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    微光刻投射曝光设备
    1.
    发明公开
    微光刻投射曝光设备 有权

    公开(公告)号：CN101946212A

    公开(公告)日：2011-01-12

    申请号：CN200880127355.X

    申请日：2008-12-18

    申请人： 卡尔蔡司SMT股份公司

    发明人： 迈克尔·莱 ,  马库斯·德冈瑟 ,  迈克尔·帕特拉 ,  约翰尼斯·万格勒 ,  曼弗雷德·莫尔 ,  达米安·菲奥尔卡 ,  冈杜拉·韦斯

    IPC分类号： G03F7/20

    CPC分类号： G03F7/702 ,  G02B5/09 ,  G02B26/105 ,  G03F7/70116 ,  G03F7/7055 ,  G03F7/70583

    摘要： 一种微光刻投射曝光设备，包括用来照明物平面中的物场的数个物场点的照明光学部件。就该物场的每一物场点而言，该照明光学部件具有与该物点相关的出射光瞳，其中sin(γ)为该出射光瞳的最大边缘角值(angle value)，且其中该照明光学部件包括多镜阵列(38)，其包括用来调整与该这些物场点相关的出射光瞳中强度分布的多个镜(38s)。该照明光学部件进一步包含至少一光学系统(33a；33b；33c；3d；400；822；903；1010；1103；1203)以用来时间上稳定该多镜阵列(38)的照明，使得对于每一物场点，相关出射光瞳中的强度分布偏离了相关出射光瞳中的期望强度分布，在形心角值sin(β)上就相关出射光瞳的该最大边缘角值sin(γ)而言偏离了小于2％、和/或在椭圆率上偏离了小于2％、和/或在极平衡上偏离了小于2％。

    微光刻投射曝光设备中用于照明掩模的照明系统
    2.
    发明公开
    微光刻投射曝光设备中用于照明掩模的照明系统 失效

    公开(公告)号：CN101796460A

    公开(公告)日：2010-08-04

    申请号：CN200780100451.0

    申请日：2007-08-30

    申请人： 卡尔蔡司SMT股份公司

    发明人： 马库斯·德冈瑟 ,  迈克尔·莱

    IPC分类号： G03F7/20

    CPC分类号： G03F7/702 ,  G03F7/70116

    摘要： 扫描微光刻投射曝光设备(10)中用于照明掩模(16)的照明系统具有物镜(52；152；252；352；452)，该物镜具有物平面(50；150；250；350；450)、至少一个光瞳面(60；160；360；460)和其中能布置掩模(16)的像平面(54；154；354；454)。提供反射或透射的光束偏转元件(Mij；Tij)的光束偏转阵列(40；140；340；440)，其中每一光束偏转元件(Mij；Tij)适于将打入光束偏转一偏转角，该偏转角响应于控制信号可变。依照本发明，该光束偏转元件(Mij；Tij)布置在物镜(52；152；252；352；452)的物平面(50；150；250；350；450)中或紧邻所述物平面。