发光二极管及其制造方法

    公开(公告)号:CN108389940A

    公开(公告)日:2018-08-10

    申请号:CN201810492929.9

    申请日:2012-08-07

    Inventor: 德永悠 松村笃

    Abstract: 本发明提供防止反射率的降低、能够实现高辉度发光的发光二极管及其制造方法。这样的发光二极管的制造方法的特征在于,依次具有:在生长用基板上形成依次包含发光层以及电流扩散层的化合物半导体层的工序;在所述电流扩散层上形成间隔地配置的点状的多个欧姆接触电极的工序;在所述电流扩散层上,以使所述多个欧姆接触电极的表面之中的周缘部以外露出的方式形成透明膜的工序;在所述透明膜上及所述欧姆接触电极的露出的部分上形成反射层的工序;在所述反射层上形成接合层的工序;在所述接合层上接合基板的工序;和除去所述生长用基板的工序。

    发光二极管和发光二极管灯

    公开(公告)号:CN103155181A

    公开(公告)日:2013-06-12

    申请号:CN201180048839.7

    申请日:2011-08-16

    Abstract: 本发明提供一种具有655nm以上的发光波长,单色性优异,并且具有高输出功率、高辉度、高效率,响应速度快,具有从光取出面放射的光之中的与光取出面正交的方向上的光的强度较强的指向性,且能够向外部效率好地散出热的发光二极管和发光二极管灯。具备至少含有pn结型的发光部(3)和与发光部(3)层叠的应变调整层(13)的化合物半导体层(11),发光部(3)具有组成式为(AlXGa1-X)YIn1-YP的应变发光层和势垒层的叠层结构,其中,0≤X≤0.1、0.37≤Y≤0.46,应变调整层(13)能够透过发光部(3)的光,并且具有比应变发光层和势垒层的晶格常数小的晶格常数,在位于光取出面(11a)的反对侧的化合物半导体层(11)的面(11b)上具有隔着反射结构体(4)而接合的功能性基板(5)。

    发光二极管、发光二极管灯和照明装置

    公开(公告)号:CN104718632A

    公开(公告)日:2015-06-17

    申请号:CN201380052677.3

    申请日:2013-10-08

    Inventor: 松村笃 德永悠

    Abstract: 本发明在金属反射膜与化合物半导体层之间设置多个点状的欧姆接触电极,在化合物半导体层的与半导体基板的相反侧依次设置欧姆电极和表面电极,所述表面电极包含盘部和与该盘部连结的多个线状部,欧姆电极的表面由线状部覆盖,欧姆接触电极和所述欧姆电极形成在俯视时不与盘部重叠的位置,多个欧姆接触电极之中,5%以上40%以下的欧姆接触电极配置在俯视时与线状部重叠的位置。本发明能够提供在维持发光输出的状态下,达成低正向电压的发光二极管。

    发光二极管用外延晶片
    7.
    发明授权

    公开(公告)号:CN102422445B

    公开(公告)日:2014-06-04

    申请号:CN201080019083.9

    申请日:2010-02-24

    CPC classification number: H01L33/12 H01L33/30

    Abstract: 本发明涉及一种发光二极管用外延晶片,其特征在于,具备GaAs基板、设置在GaAs基板上的发光部和设置在发光部上的应变调整层,所述发光部具有组成式为(AlXGa1-X)YIn1-YP(其中,X和Y是分别满足0≤X≤0.1以及0.39<Y≤0.45的数值)的应变发光层,所述应变调整层对于发光波长透明并且具有比所述GaAs基板的晶格常数小的晶格常数。根据本发明,能够提供可量产发光波长为655nm以上的高输出功率和/或高效率的LED的外延晶片。

    发光二极管和隧道结层的制造方法

    公开(公告)号:CN108933186A

    公开(公告)日:2018-12-04

    申请号:CN201810501874.3

    申请日:2018-05-23

    CPC classification number: H01L33/06 H01L33/0062 H01L33/30 H01L33/405

    Abstract: 本发明提供一种发光二极管,其提高介由隧道结部将多个发光部层积而成的发光二极管的发光功率。发光元件层(10)是依次将n型接触层(11)、第1发光层(12)、隧道结层(13)、第2发光层(14)和p型接触层(15)层积而构成,第1发光层(12)和第2发光层(14)在同一波长发光。隧道结层(13)具有由含有p型杂质(C)的AlGaAs构成的p型隧道层(131)和由含有n型杂质(Te)的GaInP构成的n型隧道层(133),在p型隧道层(131)和n型隧道层(133)之间,设有与n型隧道层(133)相比含有高浓度的n型杂质的高浓度n型杂质含有层(132)。

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