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公开(公告)号：CN1799706A
公开(公告)日：2006-07-12
申请号：CN200510003475.7
申请日：2005-11-29
Applicant: 东京応化工业株式会社 , 龙云株式会社
Abstract: 本发明提供一种在空间上是有利的，可连续地将涂敷液涂敷在玻璃基板上的涂敷装置。在基台(1)上设置有一对平行导轨(2、2)，在该一对平行导轨(2、2)之间的中央配置有基板载置工作台(3)，第1及第2门型移动机构(4、5)以平面上观察与上所述导轨正交的基板载置工作台的宽度方向中心线为基准、左右对称地架设在上述导轨之间并可独立行走，在该第1及第2门型移动机构(4、5)上可升降地保持有狭缝喷嘴(6、7)。
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公开(公告)号：CN1262889C
公开(公告)日：2006-07-05
申请号：CN02160473.8
申请日：2002-12-27
Applicant: 东京応化工业株式会社
IPC: G03F7/30 , H01L21/027
Abstract: 一种可缩短厚膜抗蚀剂的显影时间，而且可对大型被处理物进行显影的紧凑的显影装置及显影方法。本发明的显影装置是通过热交换器一边对从显影液供给罐供给的显影液进行温度调节、一边将其供给到显影槽的显影装置，将被处理物纵向保持在上述显影槽内，进行单张处理，并且，边使经过温度调节的显影液在显影装置内循环、边进行显影处理。
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公开(公告)号：CN1768305A
公开(公告)日：2006-05-03
申请号：CN200480008654.3
申请日：2004-03-24
Applicant: 东京応化工业株式会社
CPC classification number: G03F7/0395 , G03F7/0046 , G03F7/0382 , G03F7/2041 , Y10S430/106 , Y10S430/108 , Y10S430/115
Abstract: 本发明涉及含有(A)含有碱可溶性结构单元(a1)，并且在酸的作用下碱可溶性发生变化的聚合物，其中结构单元(a1)含有同时具有(i)氟原子或氟代烷基和(ii)醇羟基的脂环基，以及(B)通过光照产生酸的酸发生剂的液浸曝光处理用抗蚀剂组合物，以及使用该组合物的抗蚀剂图形形成方法。由此不仅能实现高分辨率和焦点深度，还可回避浸渍液的不良影响。
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公开(公告)号：CN1245743C
公开(公告)日：2006-03-15
申请号：CN02121528.6
申请日：2002-04-30
Applicant: 东京応化工业株式会社
IPC: H01L21/316
CPC classification number: H01L21/31116 , H01L21/316 , H01L21/76802
Abstract: 提供一种在湿剥离光刻胶图案时SiO2涂层(夹层绝缘膜)不易受损伤的涂层处理方法。将在衬底上形成的低介电系数的SiO2类涂层，通过光刻胶图案进行蚀刻处理后，利用由氦气所产生的等离子体来处理上述的经蚀刻处理后的SiO2类涂层。通过这一方法，在后工序进行光刻胶图案的湿剥离处理时，不仅不会损伤到SiO2类涂层，而且可维持较低的介电系数。
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公开(公告)号：CN1714945A
公开(公告)日：2006-01-04
申请号：CN200510081770.4
申请日：2005-06-14
Applicant: 东京応化工业株式会社 , 龙云株式会社
Abstract: 本发明提供即使内杯大直径化也能简单地调整旋转平衡的旋转涂敷装置。在内杯用盖体(14)的上表面上用小螺丝(18)固定有爪部件(17)。另一方面，在内杯(13)的外周面上，在对应上述爪部件(17)的位置上安装有爪承接部件(20)。爪承接部件(20)由卡合部(21)和平衡重插装部(22)构成，在卡合部(21)上形成有嵌入凹锥状的凹部(19)的凸锥状的凸部(23)，在平衡重插装部(22)上形成有插入平衡重(24)的孔(25)。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1219659C
公开(公告)日：2005-09-21
申请号：CN02802535.0
申请日：2002-05-23
Applicant: 东京応化工业株式会社
Inventor： 中垣恒男
IPC: B41N6/00
CPC classification number: B41N6/00
