公开(公告)号：CN103443032B

公开(公告)日：2016-06-01

申请号：CN201280014650.0

申请日：2012-03-13

Applicant: 栗田工业株式会社

Inventor： 山田聪

IPC: C02F1/44 ,  B01D61/02 ,  B01D61/14 ,  B01D61/58 ,  C02F1/42

CPC classification number: C02F1/42 ,  B01D61/025 ,  B01D61/147 ,  B01D61/58 ,  C02F1/441 ,  C02F1/444 ,  C02F3/02 ,  C02F3/06 ,  C02F3/085 ,  C02F2001/425 ,  C02F2103/40 ,  C02F2303/20 ,  Y02W10/15

Abstract: 本发明涉及一种光致抗蚀剂显影废水的处理方法，其使用RO装置，无须用碱剂来中和RO透过水，可防止或者抑制因粘泥引起的RO膜的阻塞，且可获得良好水质的RO膜透过水。其无须对光致抗蚀剂显影废水进行pH值调整，在与阳离子交换树脂接触后，通过MF膜装置等进行除浊处理，接着向逆渗透膜装置通水，获得膜透过水。

公开(公告)号：CN105523598A

公开(公告)日：2016-04-27

申请号：CN201610089438.0

申请日：2016-02-17

Applicant: 安庆市鑫祥瑞化工有限公司

Inventor： 叶剑飞

IPC: C02F1/04 ,  C02F9/10 ,  C02F103/34

CPC classification number: C02F1/04 ,  C02F1/281 ,  C02F9/00 ,  C02F2103/40 ,  C02F2201/007 ,  C02F2301/08

Abstract: 本发明涉及一种阶段性变压精馏塔回收光刻胶剥离液的方法，其具体步骤为：(1)向光刻胶剥离液中加入活性炭脱色并吸附金属离子，经分离后，得到初级再生液；(2)所得初级再生液在氮气氛和抗氧化剂保护下经过常压精馏、低真空精馏、高真空精馏和正压精馏四次精馏得到光刻胶剥离液合格品；本发明的有益效果：本发明所述方法包括负压、常压、正压三种方法的合作使用，不仅可以应对低沸点的溶剂，也可以针对高沸点溶剂，对于沸点接近的溶剂也可以应对，达到很好的分离效果；该方法不仅将光刻胶剥离液废液中所含的光刻胶组分和光刻胶剥离液组分分离出来，使其分离物再应用于工业化生产，而且具有工艺简单和分离高效的特点。

公开(公告)号：CN101872130B

公开(公告)日：2012-10-03

申请号：CN201010114018.6

申请日：2004-08-27

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： M·M·T·M·迪里奇斯 ,  S·N·L·当德斯 ,  J·H·W·贾科布斯 ,  H·詹森 ,  E·R·鲁普斯特拉 ,  J·J·S·M·梅坦斯 ,  M·K·斯塔文加 ,  B·斯特里克 ,  M·C·M·维哈根 ,  L·塞恩蒂恩斯-格鲁达

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70866 ,  B01D19/0031 ,  B01D61/025 ,  B01D61/24 ,  C02F1/04 ,  C02F1/20 ,  C02F1/28 ,  C02F1/283 ,  C02F1/32 ,  C02F1/42 ,  C02F1/441 ,  C02F2103/40 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/70341

Abstract: 一种光刻投射装置，包括：用于提供辐射投射光束的辐射系统；用于支撑构图装置的支撑结构，所述构图装置用于根据所需的图案对投射光束进行构图；用于保持基底的基底台；用于将带图案的辐射光束投射到基底的目标部分上的投射系统；用于以浸液至少部分填充所述投射系统的最后元件和所述基底之间的空间的液体供给系统，所述液体供给系统包括用于净化所述浸液的液体净化器，其中所述液体净化器包括位于所述空间的上游并不与所述空间接触的脱气单元；而且所述液体供给系统在所述投射系统的投射镜头周围形成无接触密封，从而所述浸液被限定为填充与所述投射系统面对的基底的主要表面和所述投射系统的最后元件之间的空间。

