-
公开(公告)号：CN102591160B
公开(公告)日：2014-02-26
申请号：CN201210078008.0
申请日：2005-04-20
申请人： 东京应化工业株式会社
IPC分类号： G03F7/32 , G03F7/26 , C08F226/10 , C08F226/06
摘要： 本发明涉及一种新型光刻用冲洗液，及使用其的抗蚀图案的形成方法，所述光刻用冲洗液是，对于光致抗蚀图案，可以减少制品的表面缺陷，即所谓缺陷，并赋予抗蚀剂对电子射线照射的耐性，抑制图案收缩所使用的。调制包括含有在分子结构中具有氮原子的水溶性树脂的溶液的光刻用冲洗液，使用其通过以下工序形成抗蚀图案：(A)在基板上设置光致抗蚀膜的工序、(B)通过掩模图案对该光致抗蚀膜进行选择性曝光处理工序、(C)曝光后加热(PEB)处理工序、(D)碱性显影处理工序，及(E)使用上述光刻用冲洗液的处理工序。
-
公开(公告)号：CN101681112B
公开(公告)日：2012-05-30
申请号：CN200880015584.2
申请日：2008-05-16
申请人： 东京应化工业株式会社
IPC分类号： G03F7/11 , G03F7/004 , H01L21/027
CPC分类号： H01L21/0276 , G03F7/0046 , G03F7/091
摘要： 本发明提供具有特定pH值的防反射膜形成用组合物，该组合物保存稳定性、与光刻胶膜的配合性、以及涂布性优异，可以形成具有充分的光学特性的防反射膜。用于形成设置于光刻胶膜上的防反射膜的防反射膜形成用组合物，该防反射膜形成用组合物包含水溶性膜形成成分和特定氟化合物。该防反射膜形成用组合物通过添加特定氟化合物，可以容易地调整pH值而不会使涂布性降低，因而可以提供保存稳定性、以及与光刻胶膜的配合性优异的防反射膜形成用组合物。并且，该氟化合物也有助于提高防反射膜的光学特性，因此可以提供可形成具有优异光学特性的防反射膜的防反射膜形成用组合物。
-
公开(公告)号：CN101084473B
公开(公告)日：2010-07-21
申请号：CN200580043768.6
申请日：2005-12-26
申请人： 东京应化工业株式会社
IPC分类号： G03F7/42 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/168
摘要： 本发明提供一种光蚀刻用清洗液，其对于用于i线、KrF、ArF的各种抗蚀剂、含硅抗蚀剂、化学放大型正型抗蚀剂等各式各样组成的抗蚀剂显示同样优良的清洗性，处理后的干燥性良好，不会由于清洗而损害抗蚀剂特性。该清洗液含有(A)选自乙酸或丙酸的低级烷基酯中的至少1种和(B)选自1分子中的碳原子数为5～7的酮中的至少1种，并且(A):(B)的质量比为4:6～7:3的范围。
-
公开(公告)号：CN101010639A
公开(公告)日：2007-08-01
申请号：CN200580028703.4
申请日：2005-08-29
申请人： 东京应化工业株式会社
IPC分类号： G03F7/32 , H01L21/027
CPC分类号： H01L21/0273 , G03F7/32
摘要： 本发明提供一种新型光蚀刻用冲洗液，其对于光致抗蚀图案来说，不会损坏产品品质，减少其表面缺陷(即Defect)，赋予其对于电子射线照射的抗性，并可用于抑制抗蚀图案的收缩；本发明还提供一种使用该冲洗液的抗蚀图案形成方法。本发明涉及一种光蚀刻用冲洗液，其包括含有(A)分子结构中具有氮原子的水溶性和/或碱可溶聚合物，及(B)至少一种选自脂肪族醇类及其烷基醚化物的水溶液；使用该冲洗液，通过(1)在基板上设置抗蚀膜的步骤；(2)通过掩模图案对该光致抗蚀膜选择性地进行曝光处理的步骤；(3)进行曝光后加热处理的步骤；(4)碱性显影处理的步骤；以及(5)以前述光蚀刻用冲洗液加以处理的步骤，形成抗蚀图案。
-
公开(公告)号：CN101313385B
公开(公告)日：2011-12-21
申请号：CN200680043555.8
申请日：2006-11-22
申请人： 东京应化工业株式会社
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20 , C11D1/66 , H01L21/304 , C11D3/43
CPC分类号： C11D3/43 , C11D1/66 , C11D1/667 , C11D1/72 , C11D3/18 , C11D3/181 , C11D3/182 , C11D3/184 , C11D3/188 , G03F7/2041 , G03F7/70341 , G03F7/70925 , G03F7/70983
摘要： 本发明提供一种在浸液曝光过程中能够高效地洗涤除去因为从光致抗蚀剂溶出的成分而导致的曝光装置部位(特别是光学透镜部)的污染物、且废液处理简便、与浸液介质的置换效率高、不阻碍半导体制造生产率的光刻法用洗涤液及使用该洗涤液的曝光装置的洗涤方法。本发明涉及光刻法用洗涤液及使用该洗涤液的曝光装置的洗涤方法，其中，所述光刻法用洗涤液在用浸液介质充满于曝光装置的光学透镜部和置于晶片载物台上的曝光对象物之间进行曝光的浸液曝光过程中，用于上述曝光装置的洗涤，所述光刻法用洗涤液含有(a)表面活性剂、(b)烃溶剂及(c)水。
