公开(公告)号：CN102610514B

公开(公告)日：2015-06-24

申请号：CN201110291533.6

申请日：2011-09-26

Applicant: 斯克林集团公司

Inventor： 桥诘彰夫

IPC: H01L21/311

CPC classification number: B05C9/06 ,  B05C11/00 ,  B05C13/00 ,  B05C15/00 ,  C01B21/0687 ,  H01L21/02164 ,  H01L21/0217 ,  H01L21/3105 ,  H01L21/31111 ,  H01L21/31116 ,  H01L21/67028 ,  H01L21/67063 ,  H01L21/67115 ,  H01L21/67126 ,  H01L21/6719 ,  H01L21/67207 ,  H01L21/68742

Abstract: 本发明的基板处理方法包括：甲硅烷化工序，向基板供给甲硅烷化剂；蚀刻工序，在进行所述甲硅烷化工序之后，向所述基板供给蚀刻剂。所述基板处理方法可以包括反复工序，在反复工序中，多次进行包括甲硅烷化工序和所述蚀刻工序的一系列工序在内的循环周期。所述循环周期还可以包括在进行所述蚀刻工序之后向所述基板供给冲洗液的冲洗工序。而且，所述循环周期还可以包括在进行所述蚀刻工序之后向所述基板照射紫外线的紫外线照射工序。所述基板处理方法还可以包括在进行所述甲硅烷化工序之前或之后向所述基板照射紫外线的甲硅烷化前紫外线照射工序。

公开(公告)号：CN104668156A

公开(公告)日：2015-06-03

申请号：CN201310642423.9

申请日：2013-11-30

Applicant: 陕西子竹电子有限公司

Inventor： 蒲维新

IPC: B05C11/00 ,  B05C13/02

CPC classification number: B05C11/00 ,  B05C5/00

Abstract: 本发明公开了一种隔绝式化学氧自救器装配生产线点胶台举升装置，包括气缸，所述气缸内上下运动的伸缩杆与支撑杆连接，所述支撑杆的顶部安装有点胶台；所述气缸侧壁的下端与送气管的一端连接，所述送气管的另一端与气泵连接，所述送气管上设置有用于控制点胶台上升的进气管电磁阀；所述气缸侧壁的上端与放气管的一端连接，所述放气管的另一端与气缸连接，所述上设置有用于控制点胶台下降的放气管电磁阀。本发明结构简单、设计合理，通过采用气缸作为基本升降组件，实现了隔绝式自救器装配过程中点胶台的升起和降落，提高了工作和生产效率，节约成本，可推广应用。

公开(公告)号：CN104661834A

公开(公告)日：2015-05-27

申请号：CN201380050844.0

申请日：2013-09-09

Applicant: 株式会社神户制钢所

Inventor： 田中创 ,  副岛宗矩

IPC: B60C19/00 ,  B05C1/02

CPC classification number: B05C1/027 ,  B05C11/00 ,  B60C25/0596 ,  G01M17/021

Abstract: 轮胎的润滑器装置（1）不仅是胎缘部的径内端面、对胎缘部的侧方端面也涂敷润滑液。该润滑器装置（1）具备：上侧辊刷部（13），与绕垂直轴心旋转的轮胎（T）的上侧的胎缘部（10）接触而涂敷润滑液；下侧辊刷部（14），与轮胎（T）的下侧的胎缘部（10）接触而涂敷润滑液；润滑器主体（15）；和刷移动部（16），将上侧辊刷部（13）及下侧辊刷部（14）连结在润滑器主体（15）上，使该上侧辊刷部（13）及下侧辊刷部（14）相对于轮胎（T）接近远离自如地移动。刷移动部（16）具备连杆机构，所述连杆机构使上侧辊刷部（13）一边向下方移动一边向轮胎（T）接近，并且使下侧辊刷部（14）一边向上方移动一边向轮胎（T）接近。

