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公开(公告)号：CN102986003B
公开(公告)日：2015-10-14
申请号：CN201180034562.2
申请日：2011-07-12
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/027 , B05C11/08 , B05D1/26 , B05D1/40 , G03F7/30
CPC classification number: B08B3/04 , G03F7/3021 , H01L21/6715 , H01L21/6719
Abstract: 本发明提供一种液处理装置，当在杯体内水平保持基板，供给药液对基板进行液处理时，该液处理装置能够抑制药液用的喷嘴的数目，并且以高的吞吐量进行处理。作为液处理列举显影处理时，准备两种显影喷嘴以能够应对两个种类的显影处理方式，对于两个方式当中喷嘴的约束时间较长的方式所使用的显影喷嘴，对第一液处理模块（1、2）单独设置，对于喷嘴的约束时间较短的方式所使用的显影喷嘴，对两个模块（1、2）共用化。并且共用化的显影喷嘴在两个模块（1、2）的中间位置待机。
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公开(公告)号：CN100580871C
公开(公告)日：2010-01-13
申请号：CN200710160027.7
申请日：2007-12-20
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种基板清洗装置，其不需要进行基板的反转，并且能够以不给基板的周边部造成损伤的方式对基板的背面进行清洗。基板保持装置(1)具备从背面支撑保持背面朝下状态的基板的2个基板保持单元(吸附垫(2)、旋转卡盘(3))，支撑的区域不重叠，同时在这些的基板保持单元之间进行基板交接。清洗部件(刷子(5))对由基板保持单元支撑的区域以外的基板的背面进行清洗，利用在2个基板保持单元之间交接基板，对基板的整个背面进行清洗。
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公开(公告)号：CN102986003A
公开(公告)日：2013-03-20
申请号：CN201180034562.2
申请日：2011-07-12
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/027 , B05C11/08 , B05D1/26 , B05D1/40 , G03F7/30
CPC classification number: B08B3/04 , G03F7/3021 , H01L21/6715 , H01L21/6719
Abstract: 本发明提供一种液处理装置，当在杯体内水平保持基板，供给药液对基板进行液处理时，该液处理装置能够抑制药液用的喷嘴的数目，并且以高的吞吐量进行处理。作为液处理列举显影处理时，准备两种显影喷嘴以能够应对两个种类的显影处理方式，对于两个方式当中喷嘴的约束时间较长的方式所使用的显影喷嘴，对第一液处理模块（1、2）单独设置，对于喷嘴的约束时间较短的方式所使用的显影喷嘴，对两个模块（1、2）共用化。并且共用化的显影喷嘴在两个模块（1、2）的中间位置待机。
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公开(公告)号：CN101207007A
公开(公告)日：2008-06-25
申请号：CN200710160027.7
申请日：2007-12-20
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种基板清洗装置，其不需要进行基板的反转，并且能够以不给基板的周边部造成损伤的方式对基板的背面进行清洗。基板保持装置(1)具备从背面支撑保持背面朝下状态的基板的2个基板保持单元(吸附垫(2)、旋转卡盘(3))，支撑的区域不重叠，同时在这些的基板保持单元之间进行基板交接。清洗部件(刷子(5))对由基板保持单元支撑的区域以外的基板的背面进行清洗，利用在2个基板保持单元之间交接基板，对基板的整个背面进行清洗。
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