沉积膜形成装置及沉积膜形成方法

    公开(公告)号:CN102482775A

    公开(公告)日:2012-05-30

    申请号:CN201080039718.1

    申请日:2010-09-24

    CPC classification number: C23C16/5096 H01L31/18

    Abstract: 为了在不产生膜品质的面内不均匀的前提下形成高品质膜,本发明的一个方式的沉积膜形成装置具有:腔室;第一电极,其位于该腔室内;第二电极,其位于所述腔室内,与所述第一电极隔开规定间隔,而且具有用于供给原料气体的多个供给部;导入路径,其与所述供给部相连接,且用于导入原料气体;加热单元,其设在该导入路径内;冷却机构,其用于冷却所述第二电极。

    沉积膜形成装置及沉积膜形成方法

    公开(公告)号:CN102471886A

    公开(公告)日:2012-05-23

    申请号:CN201080029564.8

    申请日:2010-08-30

    Abstract: 本发明的一个方式的沉积膜形成装置,具有:腔室;第一电极,其位于所述腔室内;第二电极,其位于所述腔室内,且与所述第一电极隔开规定间隔,该第二电极具有:第一供给部,其用于将第一原料气体供给至所述第一电极和所述第二电极之间的空间;多个第二供给部,它们用于将第二原料气体供给至所述空间;第一供给路径,其与所述第一供给部相连接,用于导入所述第一原料气体;第二供给路径,其与所述第二供给部相连接,用于导入所述第二原料气体,该沉积膜形成装置的特征在于,所述第二供给路径具有:干流部,其具有用于导入所述第二原料气体的第一导入口;支流部,其具有多个气体流路,这些气体流路具有用于从该干流部导入所述第二原料气体的第二导入口,在该支流部的多个所述气体流路分别连接有多个所述第二供给部,所述干流部及所述支流部,具有使所述第二原料气体不以顺流的方式从所述第一导入口流至所述第二供给部的结构。

    沉积膜形成装置
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102668032A

    公开(公告)日:2012-09-12

    申请号:CN201080051961.5

    申请日:2010-11-22

    Abstract: 一种沉积膜形成装置,具有:腔室,第一电极,其位于该腔室内,第二电极,其位于腔室内,且与第一电极隔开规定间隔;第二电极具有:电极基体,多个电极板,它们配置在该电极基体上;该电极板具有:第一供给部,其将第一原料气体供给至第一电极和第二电极之间的空间,第二供给部,其将第二原料气体供给至空间,第一供给路径,其与第一供给部相连接,用于导入第一原料气体,第二供给路径,其与第二供给部相连接,用于导入第二原料气体;电极基体具有:加热单元,其对第一原料气体进行加热,第一导入路径,其将第一原料气体导入至第一供给路径,第二导入路径,其将第二原料气体导入至第二供给路径;第二供给路径具有:干流部,其从第二导入路径导入第二原料气体,且在该干流部上未设有第二供给部,多个支流部,它们从该干流部导入第二原料气体,且在这些支流部上设有第二供给部;用于连接第二导入路径和干流部的连接部,位于相邻的电极板的相邻部位。

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