公开(公告)号：CN102307816A

公开(公告)日：2012-01-04

申请号：CN201080007104.5

申请日：2010-02-09

Applicant: 株式会社神钢环境舒立净

Inventor： 谷田克义 ,  木下勉 ,  知福博行 ,  小野田草介

IPC: C02F1/58 ,  C02F1/469 ,  C02F1/60

CPC classification number: C02F9/00 ,  C02F1/38 ,  C02F1/44 ,  C02F1/4695 ,  C02F1/56 ,  C02F1/66 ,  C02F1/68 ,  C02F2001/007 ,  C02F2001/5218 ,  C02F2101/14 ,  C02F2103/346 ,  C02F2103/40 ,  Y02W10/37

Abstract: 本发明的目的(第一目的)是提供不对含氟和硅的废水进行稀释处理，即，即使在高浓度的状态下对含氟和硅的废水进行处理，也能以高回收率以高纯度的氟化钙的形式回收氟的废水处理技术(特别是预处理技术)。将含氟和硅的废水供给至pH调整槽1，添加氢氧化钠(NaOH)使硅酸钠沉淀。之后，供给至固液分离器2从而将硅酸钠固液分离。

公开(公告)号：CN100484887C

公开(公告)日：2009-05-06

申请号：CN200510136946.1

申请日：2005-12-15

Applicant: 富士施乐株式会社

Inventor： 小岛均 ,  川岛信一郎 ,  森一也 ,  山桥敦 ,  增田悠二

IPC: C02F1/52 ,  C02F103/34

CPC classification number: C02F1/5245 ,  C02F1/5236 ,  C02F1/54 ,  C02F2101/301 ,  C02F2101/308 ,  C02F2103/40 ,  C02F2209/02 ,  C02F2209/06 ,  Y10S210/917

Abstract: 一种用于处理包括水基分散体及其它固体物质的废水的废水处理方法，该水基分散体包含表面活性剂、着色剂和硅石，其中使用聚硅酸铁促凝剂来处理废水。

公开(公告)号：CN1547499A

公开(公告)日：2004-11-17

申请号：CN01823647.2

申请日：2001-11-29

Applicant: 齐默股份有限公司

Inventor： 史蒂芬·齐克里 ,  托马斯·恩德尔

IPC: B01D15/00 ,  B01J20/26 ,  B01J39/04 ,  A61L15/00 ,  C02F1/28 ,  C02F1/42 ,  A24D3/10

CPC classification number: B01J20/28023 ,  A24D3/10 ,  A61L15/46 ,  A61L2300/258 ,  A61L2300/30 ,  A61L2300/404 ,  A61L2300/408 ,  B01D15/00 ,  B01J20/24 ,  B01J20/26 ,  B01J20/28033 ,  B01J39/04 ,  B01J2220/4825 ,  B01J2220/485 ,  C02F1/285 ,  C02F1/286 ,  C02F1/288 ,  C02F1/42 ,  C02F2101/20 ,  C02F2101/22 ,  C02F2103/06 ,  C02F2103/16 ,  C02F2103/40 ,  D01F2/00

Abstract: 本发明涉及一种用里奥塞尔(Lyocell)模塑体从含重金属的介质中吸附分离重金属的方法。本发明还涉及一种包括被吸附重金属的纤维素模塑体，以及该模塑体作抗菌和/或杀真菌模塑体的应用。

公开(公告)号：CN1132045C

公开(公告)日：2003-12-24

申请号：CN00119945.5

申请日：2000-06-30

Applicant: 精工爱普生株式会社

Inventor： 末广桂一

IPC: G02F1/13 ,  B08B3/14 ,  B08B3/04

CPC classification number: B01D61/145 ,  B01D61/142 ,  B01D65/02 ,  B01D2321/04 ,  B08B3/14 ,  C02F1/444 ,  C02F2103/40 ,  C03C23/0075 ,  C23G1/36