Abstract: 本发明提供一种苯胺印刷用增高部件，可在设定为使用厚约7mm的感光性印版的印刷机中容易地使用厚约3mm的感光性印版，且该印刷机还可容易地兼顾厚约7mm的感光性印版，该增高部件可提高感光性印版更换时的作业性，同时可确保高的印刷质量，作为苯胺印刷用增高部件的衬垫层(1)含有磁体部(10)、衬基部(20)、聚酯膜片(30)，该磁体部(10)与该衬基部(20)并排设置在同一层上，磁体部(10)与衬基部(20)的一个表面粘接到聚酯膜片(30)上。
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公开(公告)号：CN1645591A
公开(公告)日：2005-07-27
申请号：CN200410082083.X
申请日：2004-12-01
Applicant: 东京応化工业株式会社
Inventor： 宫成淳
IPC: H01L21/68
CPC classification number: H01L21/6708 , H01L21/6835 , H01L21/6836 , H01L2221/68318 , H01L2221/68327 , H01L2221/68381 , Y10S156/93 , Y10T156/11 , Y10T156/1111 , Y10T156/1116 , Y10T156/1147 , Y10T156/1911 , Y10T156/1928
Abstract: 本发明的目的在于提供在半导体晶片等基板被薄板化之后，能够在短时间内向粘合支承板与基板的粘合层中供给溶剂的支承板，以及使用了该支承板的剥离方法。解决上述问题的方法为，使支承板2的直径比半导体晶片W的更大，形成有贯通孔3，并且外缘部分为未形成贯通孔的平坦部4。当从该支承板2上方注入作为溶剂的醇时，醇穿过支承板2的贯通孔3到达粘合剂层1将粘合剂层1溶解除去。
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公开(公告)号：CN1584744A
公开(公告)日：2005-02-23
申请号：CN200410055030.9
申请日：2004-06-10
Applicant: 东京応化工业株式会社
Abstract: 本发明提供一种可以利用简单的结构构成使基板产生倾斜移动，进而可以短时间高效率地回收显像液的显像装置。该装置可以在上升之前，使升降部(13)的上端部处于比滚子(6)还要低的位置处，使其不会与基板W形成干涉，随着臂部件(8)的上升动作，升降部(13)将从滚子(6、6)之间向上方伸出，对基板(W)的背面实施支持，使其向上倾斜移动。通过这种倾斜移动可以使位于基板(W)的表面上的显像液从一端流下的，回收到显像液回收部件15的内部，随后再通过滚子搬运基板，使其移动到漂洗液的供给·回收部(4)处。对于漂洗液，可以将原先供给的漂洗液在被污染后原样排出，经过预定的时间之后，对该漂洗液实施回收。之后，通过滚子将玻璃基板朝向干燥部(5)实施搬运。
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公开(公告)号：CN1577738A
公开(公告)日：2005-02-09
申请号：CN200410055260.5
申请日：2004-06-26
Applicant: 东京応化工业株式会社
IPC: H01L21/027 , G03F7/30
Abstract: 本发明提供一种不增加运送线的长度、不产生显影不均匀的一字排列式显影处理装置。对于在表面上形成了曝光过的抗蚀剂膜的基板(W)，在显影液供给部(2)中向表面供给显影液，在运送的同时进行显影反应，然后在显影液回收部(4)中回收显影液，之后在漂洗液供给·回收部(6)中进行清洗和清洗液回收，最后送至干燥部(8)。在这一系列显影处理的过程中，在基板进入下游侧的处理部的情况下，于该处理部之前的待机部、例如该处理部是显影液回收部(4)的情况下，在其之前的待机部(3)中，使滚轮(10a)重复进行正反旋转，基板(W)往返移动。结果是，在基板(W)的背面，与滚轮(10a)接触的部分始终移动而不停止在一个部位上，基板的温度分布是均匀的。
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公开(公告)号：CN1575870A
公开(公告)日：2005-02-09
申请号：CN200410055068.6
申请日：2004-06-30
Applicant: 东京応化工业株式会社
IPC: B08B3/12 , H01L21/304
Abstract: 提供一种基板清洗装置(方法)，可以不向基板表面的清洗水传送无用的超声波，高效率地进行清洗。从清洗液供给喷嘴(10)在与玻璃基板(W)的运送方向相反方向上供给到玻璃基板表面的清洗液流过玻璃基板(W)的表面，遍及基板全面。另一方面，配置在被运送的玻璃基板(W)下方的超声波振荡喷嘴(14)使超声波在玻璃板(W)上产生振荡时，将超声波传送到供给玻璃基板表面的清洗液，使清洗液振动，均匀高效率地清洗玻璃基板(W)的表面。
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