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公开(公告)号：CN102194663B
公开(公告)日：2013-01-16
申请号：CN201110052791.9
申请日：2011-03-03
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供在基板上进行液处理的液处理装置中，在构成装置的各部处于无法使用的状态时，能够抑制生产率降低的装置。构成具备第一喷嘴、第二喷嘴的液处理装置。在该液处理装置中，控制基板搬送机构，通常状态下，在第一罩组和第二罩组之间交替交接基板，在两罩组中，按顺序使用罩，并且，在基板保持部、处理液供给系统或喷嘴支撑机构处于无法使用的状态造成的第一罩组和第二罩组中的一个无法进行基板处理的状态时，为了使该一个罩组中的能够使用的罩处理基板，担当另一个罩组的喷嘴进行移动。
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公开(公告)号：CN102592969A
公开(公告)日：2012-07-18
申请号：CN201110446759.9
申请日：2011-12-28
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: H01L21/6715
Abstract: 本发明提供一种涂布处理方法和涂布装置。在前批次(A)用的抗蚀剂喷出喷嘴(N1)和随后批次(B)用的抗蚀剂喷出喷嘴(N2)通过共用的移动机构成为一体在涂布处理部(1a，1b)和喷嘴池(5)之间移动，在未使用的抗蚀剂喷出喷嘴的前端部形成由两个空气层夹持稀释剂层(T)的层结构的情况下，从喷嘴(N1)对在前批次(A)的最后的晶片(WA25)供给完抗蚀剂(RA)后，向喷嘴池(5)移动喷嘴(N1)的工序的过程中，进行向喷嘴(N1)吸入空气，在该喷嘴(N1)内形成第1空气层。另外，在进行使喷嘴(N2)向随后批次(B)的开头的晶片(WB)的上方移动的工序的过程中，向喷嘴(N2)吸入空气，在该喷嘴(N2)内形成第2空气层。
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公开(公告)号：CN102986003B
公开(公告)日：2015-10-14
申请号：CN201180034562.2
申请日：2011-07-12
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/027 , B05C11/08 , B05D1/26 , B05D1/40 , G03F7/30
CPC classification number: B08B3/04 , G03F7/3021 , H01L21/6715 , H01L21/6719
Abstract: 本发明提供一种液处理装置，当在杯体内水平保持基板，供给药液对基板进行液处理时，该液处理装置能够抑制药液用的喷嘴的数目，并且以高的吞吐量进行处理。作为液处理列举显影处理时，准备两种显影喷嘴以能够应对两个种类的显影处理方式，对于两个方式当中喷嘴的约束时间较长的方式所使用的显影喷嘴，对第一液处理模块（1、2）单独设置，对于喷嘴的约束时间较短的方式所使用的显影喷嘴，对两个模块（1、2）共用化。并且共用化的显影喷嘴在两个模块（1、2）的中间位置待机。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101650532A
公开(公告)日：2010-02-17
申请号：CN200910166414.0
申请日：2009-08-12
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: H01L21/67051 , G03F7/162 , G03F7/3021 , H01L21/6715 , H01L21/67178
Abstract: 本发明提供一种液体处理装置、液体处理方法和存储介质，能够在抑制液体处理装置的总排气量的增大的同时增加基板保持部的排列数量。通过分别设置有第一调节风门(72)的多个个别排气通路(7)和与这些多个个别排气通路(7)的下游侧共同连接的共用排气通路(73)，对n个(n为3以上的整数)杯体4以排气量(E)进行抽吸排气，此时，构成第一调节风门(72)，使得在药液喷嘴(5)位于与晶片(W)相对的设定位置的一个杯体中，从该杯体侧以第一吸入量(E1)吸入外部气体；在其余的杯体中，从该杯体侧以比第一吸入量(E1)小的第二吸入量(E2)吸入外部气体，并且杯体(4)侧和支路(76)侧两者的外部气体的吸入量为(E-E1)/(n-1)。
