公开(公告)号：CN101354538B

公开(公告)日：2012-07-04

申请号：CN200810130025.8

申请日：2008-07-24

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： A·M·C·P·德琼 ,  H·詹森 ,  M·H·A·里恩德尔斯 ,  A·J·范德奈特 ,  P·F·沃恩腾 ,  J·C·J·范德东克 ,  R·D·沃森 ,  T·C·范登都尔 ,  N·什库 ,  J·W·克龙姆威杰克

IPC: G03F7/20 ,  B08B3/04

CPC classification number: G03F7/70925 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/70341

Abstract: 本发明公开了一种光刻设备和污染物去除或防止方法。浸没式光刻设备通过使用清洁液体进行清洁，所述清洁液体主要由超纯净水以及(a)过氧化氢和臭氧的混合物、或(b)浓度高达5％的过氧化氢、或(c)浓度高达50ppm的臭氧、或(d)浓度高达10ppm的氧气、或(e)选自(a)-(d)的任何组合物构成。

公开(公告)号：CN101354538A

公开(公告)日：2009-01-28

申请号：CN200810130025.8

申请日：2008-07-24

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： A·M·C·P·德琼 ,  H·詹森 ,  M·H·A·里恩德尔斯 ,  A·J·范德奈特 ,  P·F·沃恩腾 ,  J·C·J·范德东克 ,  R·D·沃森 ,  T·C·范登都尔 ,  N·什库 ,  J·W·克龙姆威杰克

IPC: G03F7/20 ,  B08B3/04

CPC classification number: G03F7/70925 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/70341

Abstract: 本发明公开了一种光刻设备和污染物去除或防止方法。浸没式光刻设备通过使用清洁液体进行清洁，所述清洁液体主要由超纯净水以及(a)过氧化氢和臭氧的混合物、或(b)浓度高达5％的过氧化氢、或(c)浓度高达50ppm的臭氧、或(d)浓度高达10ppm的氧气、或(e)选自(a)－(d)的任何组合物构成。