公开(公告)号：CN100507721C

公开(公告)日：2009-07-01

申请号：CN200480038343.1

申请日：2004-12-15

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： H·范桑坦 ,  A·Y·科勒斯奈彻科

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70341 ,  G03F7/7085

Abstract: 公开了用于浸入式光刻投影装置的液体供给系统，其中在投影系统、隔离件和衬底之间界定出空间。隔离件没有被密封，使得在使用中允许浸液从该空间和在隔离件和衬底之间流出。

公开(公告)号：CN101872129A

公开(公告)日：2010-10-27

申请号：CN200910139109.2

申请日：2004-12-15

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： H·范桑坦 ,  A·Y·科勒斯奈彻科

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/02

CPC classification number: G03F7/70341 ,  G03F7/7085

Abstract: 本发明公开了一种光刻装置和器件制造方法。本发明还公开了用于浸入式光刻投影装置的液体供给系统，其中在投影系统、隔离件和衬底之间界定出空间。隔离件没有被密封，使得在使用中允许浸液从该空间和在隔离件和衬底之间流出。

公开(公告)号：CN101872129B

公开(公告)日：2013-01-23

申请号：CN200910139109.2

申请日：2004-12-15

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： H·范桑坦 ,  A·Y·科勒斯奈彻科

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/02

CPC classification number: G03F7/70341 ,  G03F7/7085

Abstract: 本发明公开了一种光刻装置和器件制造方法。本发明还公开了用于浸入式光刻投影装置的液体供给系统，其中在投影系统、隔离件和衬底之间界定出空间。隔离件没有被密封，使得在使用中允许浸液从该空间和在隔离件和衬底之间流出。

公开(公告)号：CN1898606A

公开(公告)日：2007-01-17

申请号：CN200480038343.1

申请日：2004-12-15

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： H·范桑坦 ,  A·Y·科勒斯奈彻科

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70341 ,  G03F7/7085

Abstract: 公开了用于浸入式光刻投影装置的液体供给系统，其中在投影系统、隔离件和衬底之间界定出空间。隔离件没有被密封，使得在使用中允许浸液从该空间和在隔离件和衬底之间流出。