-
公开(公告)号：CN101076759B
公开(公告)日：2010-12-01
申请号：CN200580042542.4
申请日：2005-11-29
申请人： 东京应化工业株式会社
IPC分类号： G03F7/32 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/40
摘要： 本发明提供一种新颖的光蚀刻用清洗液，该清洗液对抗蚀图案而言，是为了减少制品的表面缺陷的所谓瑕疵、防止水冲洗时的图案破坏的发生、又赋予抗蚀剂对电子射线照射的耐受性、抑制图案的收缩而使用的，且在储存中又不会发生因细菌造成的污染。该光蚀刻用清洗液，包括含有下述通式(式中的R1为可被氧原子中断的碳原子数8～20的烷基或羟烷基；R2及R3为碳数1～5的烷基或羟烷基)所示的含氧化胺化合物的水性溶液。[化学式1]
-
公开(公告)号：CN107249720A
公开(公告)日：2017-10-13
申请号：CN201680011538.X
申请日：2016-02-22
申请人： 东京应化工业株式会社
CPC分类号： B01D71/64 , B01D61/027 , B01D61/14 , B01D69/02 , B01D2325/021 , B01D2325/30 , H01L21/02041
摘要： 本发明提供使用了聚酰亚胺及/或聚酰胺酰亚胺多孔质膜的液体的纯化方法、使用了该纯化方法的药液或清洗液的制造方法、由该多孔质膜形成的过滤介质以及包含该多孔质膜的过滤装置，所述聚酰亚胺及/或聚酰胺酰亚胺多孔质膜对金属等杂质的除去性能优异，优选还可同时实现优异的流速，而且应力、断裂伸长率等也优异。本发明涉及一种液体的纯化方法，所述液体的纯化方法包括下述步骤：利用差压使所述液体的一部分或全部从具有连通孔的聚酰亚胺及/或聚酰胺酰亚胺多孔质膜的一侧向另一侧透过。
-
公开(公告)号：CN1947067B
公开(公告)日：2012-05-30
申请号：CN200580012690.1
申请日：2005-04-20
申请人： 东京应化工业株式会社
IPC分类号： G03F7/32 , H01L21/027
摘要： 本发明涉及一种新型光刻用冲洗液，及使用其的抗蚀图案的形成方法，所述光刻用冲洗液是，对于光致抗蚀图案，可以减少制品的表面缺陷，即所谓缺陷，并赋予抗蚀剂对电子射线照射的耐性，抑制图案收缩所使用的。调制包括含有在分子结构中具有氮原子的水溶性树脂的溶液的光刻用冲洗液，使用其通过以下工序形成抗蚀图案：(A)在基板上设置光致抗蚀膜的工序、(B)通过掩模图案对该光致抗蚀膜进行选择性曝光处理工序、(C)曝光后加热(PEB)处理工序、(D)碱性显影处理工序，及(E)使用上述光刻用冲洗液的处理工序。
-
公开(公告)号：CN1947065B
公开(公告)日：2011-03-30
申请号：CN200580012685.0
申请日：2005-04-20
申请人： 东京应化工业株式会社
IPC分类号： G03F7/32 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/40
摘要： 提供基于与目前防止图案崩溃的方法完全不同的原理的冲洗处理，不损害需要形成的图案的物性，制造高品质的制品的方法，该方法是对设置于基板上的光致抗蚀剂层实施成像曝光后，进行显影处理形成抗蚀图案的方法，其中，在显影处理后，对抗蚀图案表面上的接触液，进行使接触角降低为40度以下的处理，以及随后的使其上升为70度以上的处理后，进行干燥，形成抗蚀图案的方法。
-
公开(公告)号：CN101681112A
公开(公告)日：2010-03-24
申请号：CN200880015584.2
申请日：2008-05-16
申请人： 东京应化工业株式会社
IPC分类号： G03F7/11 , G03F7/004 , H01L21/027
CPC分类号： H01L21/0276 , G03F7/0046 , G03F7/091
摘要： 本发明提供具有特定pH值的防反射膜形成用组合物，该组合物保存稳定性、与光刻胶膜的配合性、以及涂布性优异，可以形成具有充分的光学特性的防反射膜。用于形成设置于光刻胶膜上的防反射膜的防反射膜形成用组合物，该防反射膜形成用组合物包含水溶性膜形成成分和特定氟化合物。该防反射膜形成用组合物通过添加特定氟化合物，可以容易地调整pH值而不会使涂布性降低，因而可以提供保存稳定性、以及与光刻胶膜的配合性优异的防反射膜形成用组合物。并且，该氟化合物也有助于提高防反射膜的光学特性，因此可以提供可形成具有优异光学特性的防反射膜的防反射膜形成用组合物。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
搜索结果
22 条记录 (耗时 0.028 秒)