Abstract: 本发明目的是提供一个可以通过简化的处理系统，可以不使用诸如碳氟化合物的有害液体安全和有效地去除污垢的清洁装置，它包括：用于保存清洁用水的清洁容器；用于保存由所述清洁容器流出的污水的集中容器；用于收集由所述集中容器流出的污水以将该污水分离为过滤后的水和浓缩后的污水的超滤薄膜；和用于将浓缩后的污水返回所述集中容器的水管道。该超滤薄膜配置有一个用于去除污垢废物的逆流过滤系统。

公开(公告)号：CN106277276A

公开(公告)日：2017-01-04

申请号：CN201610816014.X

申请日：2016-09-12

Applicant: 中国科学院兰州化学物理研究所

Inventor： 于超英 ,  赵培庆 ,  吴金韦 ,  王哲 ,  陈革新 ,  高国进

IPC: C02F1/72 ,  C02F1/74 ,  B01J23/04 ,  B01J23/58 ,  C02F103/40

CPC classification number: C02F1/725 ,  B01J23/04 ,  B01J23/58 ,  C02F1/74 ,  C02F2103/40

Abstract: 本发明公开了一种高浓度含氮造影剂废水的处理方法，该方法以十二羰基三钌为催化剂前驱体添加碱金属负载在经过酸预处理的载体上制得高分散低负载催化剂，其中贵金属元素的重量百分含量为0.05～0.5wt.%，在管式连续反应器中以空气或者氧气为氧化剂连续催化氧化降解处理高浓度造影剂废水，反应温度 200～280℃，反应总压2.0～6.0MPa，气体流量为200～400mL/min，液体空速为0.1～4.0h-1，COD的去除率可达到90%以上。本发明反应条件较为温和易控制，提高了高浓度含氮造影剂废水的COD去除效率，也提高了高浓度造影剂废水的可生化性。

公开(公告)号：CN103732573B

公开(公告)日：2016-05-18

申请号：CN201280038087.0

申请日：2012-10-26

Applicant: 德山株式会社

Inventor： 渡边淳 ,  梅津直幸 ,  山下喜文

IPC: C07C209/84 ,  B01J49/00 ,  C02F1/42 ,  C07C211/63 ,  G03F7/32

CPC classification number: B01J39/04 ,  B01J49/06 ,  C02F1/42 ,  C02F2001/425 ,  C02F2101/38 ,  C02F2103/40 ,  C07C209/84 ,  G03F7/322 ,  G03F7/425 ,  C07C211/63

Abstract: 从阻剂显影废液等的含有金属离子与四烷基铵离子的溶液中有效率地去除金属离子。使含有金属离子与四烷基铵离子的溶液，与阳离子交换树脂接触，使该等离子吸附于该树脂，之后通过碱金属盐溶液而溶离。监测溶离液中该碱金属离子浓度，通过在该碱金属离子浓度急剧上升之前切换回收路径，可回收碱金属离子以及其他金属离子的浓度皆低的四烷基铵盐溶液。回收的四烷基铵盐经电解可形成氢氧化四烷基铵。从电解时难以形成妨碍物质以及成本等观点，上述碱金属盐溶液最佳为碳酸钠水溶液。

公开(公告)号：CN102348646B

公开(公告)日：2014-12-24

申请号：CN201080011253.9

申请日：2010-03-09

Applicant: 汉斯格罗欧洲公司

Inventor： A.法特

IPC: C02F1/461

CPC classification number: C02F1/4672 ,  C02F2001/46138 ,  C02F2001/46157 ,  C02F2101/301 ,  C02F2101/36 ,  C02F2103/16 ,  C02F2103/30 ,  C02F2103/40

Abstract: 在分解尤其存在于废水、下水道污泥等等中的部分氟化和全氟化的表面活性剂的方法中，该表面活性剂存在于溶液或悬浮液中，并且进行电解分解。本文中，优选进行表面活性剂的阳极氧化。该方法特别适合于分解全氟化烷基磺酸盐，尤其是PFOS。本发明还描述了电解分解部分氟化和全氟化的表面活性剂的装置。