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公开(公告)号：CN102592969B
公开(公告)日：2016-01-20
申请号：CN201110446759.9
申请日：2011-12-28
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: H01L21/6715
Abstract: 本发明提供一种涂布处理方法和涂布装置。在前批次(A)用的抗蚀剂喷出喷嘴(N1)和随后批次(B)用的抗蚀剂喷出喷嘴(N2)通过共用的移动机构成为一体在涂布处理部(1a，1b)和喷嘴池(5)之间移动，在未使用的抗蚀剂喷出喷嘴的前端部形成由两个空气层夹持稀释剂层(T)的层结构的情况下，从喷嘴(N1)对在前批次(A)的最后的晶片(WA25)供给完抗蚀剂(RA)后，向喷嘴池(5)移动喷嘴(N1)的工序的过程中，进行向喷嘴(N1)吸入空气，在该喷嘴(N1)内形成第1空气层。另外，在进行使喷嘴(N2)向随后批次(B)的开头的晶片(WB)的上方移动的工序的过程中，向喷嘴(N2)吸入空气，在该喷嘴(N2)内形成第2空气层。
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公开(公告)号：CN101650532B
公开(公告)日：2012-05-09
申请号：CN200910166414.0
申请日：2009-08-12
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: H01L21/67051 , G03F7/162 , G03F7/3021 , H01L21/6715 , H01L21/67178
Abstract: 本发明提供一种液体处理装置、液体处理方法和存储介质，能够在抑制液体处理装置的总排气量的增大的同时增加基板保持部的排列数量。通过分别设置有第一调节风门(72)的多个个别排气通路(7)和与这些多个个别排气通路(7)的下游侧共同连接的共用排气通路(73)，对n个(n为3以上的整数)杯体4以排气量(E)进行抽吸排气，此时，构成第一调节风门(72)，使得在药液喷嘴(5)位于与晶片(W)相对的设定位置的一个杯体中，从该杯体侧以第一吸入量(E1)吸入外部气体；在其余的杯体中，从该杯体侧以比第一吸入量(E1)小的第二吸入量(E2)吸入外部气体，并且杯体(4)侧和支路(76)侧两者的外部气体的吸入量为(E-E1)/(n-1)。
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公开(公告)号：CN102986003A
公开(公告)日：2013-03-20
申请号：CN201180034562.2
申请日：2011-07-12
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/027 , B05C11/08 , B05D1/26 , B05D1/40 , G03F7/30
CPC classification number: B08B3/04 , G03F7/3021 , H01L21/6715 , H01L21/6719
Abstract: 本发明提供一种液处理装置，当在杯体内水平保持基板，供给药液对基板进行液处理时，该液处理装置能够抑制药液用的喷嘴的数目，并且以高的吞吐量进行处理。作为液处理列举显影处理时，准备两种显影喷嘴以能够应对两个种类的显影处理方式，对于两个方式当中喷嘴的约束时间较长的方式所使用的显影喷嘴，对第一液处理模块（1、2）单独设置，对于喷嘴的约束时间较短的方式所使用的显影喷嘴，对两个模块（1、2）共用化。并且共用化的显影喷嘴在两个模块（1、2）的中间位置待机。
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公开(公告)号：CN102194663A
公开(公告)日：2011-09-21
申请号：CN201110052791.9
申请日：2011-03-03
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供在基板上进行液处理的液处理装置中，在构成装置的各部处于无法使用的状态时，能够抑制生产率降低的装置。构成具备第一喷嘴、第二喷嘴的液处理装置。在该液处理装置中，控制基板搬送机构，通常状态下，在第一罩组和第二罩组之间交替交接基板，在两罩组中，按顺序使用罩，并且，在基板保持部、处理液供给系统或喷嘴支撑机构处于无法使用的状态造成的第一罩组和第二罩组中的一个无法进行基板处理的状态时，为了使该一个罩组中的能够使用的罩处理基板，担当另一个罩组的喷嘴进行移动。
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