公开(公告)号：CN101821678A

公开(公告)日：2010-09-01

申请号：CN200880110591.0

申请日：2008-09-29

申请人： 卡尔蔡司SMT股份公司

发明人： 奥雷利安·多多克 ,  萨沙·布莱迪斯特尔 ,  奥拉夫·康拉迪 ,  阿里夫·卡齐

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70891 ,  G03F7/70308

摘要： 一种微光刻投射曝光设备(10)，包括产生投射光的主照明系统(12)、投射物镜(20；120)和校正光学系统。校正光学系统包括副照明系统(30；130)，其在基准表面(48；148)中产生校正光的强度分布；和校正元件(32；132)，其包括加热材料并布置在与该基准表面(48；148)至少大体上光学共轭的平面(38；174)中，以使校正光和投射光在它们打到校正元件(32；132)之前经过包含在投射物镜(20；120)中的至少一个透镜。校正光和投射光两者经过的所有透镜(34；L1至L5)都由透镜材料制成，透镜材料相比包含在校正元件内的加热材料对校正光具有更低的吸收系数。

公开(公告)号：CN101589342A

公开(公告)日：2009-11-25

申请号：CN200880002851.2

申请日：2008-01-22

申请人： 卡尔蔡司SMT股份公司

发明人： 奥拉夫·康拉迪

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70266 ,  G03F7/70191 ,  G03F7/70308 ,  G03F7/70891

摘要： 描述一种改善光学系统(10)的成像特性的方法且也描述了具有改善的成像特性的该类型的光学系统(10)。所述光学系统(10)具有多个光学元件。为了至少部分地校正至少一成像像差，所述多个光学元件中的至少第一光学元件(42)是借助于机械力作用(72)以及热作用(76)来定位和/或变形的，或者所述至少第一光学元件(42)是借助于机械力作用(72)来定位和/或变形的以及所述多个光学元件的至少第二光学元件(46)是借助于热作用(78)来变形的。