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公开(公告)号：CN110770655B
公开(公告)日：2024-03-19
申请号：CN201880040756.5
申请日：2018-05-14
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： A·J·登鲍埃夫 , P·A·J·廷内曼斯 , H·V·考克 , W·P·范德伦特 , 塞巴斯蒂安努斯·阿德里安努斯·古德恩
Abstract: 本发明涉及一种传感器(SE)，包括：‑辐射源(LS)，朝向传感器目标(GR)发射具有相干长度的辐射(LI)；和‑偏振分束器(PBS)，将由所述传感器目标衍射的辐射分割成具有第一偏振态的辐射和具有第二偏振态的辐射，其中，所述第一偏振态与所述第二偏振态正交，和其中，所述传感器配置成使得在通过所述偏振分束器后，具有所述第一偏振态的辐射相对于具有所述第二偏振态的辐射的光程差大于所述相干长度。
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公开(公告)号：CN110799907A
公开(公告)日：2020-02-14
申请号：CN201880042682.9
申请日：2018-05-28
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： E·M·赫尔斯埃博 , P·A·J·廷内曼斯 , F·G·C·比基恩
Abstract: 一种确定衬底变形的方法，具有以下步骤：(a)从多个衬底的测量结果获得(402)与标记位置相关联的第一测量数据(Xi)；(b)从所述多个衬底的测量结果获得(404)与标记位置相关联的第二测量数据(Xi和/或Y)；(c)确定(408)所述第一测量数据与第二测量数据之间的映射(Mi,j)；和(d)通过计算所述映射矩阵(Mij)的特征值分解来分解(410)所述映射以分离地确定在所述数据之间的所述映射中与第二变形(例如衬底变形)以不同比例缩放的第一变形(例如标记变形)。使用非线性优化可以一起执行确定映射的步骤和分解所述映射的步骤。
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公开(公告)号：CN110998449A
公开(公告)日：2020-04-10
申请号：CN201880051260.8
申请日：2018-07-11
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种方法包括：针对使用图案化过程产生的衬底的器件图案的多个特征中的每个特定特征，获得在所述衬底的测量目标与所述特定特征之间的所述图案化过程的参数的模型化或模拟关系；和基于所述关系和来自量测目标的所述参数的测量值，产生针对所述特征中的每个特征的横跨所述衬底的至少一部分的所述参数的分布，所述分布用于设计、控制或修改所述图案化过程。
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公开(公告)号：CN1821881B
公开(公告)日：2012-07-18
申请号：CN200510137056.2
申请日：2005-12-14
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： H·詹森 , P·A·J·廷内曼斯 , J·-G·C·范德图尔恩
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70341
Abstract: 光刻装置和器件制造方法。本发明涉及一种在采用封闭面来限制液体供给系统中的液体时减少光刻装置中的浸液污染的方法。为了避免或降低由封闭面与液体供给系统碰撞而造成的颗粒污染，封闭面保持在与液体供给系统相距一定距离的地方，使得封闭面与液体供给系统之间没有碰撞，但是液体仍然被限制住。
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公开(公告)号：CN1746775B
公开(公告)日：2010-07-07
申请号：CN200510113235.2
申请日：2005-08-12
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： T·P·M·卡迪 , J·H·W·贾科布斯 , N·坦卡特 , E·R·鲁普斯特拉 , A·L·H·J·范米尔 , J·J·S·M·梅坦斯 , C·G·M·德莫 , M·J·E·H·米特詹斯 , A·J·范德内特 , J·J·奥坦斯 , J·A·夸伊达克斯 , M·E·鲁曼-休斯肯 , M·K·斯塔温加 , P·A·J·廷内曼斯 , M·C·M·维哈根 , J·J·L·H·维斯帕 , F·E·德荣格 , K·戈尔曼 , B·门奇奇科夫 , H·博姆 , S·尼蒂亚诺夫 , R·莫尔曼 , M·F·P·斯米特斯 , B·L·P·小恩德马克 , F·J·J·詹斯森 , M·里伊彭
IPC: G03F7/20 , G03F9/00 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70808 , G03F7/70341 , G03F7/70841 , G03F7/70875
Abstract: 一种光刻设备包括：调节辐射束的照明系统；支撑构图器件的支架，该构图器件能够将它截面中的图案赋予辐射束以形成构图的辐射束；支撑衬底的衬底台；把已构图的辐射束投影到衬底的目标部分的投影系统；利用液体至少部分地填充在所述投影系统的最后元件和所述衬底之间的间隙的液体供应系统；在投影系统的所述最后元件和述衬底之间的所述间隙中基本包含所述液体的密封构件；和控制和/或补偿浸渍液体从所述衬底蒸发的元件。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN100520593C
公开(公告)日：2009-07-29
申请号：CN200510114138.5
申请日：2005-10-18