公开(公告)号：CN104590689A

公开(公告)日：2015-05-06

申请号：CN201410857616.0

申请日：2014-12-31

Applicant: 杨林涛

Inventor： 杨林涛

IPC: B65D47/34 ,  B65D53/04

CPC classification number: B05C11/00 ,  B05B11/0005 ,  B05B11/0037 ,  B65D53/04

Abstract: 本发明公开了一种使用方便的一次性颗粒集成洗浴护肤用品包装盒，包括：底板，在所述底板上设置有若干固定孔和挤压瓶，所述挤压瓶的结构包括：头部，与头部下端相连接的挤压瓶主体容器，护手霜、护肤露或沐浴露等膏状或液态的护肤用品放置在所述挤压瓶内。优点是：可以将护手霜、护肤露或沐浴露等膏状或液态的护肤用品分别放置在一次性颗粒容器内，使用时只要根据需要拆开其中一个一次性颗粒容器，即可很方便将容器内的护肤用品几处，使用方便，使用成本低，清洁卫生，满足顾客的使用要求。

公开(公告)号：CN104415890A

公开(公告)日：2015-03-18

申请号：CN201310377661.1

申请日：2013-08-27

Applicant: 上海航空电器有限公司

Inventor： 徐杰 ,  张勤页 ,  王剑锋

IPC: B05C13/00 ,  B05C11/00

CPC classification number: B05C5/02 ,  B05C11/00 ,  B05C13/00

Abstract: 本发明公开了一种自适应点胶工装，主要由工装内层、工装外层、加工工件及弹簧机构组成。藉助上述结构，能够有效地消除零件的累计误差，确保零件的点胶质量，以改善现有点胶机对于大规模阵列式点胶技术的缺陷。

公开(公告)号：CN104289386A

公开(公告)日：2015-01-21

申请号：CN201410471034.9

申请日：2014-09-16

Applicant: 宁波大学

Inventor： 沈祥 ,  李双 ,  王国祥 ,  徐培鹏 ,  张培全 ,  许银生 ,  王训四 ,  徐铁峰 ,  聂秋华 ,  戴世勋

IPC: B05C9/02 ,  B05C9/12 ,  B05C11/00 ,  B05C11/02 ,  B05C13/00 ,  B05D1/18 ,  B05D3/00

CPC classification number: B05C11/08 ,  B05C3/18 ,  B05C11/00 ,  B05C13/00 ,  B05D1/185

Abstract: 本发明公开了一种制备薄膜的高温旋涂装置及方法，包括可抽真空并可充惰性气体的密封室、连接与于密封室的顶端上用于固定待镀基片的样品固定架、设置于密封室内用于盛放薄膜原材料的石英坩埚、用于驱动样品固定架水平高速旋转的伺服电机、用于推动石英坩埚上下移动的推动机构，密封室的顶端安装有下端开口的上加热炉，密封室的底端安装有上端开口的下加热炉，样品固定架位于上加热炉内由所述的上加热炉预热样品固定架上固定的待镀基片，石英坩埚位于所述的样品固定架的正下方，且位于下加热炉内由下加热炉熔融石英坩埚内盛放的薄膜原材料；该装置结合方法制备薄膜能提高薄膜内组分的均一性、避免薄膜中微米颗粒的存在，且薄膜的厚度均匀并可控。

公开(公告)号：CN101864552B

公开(公告)日：2014-11-19

申请号：CN201010161616.9

申请日：2010-04-14

Applicant: 三星显示有限公司

Inventor： 高政佑 ,  李相信 ,  姜择教 ,  洪承柱

IPC: C23C14/04 ,  C23C16/04 ,  H01L51/56

CPC classification number: B05C11/00 ,  C23C14/042 ,  H01L51/0011 ,  H01L51/56 ,  Y10T29/49826 ,  Y10T29/49885 ,  Y10T156/10

