公开(公告)号：CN108155133B

公开(公告)日：2022-04-15

申请号：CN201810131287.X

申请日：2015-02-26

Applicant: 斯克林集团公司

Inventor： 吉原直彦 ,  小林健司 ,  奥谷学

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/687 ,  B05C11/08

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置以及基板处理方法，能够一边对基板进行加热一边使基板的上表面相对于水平面倾斜，并且，从基板的上方顺利且完全地排除有机溶剂等的处理液的液膜。基板处理装置具有一边对基板进行支撑一边对基板从下方进行加热的基板加热单元和使基板加热单元的姿势在水平姿势和倾斜姿势之间变更的姿势变更单元。在紧接着对基板加热的基板高温化工序执行的有机溶剂排除工序中，通过使基板加热单元的姿势变更为倾斜姿势，来使基板的上表面相对于水平面倾斜。

公开(公告)号：CN107845593B

公开(公告)日：2021-09-24

申请号：CN201711189693.3

申请日：2015-07-02

Applicant: 斯克林集团公司

Inventor： 藤原直澄 ,  江户彻 ,  泽岛隼 ,  下村辰美

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/02 ,  H01L21/66

Abstract: 本发明提供基板处理装置及方法，以低成本抑制基板的所希望的处理量与实际的处理量的差异和在各部分的处理量的偏差。装置具有：旋转保持部，保持基板并使其旋转；第一供给源，供给第一温度的第一纯水；第二供给源，供给比第一温度高的第二温度的第二纯水；配管系统，将第一纯水分配为一方第一纯水和另一方第一纯水并引导；处理液供给部，将混合一方第一纯水和药液的处理液供至基板的上表面中央区；第一供给部，将主要包含另一方第一纯水的第一液体供至下表面中央区；第二供给部，将主要包含第二纯水的第二液体分别供至下表面周边区与中间区；热量控制部，独立控制第一供给部供给的热量和第二供给部供给的热量，以便变更基板的径向的温度分布。

公开(公告)号：CN107579023B

公开(公告)日：2020-11-06

申请号：CN201710699417.5

申请日：2014-11-21

Applicant: 斯克林集团公司

Inventor： 冈田吉文

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/677

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置中的基板搬运方法，该基板处理装置具有中转部、能够从该中转部搬出基板或向该中转部搬入基板的中央机械手、能够供该中央机械手搬入搬出基板的多个处理单元，该基板搬运方法具有：决定中转部能够同时保持的基板的张数的工序、决定中央机械手能够同时搬运的基板的张数的工序、基于用于决定基板处理装置内部的各个基板的搬运内容的流程规则信息来决定多个处理单元中能够进行并行的处理的处理单元的数量的工序、制作汇总了中央机械手的动作时间表、各处理单元的基板处理时间表的时间表数据的工序、根据时间表数据进行中转部及多个处理单元与中央机械手之间的基板的交接动作和基板处理装置整体的基板处理动作的工序。

公开(公告)号：CN111524838A

公开(公告)日：2020-08-11

申请号：CN202010366665.X

申请日：2013-08-30

Applicant: 斯克林集团公司

Inventor： 中井仁司 ,  大桥泰彦

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/02 ,  H01L21/306 ,  H01L21/687 ,  B05C5/02 ,  B05C9/04 ,  B05C11/10 ,  B08B3/04 ,  B08B11/00

Abstract: 基板处理装置具有腔室、基板保持部、基板旋转机构、受液部及上下喷嘴。腔室具有腔室主体和腔室盖部，并且腔室盖部能够进行升降。在腔室盖部与腔室主体相接触的状态下，形成小的密闭空间，并且进行伴随着减压或者加压进行的处理。当腔室盖部上升时，在腔室盖部和腔室主体之间形成环状开口。第一罩部以及第二罩部位于环状开口的外侧。从基板飞散的处理液被第一罩部或者第二罩部接受。在基板处理装置中，能够在小的腔室内进行各种处理。

公开(公告)号：CN110690146A

公开(公告)日：2020-01-14

申请号：CN201910965159.X

申请日：2014-09-19

Applicant: 斯克林集团公司

Inventor： 藤原友则 ,  柴山宣之 ,  吉田幸史 ,  柴田哲弥 ,  仲野彰义

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/02

Abstract: 本发明提供一种在对基板实施液体处理时能够执行恰当的处理的基板处理装置以及基板处理方法。基板处理装置(1)具有：基板保持部，将基板保持为水平姿势，并使该基板围绕通过该基板的面内的中心的铅垂的旋转轴旋转；挡板构件(60)，其呈沿着基板(9)的表面周缘部的至少一部分形成的形状，并配置在与被基板保持部保持的基板(9)的表面周缘部以非接触状态接近的位置；杯(31)，其为上端开放的筒形状构件，同时包围被基板保持部保持的基板(9)和挡板构件(60)；喷嘴(50)，隔着挡板构件(60)的至少一部分配置在与杯(31)的一侧相反的一侧，向被基板保持部保持的基板(9)的表面周缘部喷出处理液。