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： J·J·S·M·梅坦斯 , S·N·L·多德斯 , R·F·德格拉夫 , C·A·胡根达姆 , A·J·范德内特 , F·J·H·M·特尼斯森 , P·A·J·廷内曼斯 , M·C·M·维哈根 , J·J·L·H·维斯帕 , E·A·M·范戈佩
CPC classification number: G03F7/70716 , G03F7/70341
Abstract: 公开了一种光刻装置，其包括配置成使用液体至少部分填充投影系统和基底之间的空间的液体供给系统，配置成去除液体和气体混合物的出口，所述液体和气体混合物流过液体供给系统的液体限制结构和基底之间的间隙，配置成通过所述出口排出混合物的排空系统，该排空系统包括布置成把混合物中的液体和气体分开的分离罐和分离罐压力控制器，该分离罐压力控制器与分离罐的非液体填充区相连，并配置成使非液体填充区保持稳定的压力。
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公开(公告)号：CN110770655A
公开(公告)日：2020-02-07
申请号：CN201880040756.5
申请日：2018-05-14
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： A·J·登鲍埃夫 , P·A·J·廷内曼斯 , H·V·考克 , W·P·范德伦特 , 塞巴斯蒂安努斯·阿德里安努斯·古德恩
Abstract: 本发明涉及一种传感器(SE)，包括：-辐射源(LS)，朝向传感器目标(GR)发射具有相干长度的辐射(LI)；和-偏振分束器(PBS)，将由所述传感器目标衍射的辐射分割成具有第一偏振态的辐射和具有第二偏振态的辐射，其中，所述第一偏振态与所述第二偏振态正交，和其中，所述传感器配置成使得在通过所述偏振分束器后，具有所述第一偏振态的辐射相对于具有所述第二偏振态的辐射的光程差大于所述相干长度。
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公开(公告)号：CN1821881A
公开(公告)日：2006-08-23
申请号：CN200510137056.2
申请日：2005-12-14
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： H·詹森 , P·A·J·廷内曼斯 , J·-G·C·范德图尔恩
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70341
Abstract: 本发明涉及一种在采用封闭面来限制液体供给系统中的液体时减少光刻装置中的浸液污染的方法。为了避免或降低由封闭面与液体供给系统碰撞而造成的颗粒污染，封闭面保持在与液体供给系统相距一定距离的地方，使得封闭面与液体供给系统之间没有碰撞，但是液体仍然被限制住。
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公开(公告)号：CN1770018A
公开(公告)日：2006-05-10
申请号：CN200510114138.5
申请日：2005-10-18
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： J·J·S·M·梅坦斯 , S·N·L·多德斯 , R·F·德格拉夫 , C·A·胡根达姆 , A·J·范德内特 , F·J·H·M·特尼斯森 , P·A·J·廷内曼斯 , M·C·M·维哈根 , J·J·L·H·维斯帕 , E·A·M·范戈佩
CPC classification number: G03F7/70716 , G03F7/70341
Abstract: 光刻装置和器件制造方法公开了一种光刻装置，其包括配置成使用液体至少部分填充投影系统和基底之间的空间的液体供给系统，配置成去除液体和气体混合物的出口，所述液体和气体混合物流过液体供给系统的液体限制结构和基底之间的间隙，配置成通过所述出口排出混合物的排空系统，该排空系统包括布置成把混合物中的液体和气体分开的分离罐和分离罐压力控制器，该分离罐压力控制器与分离罐的非液体填充区相连，并配置成使非液体填充区保持稳定的压力。
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公开(公告)号：CN101923290A
公开(公告)日：2010-12-22
申请号：CN201010186587.1
申请日：2005-08-12
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： T·P·M·卡迪 , J·H·W·贾科布斯 , N·坦卡特 , E·R·鲁普斯特拉 , A·L·H·J·范米尔 , J·J·S·M·梅坦斯 , C·G·M·德莫 , M·J·E·H·米特詹斯 , A·J·范德内特 , J·J·奥坦斯 , J·A·夸伊达克斯 , M·E·鲁曼-休斯肯 , M·K·斯塔温加 , P·A·J·廷内曼斯 , M·C·M·维哈根 , J·J·L·H·维斯帕 , F·E·德荣格 , K·戈尔曼 , B·门奇奇科夫 , H·博姆 , S·尼蒂亚诺夫 , R·莫尔曼 , M·F·P·斯米特斯 , B·L·P·小恩德马克 , F·J·J·詹斯森 , M·里伊彭
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70808 , G03F7/70341 , G03F7/70841 , G03F7/70875
Abstract: 一种光刻设备包括：调节辐射束的照明系统；支撑构图器件的支架，该构图器件能够将它截面中的图案赋予辐射束以形成构图的辐射束；支撑衬底的衬底台；把已构图的辐射束投影到衬底的目标部分的投影系统；利用液体至少部分地填充在所述投影系统的最后元件和所述衬底之间的间隙的液体供应系统；在投影系统的所述最后元件和述衬底之间的所述间隙中基本包含所述液体的密封构件；和控制和/或补偿浸渍液体从所述衬底蒸发的元件。
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