公开(公告)号：CN102691031B

公开(公告)日：2016-02-24

申请号：CN201110456767.1

申请日：2011-12-27

申请人： 三星显示有限公司

发明人： 小林郁典 ,  高政佑 ,  李相信 ,  姜择教

IPC分类号： C23C14/04

CPC分类号： C23C14/042 ,  C23C16/042

摘要： 本发明公开了一种沉积掩模。在拉力的作用下放置在掩模框架上的沉积掩模包括由于施加到沉积掩模的拉力而沿行方向和列方向对包括第一初始设计图案和第n初始设计图案在内的第一初始设计图案至第n初始设计图案进行校正得到的第一校正图案至第n校正图案，第一初始设计图案至第n初始设计图案沿第一方向顺序地布置，其中，第一校正图案至第n校正图案的最外侧包括沿与第一方向平行的方向延伸的第一最外侧和沿与第一方向垂直的第二方向延伸的第二最外侧，其中，第一最外侧具有第一曲率并且相对于第一初始设计图案和第n初始设计图案向内凹进，第二最外侧具有第二曲率并且相对于第一初始设计图案至第n初始设计图案向外凸出。

公开(公告)号：CN101864552B

公开(公告)日：2014-11-19

申请号：CN201010161616.9

申请日：2010-04-14

申请人： 三星显示有限公司

发明人： 高政佑 ,  李相信 ,  姜择教 ,  洪承柱

IPC分类号： C23C14/04 ,  C23C16/04 ,  H01L51/56

CPC分类号： B05C11/00 ,  C23C14/042 ,  H01L51/0011 ,  H01L51/56 ,  Y10T29/49826 ,  Y10T29/49885 ,  Y10T156/10

摘要： 本发明提供了一种用于薄膜沉积的掩模框架组件，所述组件包括：框架，包括开口部分和支撑部分；掩模，具有在与所述开口部分对应的位置处的沉积区，其中，所述掩模包括第一层和第二层，所述第一层包括所述沉积区和设置在所述沉积区外部的外围部分，所述第二层包括第一表面和与所述第一表面相对的第二表面，所述第二层的第一表面的至少一部分面向所述第一层并接触所述外围部分，所述第二表面被焊接到所述框架的支撑部分。