Abstract: 本发明提供了一种用于薄膜沉积的掩模框架组件，所述组件包括：框架，包括开口部分和支撑部分；掩模，具有在与所述开口部分对应的位置处的沉积区，其中，所述掩模包括第一层和第二层，所述第一层包括所述沉积区和设置在所述沉积区外部的外围部分，所述第二层包括第一表面和与所述第一表面相对的第二表面，所述第二层的第一表面的至少一部分面向所述第一层并接触所述外围部分，所述第二表面被焊接到所述框架的支撑部分。

公开(公告)号：CN102886742A

公开(公告)日：2013-01-23

申请号：CN201110203657.4

申请日：2011-07-20

Applicant: 鸿准精密模具(昆山)有限公司 ,  鸿海精密工业股份有限公司

Inventor： 杨明陆 ,  张亚东 ,  张天恩 ,  杜高峰

IPC: B24B57/04 ,  B24B29/00

CPC classification number: B24B57/04 ,  B05C11/00 ,  B05C21/00 ,  B24B29/00

Abstract: 一种打蜡装置，用于对抛光轮打蜡，该打蜡装置包括支撑机构、调节组件、驱动机构、安装组件、减速马达及蜡块。该支撑机构包括有滑轨，该调节组件滑动地装设在该滑轨上，该驱动机构装设在该调节组件上，该安装组件包括有安装板，该安装板安装在该驱动机构上，该减速马达装设在该安装板上，该蜡块安装在该减速马达上。该打蜡装置还包括抵持机构，该抵持机构装设在该支撑机构上且抵持于该调节组件上并能够控制该调节组件在该滑轨上运动以调节蜡块对抛光轮的压力，该驱动机构能够作垂直该滑轨的伸缩运动以控制该蜡块对抛光轮打蜡。本发明所提供的打蜡装置能够有效调节蜡块对抛光轮的压力并节约工时。

公开(公告)号：CN102194663B

公开(公告)日：2013-01-16

申请号：CN201110052791.9

申请日：2011-03-03

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 木下尚文 ,  藤村浩二 ,  原圭孝

IPC: H01L21/00 ,  G03F7/16 ,  G03F7/30

CPC classification number: B05D1/02 ,  B05C11/00 ,  B05D1/00 ,  B05D1/30

Abstract: 本发明提供在基板上进行液处理的液处理装置中，在构成装置的各部处于无法使用的状态时，能够抑制生产率降低的装置。构成具备第一喷嘴、第二喷嘴的液处理装置。在该液处理装置中，控制基板搬送机构，通常状态下，在第一罩组和第二罩组之间交替交接基板，在两罩组中，按顺序使用罩，并且，在基板保持部、处理液供给系统或喷嘴支撑机构处于无法使用的状态造成的第一罩组和第二罩组中的一个无法进行基板处理的状态时，为了使该一个罩组中的能够使用的罩处理基板，担当另一个罩组的喷嘴进行移动。

公开(公告)号：CN102569126A

公开(公告)日：2012-07-11

申请号：CN201110337686.X

申请日：2011-10-28

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 长谷部一秀

IPC: H01L21/67 ,  C30B33/02

CPC classification number: C23C16/24 ,  B05C11/00 ,  B05C13/02 ,  C23C16/45574 ,  C23C16/45578 ,  C23C16/4583 ,  C23C16/4584 ,  C23C16/4588 ,  H01L21/67303 ,  H01L21/67309

Abstract: 本发明提供一种对装载在基板保持件上的多张基板供给成膜气体并进行成膜处理的立式热处理装置。上述基板保持件绕倾斜轴线旋转，在各晶圆(W)的容纳位置均设有在沿晶圆(W)的周向相互离开的位置分别支承该晶圆W的周缘部的多个主保持部(33a)和第1及第2辅助保持部(33b)，该第1及第2辅助保持部(33b)设置在相对于这些主保持部(33a)沿晶圆(W)的周向离开的位置且在上述倾斜轴线方向上其高度低于上述主保持部(33a)的上表面，在该晶圆舟皿(11)每旋转1周时，晶圆(W)的姿势在由上述第1保持部及主保持部(33a)支承的姿势与由上述第2保持部及主保持部(33a)支承的姿势之间发生改变。