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公开(公告)号：CN100456133C
公开(公告)日：2009-01-28
申请号：CN200310120288.8
申请日：2003-12-12
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 一种光刻投射设备，其包括：用于支承形成图案装置的支承结构，该形成图案装置用来按照所需图案为投射射束形成图案；用于保持基底的基底台；用于将形成图案射束投射在基底靶部的投射系统；连接到气体源上并提供自由基射束的向下流自由基产生源；以及用于将所述自由基射束引导在将要清理的表面上的装置。其中，该向下流自由基产生源包括位于来自气体供应装置的气体流内的高温元件，该高温元件的温度足以造成热离解以便形成自由基。本发明还提供一种器件制造方法。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1506766A
公开(公告)日：2004-06-23
申请号：CN200310120288.8
申请日：2003-12-12
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70925 , B08B7/0057
Abstract: 使用向下流自由基产生源(10)产生自由基射束(7)以便从表面(8)上清理污染物。
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公开(公告)号：CN102063018B
公开(公告)日：2013-07-10
申请号：CN201010543877.7
申请日：2004-06-11
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： J·T·德斯米特 , V·Y巴尼内 , T·H·J·比斯肖普斯 , T·M·莫德曼 , M·M·T·M·迪里奇斯
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70341 , G03F7/708 , G03F7/70858
Abstract: 一种光刻装置和器件制造方法，其使用了限定在容器(13)中的高折射率的液体，该液体至少部分地填充投射透镜的最终元件和基底之间的成像区域。对在溶解了大气气体的液体中形成的或者从暴露于液体的装置元件中放气形成的气泡进行检测并去除，使得气泡不会干涉曝光而导致在基底上的印刷缺陷。通过测量与液体中的超声衰减有关的频率来进行检测，通过对液体除气和加压、使液体与大气隔离、使用低表面张力的液体、提供通过成像区域的液体的连续流动、和相位移动超声驻波波节图案来进行气泡去除。
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公开(公告)号：CN1637608B
公开(公告)日：2011-03-16
申请号：CN200410049043.5
申请日：2004-06-11
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： J·T·德斯米特 , V·Y巴尼内 , T·H·J·比斯肖普斯 , T·M·莫德曼 , M·M·T·M·迪里奇斯
CPC classification number: G03F7/70341 , G03F7/708 , G03F7/70858
Abstract: 一种光刻装置和器件制造方法，其使用了限定在容器(13)中的高折射率的液体，该液体至少部分地填充投射透镜的最终元件和基底之间的成像区域。对在溶解了大气气体的液体中形成的或者从暴露于液体的装置元件中放气形成的气泡进行检测并去除，使得气泡不会干涉曝光而导致在基底上的印刷缺陷。通过测量与液体中的超声衰减有关的频率来进行检测，通过对液体除气和加压、使液体与大气隔离、使用低表面张力的液体、提供通过成像区域的液体的连续流动、和相位移动超声驻波波节图案来进行气泡去除。
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公开(公告)号：CN102063018A
公开(公告)日：2011-05-18
申请号：CN201010543877.7
申请日：2004-06-11
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： J·T·德斯米特 , V·Y巴尼内 , T·H·J·比斯肖普斯 , T·M·莫德曼 , M·M·T·M·迪里奇斯
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70341 , G03F7/708 , G03F7/70858
Abstract: 一种光刻装置和器件制造方法，其使用了限定在容器(13)中的高折射率的液体，该液体至少部分地填充投射透镜的最终元件和基底之间的成像区域。对在溶解了大气气体的液体中形成的或者从暴露于液体的装置元件中放气形成的气泡进行检测并去除，使得气泡不会干涉曝光而导致在基底上的印刷缺陷。通过测量与液体中的超声衰减有关的频率来进行检测，通过对液体除气和加压、使液体与大气隔离、使用低表面张力的液体、提供通过成像区域的液体的连续流动、和相位移动超声驻波波节图案来进行气泡去除。
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公开(公告)号：CN1637608A
公开(公告)日：2005-07-13
申请号：CN200410049043.5
申请日：2004-06-11
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： J·T·德斯米特 , V·Y巴尼内 , T·H·J·比斯肖普斯 , T·M·莫德曼 , M·M·T·M·迪里奇斯
CPC classification number: G03F7/70341 , G03F7/708 , G03F7/70858
Abstract: 一种光刻装置和器件制造方法，其使用了限定在容器(13)中的高折射率的液体，该液体至少部分地填充投射透镜的最终元件和基底之间的成像区域。对在溶解了大气气体的液体中形成的或者从暴露于液体的装置元件中放气形成的气泡进行检测并去除，使得气泡不会干涉曝光而导致在基底上的印刷缺陷。通过测量与液体中的超声衰减有关的频率来进行检测，通过对液体除气和加压、使液体与大气隔离、使用低表面张力的液体、提供通过成像区域的液体的连续流动、和相位移动超声驻波波节图案来进行气泡去除。
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