-
公开(公告)号：CN101470360A
公开(公告)日：2009-07-01
申请号：CN200910002111.5
申请日：2003-11-11
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： A·T·A·M·德克森 , S·N·L·当德斯 , C·A·胡根达姆 , J·洛夫 , E·R·鲁普斯特拉 , J·J·S·M·梅坦斯 , J·C·H·穆肯斯 , T·F·森格斯 , A·斯特拉艾杰 , B·斯特里夫克
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F9/7088 , G03F7/70341 , G03F7/707 , G03F7/7085
Abstract: 一种光刻装置，包括：构造用于保持基底的两个基底台；用于将带图案的辐射束投射到基底的靶部上的投射系统；用于在投射期间向所述投射系统的最终元件和所述基底之间提供液体的液体供给系统；和所述光刻装置被构造和布置为使得所述两个基底台中的一个基底台能够用于基底的曝光，另一个基底台能够用于准备步骤；所述光刻装置被构造和布置以在基底从所述投射系统下离开时保持最终元件与水接触。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN100495214C
公开(公告)日：2009-06-03
申请号：CN200510064163.7
申请日：2005-04-13
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： A·Y·科勒斯恩臣科 , J·J·M·巴塞曼斯 , S·N·L·多纳斯 , C·A·胡根达姆 , H·詹森 , J·J·S·M·梅坦斯 , J·C·H·穆肯斯 , F·G·P·皮特斯 , B·斯特里科克 , F·J·H·M·特尤尼斯森 , H·范桑坦
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70341 , G03F7/70733 , G03F7/70866 , G03F7/70908
Abstract: 本发明公开一种湿浸式光刻装置的基底台，包括用于收集液体的隔板。该隔板环绕基底并与基底分隔开。按照这种方式，可以收集从供液系统溢出的任何液体，并降低光刻投影装置的精密部件受污染的危险。
-
公开(公告)号：CN100495213C
公开(公告)日：2009-06-03
申请号：CN200410074855.5
申请日：2004-08-30
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： E·R·鲁普斯特拉 , M·M·T·M·迪里奇斯 , J·C·M·贾斯佩 , H·J·M·迈杰 , U·米坎 , J·C·H·穆肯斯 , M·里普森 , T·尤特迪克 , J·J·M·巴塞曼斯
CPC classification number: G03F7/70966 , G03F7/70341 , G03F7/70958 , G03F7/70983 , Y10S430/162
Abstract: 本发明公开一种使用浸液的光刻投影装置，所述浸液位于该投影系统的最后元件和基底W之间。公开多种用于保护该投影系统、基底台和液体保持系统的部件的方法。这些方法包括在该投影系统的最后元件(20)上设置保护层，以及在该部件的上游设置牺牲保护体。还公开了由CaF2制成的由两个部件构成的最后光学元件。
-
公开(公告)号：CN100480861C
公开(公告)日：2009-04-22
申请号：CN200410095181.7
申请日：2004-10-27
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： C·A·胡根达姆 , B·斯特里克 , J·C·H·穆肯斯 , E·T·M·比拉亚特 , A·Y·科勒斯恩臣科 , E·R·鲁普斯特拉 , J·J·S·M·梅坦斯 , B·A·斯拉格赫科 , P·A·J·蒂内曼斯 , H·范桑坦
CPC classification number: G03F7/70866 , G03F7/70341 , G03F7/70808
Abstract: 液体通过入口提供给投影系统最后元件和基底之间的贮液器。溢流口排出给定水平面上方的液体。该溢流口位于入口之上，这样液体就不断更新且液体压力保持基本恒定。
-
公开(公告)号：CN100470367C
公开(公告)日：2009-03-18
申请号：CN200310120957.1
申请日：2003-11-11
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： J·洛夫 , A·T·A·M·德克森 , C·A·胡根达姆 , A·科勒斯伊辰科 , E·R·鲁普斯特拉 , T·M·默德曼 , J·C·H·穆肯斯 , R·A·S·里特塞马 , K·西蒙 , J·T·德斯米特 , A·斯特拉艾杰 , B·斯特里夫克 , H·范桑坦
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70341 , G03F7/707 , G03F7/7085 , G03F9/7088
Abstract: 在光刻投射装置中，密封构件围绕投射系统的末端元件和光刻投射装置基底台之间间隙。气密封在所述密封构件和所述基底的表面之间形成，以容纳间隙中的液体。
-
公开(公告)号：CN1501172A
公开(公告)日：2004-06-02
申请号：CN200310120944.4
申请日：2003-11-11
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： A·T·A·M·德克森 , S·N·L·当德斯 , C·A·胡根达姆 , J·洛夫 , E·R·鲁普斯特拉 , J·J·S·M·梅坦斯 , J·C·H·穆肯斯 , T·F·森格斯 , A·斯特拉艾杰 , B·斯特里夫克
IPC: G03F7/20 , G03F9/00 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/707 , G03F7/70341 , G03F7/70833 , G03F7/7085 , G03F7/70916 , G03F9/7088
Abstract: 在光刻投射装置中，液体供给系统将液体保持在投射系统最终元件与光刻投射装置的基底之间。在基底交换的过程中，提供一个遮光构件以代替基底将液体容纳在液体供给系统中。
-
-
-
-
-
Search Results
56
records
(took 0.036 seconds)
