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    用于微光刻的投射物镜
    2.
    发明公开
    用于微光刻的投射物镜 有权

    公开(公告)号：CN101978324A

    公开(公告)日：2011-02-16

    申请号：CN200980110023.5

    申请日：2009-02-28

    申请人： 卡尔蔡司SMT股份公司

    发明人： 约翰尼斯·泽尔纳 ,  汉斯-于尔根·曼 ,  马丁·恩德雷斯

    IPC分类号： G03F7/20

    CPC分类号： G03F7/70316 ,  G02B17/0663 ,  G03F7/702 ,  G03F7/70233

    摘要： 一种用于微光刻的投射物镜(7)被用于将物平面(5)中的物场(4)成像为像平面(9)中的像场(8)。所述投射物镜(7)包括至少六个反射镜(M1至M6)，其中至少一个反射镜具有自由形状反射面。根据本发明的第一方面，投射物镜(7)的总长度(T)与物像位移(dOIS)的比小于12。根据本发明的另一方面，像平面(9)是物平面(5)的下游的投射物镜(7)的第一个场平面。根据本发明的另一方面，投射物镜具有多个反射镜(M1至M6)，其中总长度(T)与物像位移(dOIS)之间的比小于2。

    微光刻的投射曝光设备的照明系统的操作方法
    3.
    发明公开
    微光刻的投射曝光设备的照明系统的操作方法 有权

    公开(公告)号：CN101960384A

    公开(公告)日：2011-01-26

    申请号：CN200980106335.9

    申请日：2009-02-07

    申请人： 卡尔蔡司SMT股份公司

    发明人： 奥利弗·纳特 ,  弗兰克·施莱斯纳

    IPC分类号： G03F7/20

    CPC分类号： G03F7/70133 ,  G03F7/70091 ,  G03F7/70125 ,  G03F7/70141 ,  G03F7/70191

    摘要： 在微光刻投射曝光设备(10)的照明系统(12)的操作方法中，首先确定一组描述光束的属性的照明参数，该光束会聚到被照明系统(12)照明的掩模(14)上的点(72)。另外，确定其对照明参数的光学影响可根据控制指令被修改的光学元件(26，36，44，46，74，76)，以及照明参数对由控制指令引起的光学元件的调整的反应的敏感度。然后控制指令被确定，而考虑到先前确定的敏感度，使得照明参数从预定的目标照明参数的偏离满足预定的最小化原则。在掩模(14)被照明之前，将这些控制指令施加到光学元件。

    微光刻投射曝光设备
    7.
    发明公开
    微光刻投射曝光设备 失效

    公开(公告)号：CN101821678A

    公开(公告)日：2010-09-01

    申请号：CN200880110591.0

    申请日：2008-09-29

    申请人： 卡尔蔡司SMT股份公司

    发明人： 奥雷利安·多多克 ,  萨沙·布莱迪斯特尔 ,  奥拉夫·康拉迪 ,  阿里夫·卡齐

    IPC分类号： G03F7/20

    CPC分类号： G03F7/70891 ,  G03F7/70308

    摘要： 一种微光刻投射曝光设备(10)，包括产生投射光的主照明系统(12)、投射物镜(20；120)和校正光学系统。校正光学系统包括副照明系统(30；130)，其在基准表面(48；148)中产生校正光的强度分布；和校正元件(32；132)，其包括加热材料并布置在与该基准表面(48；148)至少大体上光学共轭的平面(38；174)中，以使校正光和投射光在它们打到校正元件(32；132)之前经过包含在投射物镜(20；120)中的至少一个透镜。校正光和投射光两者经过的所有透镜(34；L1至L5)都由透镜材料制成，透镜材料相比包含在校正元件内的加热材料对校正光具有更低的吸收系数。

    微光刻投射曝光设备的照明系统
    8.
    发明公开
    微光刻投射曝光设备的照明系统 有权

    公开(公告)号：CN101802715A

    公开(公告)日：2010-08-11

    申请号：CN200880107193.3

    申请日：2008-09-10

    申请人： 卡尔蔡司SMT股份公司

    发明人： 达米安·菲奥尔卡 ,  丹尼尔·沃尔多夫 ,  英戈·桑格

    IPC分类号： G03F7/20

    CPC分类号： G03F7/702 ,  G03F7/70116 ,  G03F7/70566

    摘要： 本发明涉及微光刻投射曝光设备的照明系统，该照明系统包括具有多个镜单元(141、142、143、341、342、343、541、542、543)的镜布置(21、43、45、52、63、84、93、140、250、340、540、940)，其中所述镜单元可彼此无关地移动用于改变经镜布置(21、43、45、52、63、84、93、140、250、340、540、940)反射的光的角度分布，并且至少一个元件(20、42a、44、51、62、64、71、81、91、130、200、260、330、530、930)在光传播方向上布置在镜布置(21、43、45、52、63、84、93、140、250、340、540、940)的前面，用于产生入射到不同的镜单元上的至少两种不同的偏振态。

    微光刻投射曝光设备中用于照明掩模的照明系统
    9.
    发明公开
    微光刻投射曝光设备中用于照明掩模的照明系统 失效

    公开(公告)号：CN101796460A

    公开(公告)日：2010-08-04

    申请号：CN200780100451.0

    申请日：2007-08-30

    申请人： 卡尔蔡司SMT股份公司

    发明人： 马库斯·德冈瑟 ,  迈克尔·莱

    IPC分类号： G03F7/20

    CPC分类号： G03F7/702 ,  G03F7/70116

    摘要： 扫描微光刻投射曝光设备(10)中用于照明掩模(16)的照明系统具有物镜(52；152；252；352；452)，该物镜具有物平面(50；150；250；350；450)、至少一个光瞳面(60；160；360；460)和其中能布置掩模(16)的像平面(54；154；354；454)。提供反射或透射的光束偏转元件(Mij；Tij)的光束偏转阵列(40；140；340；440)，其中每一光束偏转元件(Mij；Tij)适于将打入光束偏转一偏转角，该偏转角响应于控制信号可变。依照本发明，该光束偏转元件(Mij；Tij)布置在物镜(52；152；252；352；452)的物平面(50；150；250；350；450)中或紧邻所述物平面。