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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101727017A
公开(公告)日：2010-06-09
申请号：CN200910174037.5
申请日：2009-10-20
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： A·M·C·P·德琼 , H·詹森 , J·C·J·范德东克 , H·戈特 , J·H·范德伯格
CPC classification number: G03F7/70925 , G03F7/70341 , G03F7/70916
Abstract: 本发明公开了一种光刻设备以及去除污染物的方法，该光刻设备包括：流体供给系统，其配置以将清洁流体提供到将要清洁的表面。清洁流体包括：25-98.99wt％的水；1-74.99wt％的选自一种或更多种二元醇醚、酯、醇和酮的溶剂；和0.01-5wt％的表面活性剂。
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公开(公告)号：CN101354538B
公开(公告)日：2012-07-04
申请号：CN200810130025.8
申请日：2008-07-24
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： A·M·C·P·德琼 , H·詹森 , M·H·A·里恩德尔斯 , A·J·范德奈特 , P·F·沃恩腾 , J·C·J·范德东克 , R·D·沃森 , T·C·范登都尔 , N·什库 , J·W·克龙姆威杰克
CPC classification number: G03F7/70925 , G03F7/2041 , G03F7/70341
Abstract: 本发明公开了一种光刻设备和污染物去除或防止方法。浸没式光刻设备通过使用清洁液体进行清洁，所述清洁液体主要由超纯净水以及(a)过氧化氢和臭氧的混合物、或(b)浓度高达5％的过氧化氢、或(c)浓度高达50ppm的臭氧、或(d)浓度高达10ppm的氧气、或(e)选自(a)-(d)的任何组合物构成。
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公开(公告)号：CN101354538A
公开(公告)日：2009-01-28
申请号：CN200810130025.8
申请日：2008-07-24
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： A·M·C·P·德琼 , H·詹森 , M·H·A·里恩德尔斯 , A·J·范德奈特 , P·F·沃恩腾 , J·C·J·范德东克 , R·D·沃森 , T·C·范登都尔 , N·什库 , J·W·克龙姆威杰克
CPC classification number: G03F7/70925 , G03F7/2041 , G03F7/70341
Abstract: 本发明公开了一种光刻设备和污染物去除或防止方法。浸没式光刻设备通过使用清洁液体进行清洁，所述清洁液体主要由超纯净水以及(a)过氧化氢和臭氧的混合物、或(b)浓度高达5％的过氧化氢、或(c)浓度高达50ppm的臭氧、或(d)浓度高达10ppm的氧气、或(e)选自(a)－(d)的任何组合物构成。
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公开(公告)号：CN101571677B
公开(公告)日：2012-11-21
申请号：CN200910134770.4
申请日：2009-04-22
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： R·D·沃森 , Y·J·L·M·凡达麦乐恩 , J·H·W·雅各布斯 , H·詹森 , M·H·A·里恩德尔斯 , J·J·S·M·梅坦斯 , P·P·斯汀贾尔特 , A·M·C·P·德琼 , J·M·W·范德温克尔 , J·P·达派兹赛纳 , M·M·J·范德李 , H·M·D·范里尔 , G·塔纳撒
CPC classification number: G03F7/70341 , G03F7/70925
Abstract: 本发明公开了一种光刻设备和运行光刻设备的方法，还公开了一种光刻投影设备，其包括清洁站。本发明公开了几个清洁站的实施例。在实施例中，采取了措施避免清洁流体与投影系统的最终元件接触。在实施例中，采取了措施避免清洁流体的起泡。本发明还公开了热隔离岛的使用以及其最佳位置。
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公开(公告)号：CN101571677A
公开(公告)日：2009-11-04
申请号：CN200910134770.4
申请日：2009-04-22
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： R·D·沃森 , Y·J·L·M·凡达麦乐恩 , J·H·W·雅各布斯 , H·詹森 , M·H·A·里恩德尔斯 , J·J·S·M·梅坦斯 , P·P·斯汀贾尔特 , A·M·C·P·德琼 , J·M·W·范德温克尔 , J·P·达派兹赛纳 , M·M·J·范德李 , H·M·D·范里尔 , G·塔纳撒
CPC classification number: G03F7/70341 , G03F7/70925
Abstract: 本发明公开了一种光刻设备和运行光刻设备的方法，还公开了一种光刻投影设备，其包括清洁站。本发明公开了几个清洁站的实施例。在实施例中，采取了措施避免清洁流体与投影系统的最终元件接触。在实施例中，采取了措施避免清洁流体的起泡。本发明还公开了热隔离岛的使用以及其最佳位置。
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