公开(公告)号：CN104992912B

公开(公告)日：2019-11-01

申请号：CN201410482761.5

申请日：2014-09-19

Applicant: 斯克林集团公司

Inventor： 藤原友则 ,  柴山宣之 ,  吉田幸史 ,  柴田哲弥 ,  仲野彰义

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/02

Abstract: 本发明提供一种在对基板实施液体处理时能够执行恰当的处理的基板处理装置以及基板处理方法。基板处理装置(1)具有：基板保持部，将基板保持为水平姿势，并使该基板围绕通过该基板的面内的中心的铅垂的旋转轴旋转；挡板构件(60)，其呈沿着基板(9)的表面周缘部的至少一部分形成的形状，并配置在与被基板保持部保持的基板(9)的表面周缘部以非接触状态接近的位置；杯(31)，其为上端开放的筒形状构件，同时包围被基板保持部保持的基板(9)和挡板构件(60)；喷嘴(50)，隔着挡板构件(60)的至少一部分配置在与杯(31)的一侧相反的一侧，向被基板保持部保持的基板(9)的表面周缘部喷出处理液。

公开(公告)号：CN106182726B

公开(公告)日：2019-01-08

申请号：CN201610539389.6

申请日：2014-01-29

Applicant: 斯克林集团公司

Inventor： 川越理史 ,  增市干雄 ,  上野博之 ,  正司和大 ,  芝藤弥生 ,  上野美佳

IPC: B29C59/02

Abstract: 本发明涉及图案形成装置及图案形成方法。图案形成装置具有：第一保持单元(61)，对在一面担载有图案形成材料(PT)的橡皮布(BL)以使图案形成材料的担载面朝上的水平姿势进行支撑；第二保持单元(41)，将对图案形成材料进行图案成形的版(PP)或要被转印图案的基板(SB)作为处理对象物，以使处理对象物与第一保持单元(61)保持的橡皮布(BL)的上表面接近相向的方式，保持处理对象物；托起单元(641)，从橡皮布(BL)的下表面侧局部托起橡皮布(BL)中央部的有效区域，使有效区域与被第二保持单元(41)保持的处理对象物抵接，托起单元(641)沿着橡皮布(BL)的下表面移动使橡皮布(BL)的托起位置变化。

公开(公告)号：CN108470694A

公开(公告)日：2018-08-31

申请号：CN201810218107.1

申请日：2014-08-08

Applicant: 斯克林集团公司

Inventor： 吉住明日香 ,  樋口鲇美

IPC: H01L21/67

CPC classification number: H01L21/67051 ,  B08B3/02 ,  B08B3/04 ,  H01L21/02041

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置以及基板处理方法，能够使冲洗液恰好飞散到清洗对象位置，抑制装置的大型化，并且能够在批处理的途中执行杯清洗。特殊模式具有第2冲洗处理，在第2冲洗处理中，在与通常模式的第1冲洗处理不同的动作条件下，一边由旋转卡盘保持基板并使基板旋转，一边向基板供给冲洗液，来利用从旋转的基板飞散的冲洗液对处理杯进行清洗。由于在特殊模式中基板被保持在旋转卡盘上，所以从基板飞散的冲洗液难以碰到卡盘部件。此外，在特殊模式下，没有必要设置用于杯清洗的专用机构。此外，特殊模式是只要在腔室内存在基板就能够执行的模式，即使是在批处理的途中也能执行。

公开(公告)号：CN105966049B

公开(公告)日：2018-08-07

申请号：CN201610261205.4

申请日：2014-01-29

Applicant: 斯克林集团公司

Inventor： 川越理史 ,  正司和大 ,  芝藤弥生 ,  增市干雄 ,  上野博之 ,  上野美佳 ,  谷口和隆

IPC: B32B38/10

CPC classification number: B32B43/006 ,  Y10T156/11 ,  Y10T156/1978

Abstract: 本发明的剥离装置,具有:第保持单元(310),其用于保持第板状体(BL);剥离开始单元(321),其通过使第板状体(BL)的端部向与第二板状体(SB)相反的方向弯曲成柱面状,将第二板状体(SB)中的与第板状体(BL)紧贴的紧贴区域的局部转变为第板状体(BL)被剥离的剥离区域,在紧贴区域和剥离区域之间的边界处形成条且直线状边界线;第二保持单元(122),其用于保持形成有剥离区域的第二板状体(SB);分离单元,其使第保持单元(310)和第二保持单元(122)之间的间隔增大,来使第板状体(BL)和第二板状体(SB)分离。

公开(公告)号：CN105074880B

公开(公告)日：2018-06-26

申请号：CN201380072994.1

申请日：2013-11-01

Applicant: 斯克林集团公司

Inventor： 石井淳一 ,  冈本浩一

IPC: H01L21/304 ,  H01L21/027 ,  H01L21/306

CPC classification number: B08B3/14 ,  B01D19/0031 ,  B01D35/02 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/67023 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/6708

Abstract: 提供以简单的机构减少附着于基板的颗粒的量的技术。基板处理装置(10)是从喷嘴(11)喷出处理液来处理基板(9)的装置。基板处理装置(10)具有供给配管(30)以及气泡捕捉部(F2)。供给配管(30)的一端经由去除颗粒的第一过滤器(F1)与供给处理液的处理液供给部(20)的槽(21)连接，供给配管(30)的另一端与喷嘴(11)连接。气泡捕捉部(F2)安装在供给配管(30)的第一过滤器(F1)与喷嘴(11)之间的位置，捕捉处理液中含有的气泡(Ba1)。气泡捕捉部(F2)引起的压力损失(PL2)与所述第一过滤器(F1)引起的压力损失(PL1)大致相同或比所述第一过滤器(F1)引起的压力损失(PL1)小。