公开(公告)号：CN101571677B

公开(公告)日：2012-11-21

申请号：CN200910134770.4

申请日：2009-04-22

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： R·D·沃森 ,  Y·J·L·M·凡达麦乐恩 ,  J·H·W·雅各布斯 ,  H·詹森 ,  M·H·A·里恩德尔斯 ,  J·J·S·M·梅坦斯 ,  P·P·斯汀贾尔特 ,  A·M·C·P·德琼 ,  J·M·W·范德温克尔 ,  J·P·达派兹赛纳 ,  M·M·J·范德李 ,  H·M·D·范里尔 ,  G·塔纳撒

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/02

CPC classification number: G03F7/70341 ,  G03F7/70925

Abstract: 本发明公开了一种光刻设备和运行光刻设备的方法，还公开了一种光刻投影设备，其包括清洁站。本发明公开了几个清洁站的实施例。在实施例中，采取了措施避免清洁流体与投影系统的最终元件接触。在实施例中，采取了措施避免清洁流体的起泡。本发明还公开了热隔离岛的使用以及其最佳位置。

公开(公告)号：CN101571677A

公开(公告)日：2009-11-04

申请号：CN200910134770.4

申请日：2009-04-22

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： R·D·沃森 ,  Y·J·L·M·凡达麦乐恩 ,  J·H·W·雅各布斯 ,  H·詹森 ,  M·H·A·里恩德尔斯 ,  J·J·S·M·梅坦斯 ,  P·P·斯汀贾尔特 ,  A·M·C·P·德琼 ,  J·M·W·范德温克尔 ,  J·P·达派兹赛纳 ,  M·M·J·范德李 ,  H·M·D·范里尔 ,  G·塔纳撒

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/02

CPC classification number: G03F7/70341 ,  G03F7/70925

Abstract: 本发明公开了一种光刻设备和运行光刻设备的方法，还公开了一种光刻投影设备，其包括清洁站。本发明公开了几个清洁站的实施例。在实施例中，采取了措施避免清洁流体与投影系统的最终元件接触。在实施例中，采取了措施避免清洁流体的起泡。本发明还公开了热隔离岛的使用以及其最佳位置。