公开(公告)号：CN105244299B

公开(公告)日：2018-05-11

申请号：CN201510382246.4

申请日：2015-07-02

申请人： 斯克林集团公司

发明人： 藤原直澄 ,  江户彻 ,  泽岛隼 ,  下村辰美

IPC分类号： H01L21/67 ,  H01L21/02 ,  H01L21/306

CPC分类号： H01L21/6708 ,  H01L21/02019 ,  H01L21/02057 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/67109 ,  H01L21/67248 ,  H01L21/67253 ,  H01L22/26

摘要： 本发明提供基板处理装置及方法，以低成本抑制基板的所希望的处理量与实际的处理量的差异和在各部分的处理量的偏差。装置具有：旋转保持部，保持基板并使其旋转；第一供给源，供给第一温度的第一纯水；第二供给源，供给比第一温度高的第二温度的第二纯水；配管系统，将第一纯水分配为一方第一纯水和另一方第一纯水并引导；处理液供给部，将混合一方第一纯水和药液的处理液供至基板的上表面中央区；第一供给部，将主要包含另一方第一纯水的第一液体供至下表面中央区；第二供给部，将主要包含第二纯水的第二液体分别供至下表面周边区与中间区；热量控制部，独立控制第一供给部供给的热量和第二供给部供给的热量，以便变更基板的径向的温度分布。

公开(公告)号：CN107845593B

公开(公告)日：2021-09-24

申请号：CN201711189693.3

申请日：2015-07-02

申请人： 斯克林集团公司

发明人： 藤原直澄 ,  江户彻 ,  泽岛隼 ,  下村辰美

IPC分类号： H01L21/67 ,  H01L21/02 ,  H01L21/66

摘要： 本发明提供基板处理装置及方法，以低成本抑制基板的所希望的处理量与实际的处理量的差异和在各部分的处理量的偏差。装置具有：旋转保持部，保持基板并使其旋转；第一供给源，供给第一温度的第一纯水；第二供给源，供给比第一温度高的第二温度的第二纯水；配管系统，将第一纯水分配为一方第一纯水和另一方第一纯水并引导；处理液供给部，将混合一方第一纯水和药液的处理液供至基板的上表面中央区；第一供给部，将主要包含另一方第一纯水的第一液体供至下表面中央区；第二供给部，将主要包含第二纯水的第二液体分别供至下表面周边区与中间区；热量控制部，独立控制第一供给部供给的热量和第二供给部供给的热量，以便变更基板的径向的温度分布。

公开(公告)号：CN105244299A

公开(公告)日：2016-01-13

申请号：CN201510382246.4

申请日：2015-07-02

申请人： 斯克林集团公司

发明人： 藤原直澄 ,  江户彻 ,  泽岛隼 ,  下村辰美

IPC分类号： H01L21/67 ,  H01L21/02 ,  H01L21/306

CPC分类号： H01L21/6708 ,  H01L21/02019 ,  H01L21/02057 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/67109 ,  H01L21/67248 ,  H01L21/67253 ,  H01L22/26 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/02041 ,  H01L21/306 ,  H01L21/30604 ,  H01L21/67023

摘要： 本发明提供基板处理装置及方法，以低成本抑制基板的所希望的处理量与实际的处理量的差异和在各部分的处理量的偏差。装置具有：旋转保持部，保持基板并使其旋转；第一供给源，供给第一温度的第一纯水；第二供给源，供给比第一温度高的第二温度的第二纯水；配管系统，将第一纯水分配为一方第一纯水和另一方第一纯水并引导；处理液供给部，将混合一方第一纯水和药液的处理液供至基板的上表面中央区；第一供给部，将主要包含另一方第一纯水的第一液体供至下表面中央区；第二供给部，将主要包含第二纯水的第二液体分别供至下表面周边区与中间区；热量控制部，独立控制第一供给部供给的热量和第二供给部供给的热量，以便变更基板的径向的温度分布。

公开(公告)号：CN107958855B

公开(公告)日：2022-04-01

申请号：CN201711189179.X

申请日：2015-07-02

申请人： 斯克林集团公司

发明人： 藤原直澄 ,  江户彻 ,  泽岛隼 ,  下村辰美

IPC分类号： H01L21/67

摘要： 本发明提供基板处理装置及方法，以低成本抑制基板的所希望的处理量与实际的处理量的差异和在各部分的处理量的偏差。装置具有：旋转保持部，保持基板并使其旋转；第一供给源，供给第一温度的第一纯水；第二供给源，供给比第一温度高的第二温度的第二纯水；配管系统，将第一纯水分配为一方第一纯水和另一方第一纯水并引导；处理液供给部，将混合一方第一纯水和药液的处理液供至基板的上表面中央区；第一供给部，将主要包含另一方第一纯水的第一液体供至下表面中央区；第二供给部，将主要包含第二纯水的第二液体分别供至下表面周边区与中间区；热量控制部，独立控制第一供给部供给的热量和第二供给部供给的热量，以便变更基板的径向的温度分布。

公开(公告)号：CN107958855A

公开(公告)日：2018-04-24

申请号：CN201711189179.X

申请日：2015-07-02

申请人： 斯克林集团公司

发明人： 藤原直澄 ,  江户彻 ,  泽岛隼 ,  下村辰美

IPC分类号： H01L21/67

CPC分类号： H01L21/6708 ,  H01L21/02019 ,  H01L21/02057 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/67109 ,  H01L21/67248 ,  H01L21/67253 ,  H01L22/26

摘要： 本发明提供基板处理装置及方法，以低成本抑制基板的所希望的处理量与实际的处理量的差异和在各部分的处理量的偏差。装置具有：旋转保持部，保持基板并使其旋转；第一供给源，供给第一温度的第一纯水；第二供给源，供给比第一温度高的第二温度的第二纯水；配管系统，将第一纯水分配为一方第一纯水和另一方第一纯水并引导；处理液供给部，将混合一方第一纯水和药液的处理液供至基板的上表面中央区；第一供给部，将主要包含另一方第一纯水的第一液体供至下表面中央区；第二供给部，将主要包含第二纯水的第二液体分别供至下表面周边区与中间区；热量控制部，独立控制第一供给部供给的热量和第二供给部供给的热量，以便变更基板的径向的温度分布。

公开(公告)号：CN107845593A

公开(公告)日：2018-03-27

申请号：CN201711189693.3

申请日：2015-07-02

申请人： 斯克林集团公司

发明人： 藤原直澄 ,  江户彻 ,  泽岛隼 ,  下村辰美

IPC分类号： H01L21/67 ,  H01L21/02 ,  H01L21/66

CPC分类号： H01L21/6708 ,  H01L21/02019 ,  H01L21/02057 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/67109 ,  H01L21/67248 ,  H01L21/67253 ,  H01L22/26

摘要： 本发明提供基板处理装置及方法，以低成本抑制基板的所希望的处理量与实际的处理量的差异和在各部分的处理量的偏差。装置具有：旋转保持部，保持基板并使其旋转；第一供给源，供给第一温度的第一纯水；第二供给源，供给比第一温度高的第二温度的第二纯水；配管系统，将第一纯水分配为一方第一纯水和另一方第一纯水并引导；处理液供给部，将混合一方第一纯水和药液的处理液供至基板的上表面中央区；第一供给部，将主要包含另一方第一纯水的第一液体供至下表面中央区；第二供给部，将主要包含第二纯水的第二液体分别供至下表面周边区与中间区；热量控制部，独立控制第一供给部供给的热量和第二供给部供给的热量，以便变更基板的径向的温度分布。