公开(公告)号：CN101681112B

公开(公告)日：2012-05-30

申请号：CN200880015584.2

申请日：2008-05-16

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 泽野敦 ,  越山淳 ,  广崎贵子

IPC: G03F7/11 ,  G03F7/004 ,  H01L21/027

CPC classification number: H01L21/0276 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/091

Abstract: 本发明提供具有特定pH值的防反射膜形成用组合物，该组合物保存稳定性、与光刻胶膜的配合性、以及涂布性优异，可以形成具有充分的光学特性的防反射膜。用于形成设置于光刻胶膜上的防反射膜的防反射膜形成用组合物，该防反射膜形成用组合物包含水溶性膜形成成分和特定氟化合物。该防反射膜形成用组合物通过添加特定氟化合物，可以容易地调整pH值而不会使涂布性降低，因而可以提供保存稳定性、以及与光刻胶膜的配合性优异的防反射膜形成用组合物。并且，该氟化合物也有助于提高防反射膜的光学特性，因此可以提供可形成具有优异光学特性的防反射膜的防反射膜形成用组合物。

公开(公告)号：CN101681113A

公开(公告)日：2010-03-24

申请号：CN200880015585.7

申请日：2008-05-16

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 泽野敦 ,  越山淳 ,  广崎贵子

IPC: G03F7/11 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: H01L21/0276 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0048 ,  G03F7/091

Abstract: 本发明提供在光刻胶膜上形成防反射膜时所用的防反射膜形成用组合物，该组合物操作简单，且与使用PFOS的防反射膜同样可形成具有优异光学特性的防反射膜。用于形成设置于光刻胶膜上的防反射膜的防反射膜形成用组合物，该防反射膜形成用组合物包含特定的氟化合物。该防反射膜形成用组合物，由于上述特定的氟化合物有助于提高防反射膜的光学特性，因而可以形成具有优异光学特性的防反射膜。

公开(公告)号：CN101681112A

公开(公告)日：2010-03-24

申请号：CN200880015584.2

申请日：2008-05-16

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 泽野敦 ,  越山淳 ,  广崎贵子

IPC: G03F7/11 ,  G03F7/004 ,  H01L21/027

CPC classification number: H01L21/0276 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/091

Abstract: 本发明提供具有特定pH值的防反射膜形成用组合物，该组合物保存稳定性、与光刻胶膜的配合性、以及涂布性优异，可以形成具有充分的光学特性的防反射膜。用于形成设置于光刻胶膜上的防反射膜的防反射膜形成用组合物，该防反射膜形成用组合物包含水溶性膜形成成分和特定氟化合物。该防反射膜形成用组合物通过添加特定氟化合物，可以容易地调整pH值而不会使涂布性降低，因而可以提供保存稳定性、以及与光刻胶膜的配合性优异的防反射膜形成用组合物。并且，该氟化合物也有助于提高防反射膜的光学特性，因此可以提供可形成具有优异光学特性的防反射膜的防反射膜形成用组合物。