；用于支撑构图部件的支撑结构，所述构图部件用于根据理想的图案对投射光束进行构图；用于保持基底的基底台；用于将带图案的光束投射到基底的靶部上的投射系统；用于至少部分地将所述投射系统末端元件和所述基底之间的间隙填充液体的液体供给系统所述间隙通过输送管与贮液器以液体方式连接，并且在垂直于液体流动方向的平面中，所述输送管的最小横截面面积至少是其中ΔV是时间tmin内必须从所述间隙清除的液体的容积，L是输送管的长度，η是在所述间隙中液体的粘度，以及ΔPmax是在所述末端元件上的最大允许压力。
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公开(公告)号：CN1573564B
公开(公告)日：2011-05-18
申请号：CN200410047698.9
申请日：2004-06-09
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： J·洛夫 , H·布特勒 , S·N·L·当德斯 , A·科勒斯辰科 , E·R·鲁普斯特拉 , H·J·M·梅杰 , J·C·H·穆肯斯 , R·A·S·里特塞马 , F·范沙克 , T·F·森格斯 , K·西蒙 , J·T·德斯米特 , A·斯特拉艾杰 , B·斯特里科克 , E·T·M·比拉尔特 , C·A·胡根达姆 , H·范桑坦 , M·A·范德科霍夫 , M·克鲁恩 , A·J·登博夫 , J·J·奥坦斯 , J·J·S·M·梅坦斯
CPC classification number: G03F7/70141 , G03F7/70341 , G03F7/7085 , G03F7/70883
Abstract: 本发明公开了一种光刻投影装置，在该装置中投影系统的最后元件和传感器之间的空间填充有液体。
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