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公开(公告)号：CN1789294A
公开(公告)日：2006-06-21
申请号：CN200510092116.3
申请日：2005-08-19
Applicant: 海力士半导体有限公司
IPC: C08F220/10 , C08F220/52 , C08F232/08 , C08F4/32 , G03F7/11
CPC classification number: G03F7/0045 , C08F220/06 , C08F220/18 , C08F222/06 , C08F232/08 , G03F7/0046 , G03F7/091 , Y10S430/105 , Y10S430/151 , Y10S430/162 , Y10S522/904
Abstract: 本发明公开一种由右式1表示的产光酸聚合物其中R1为C1－10烃或其中氢原子全部地或部分地经氟原子取代的C1－10烃；R2为氢或甲基；及a、b、c与d表示各单体的摩尔分数且为约0.05至约0.9，使得a、b、c与d的和等于1。因为式1的产光酸聚合物为非水溶性且用作产光酸剂，其可用于制备用于浸渍蚀刻法的顶部抗反射涂布组合物。
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公开(公告)号：CN1472596A
公开(公告)日：2004-02-04
申请号：CN03149568.0
申请日：2003-07-11
Applicant: 伊斯曼柯达公司
IPC: G03C1/498
CPC classification number: G03C1/49818 , G03C1/46 , G03C5/17 , Y10S430/162 , Y10S430/166
Abstract: 高感光速度黑白光热敏成象乳剂和材料，包含化学增感的感光卤化银颗粒，至少70％的感光卤化银总投影面积由含有至少70mol％溴化银(以总卤化银为基准计)的片状卤化银颗粒提供。片状颗粒具有平均厚度至少0.02μm，最多并含0.10μm，对应圆直径至少0.5μm，最多并含8μm，纵横比至少5∶1。这些高感光度材料能够采用紫外、可见、红外或X－辐射线以任何适当的形式成象。在一个实施方案中，它们在片基两侧上具有一个或多个可热显影的层，并能够采用X－射线在成象装置中在有或没有荧光增感屏的条件下成象。
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公开(公告)号：CN1281159A
公开(公告)日：2001-01-24
申请号：CN00120137.9
申请日：2000-07-14
Applicant: 伊斯曼柯达公司
IPC: G03C1/89
CPC classification number: C09D127/16 , B41M5/5254 , B41M7/0036 , G03C1/7614 , G03C7/38 , G03C2001/7448 , G03C2001/7621 , G03C2001/7635 , G03C2200/08 , G03C2200/36 , G03C2200/42 , G03C2200/51 , Y10S430/162
Abstract: 本发明涉及一种涂料组合物,它包括Tg低于25℃的水不溶性聚合物并包括75—100%(重量)具有下式(1)的单体,式中:X选自Cl、F或CN,Y各独立地选自H、Cl、F、CN、CF3、CH3、C2H5、正C3H7、异C3H7、正C4H9、正C5H11、正C6H13、OCH3、OC2H5、苯基、C6F5、C6Cl5、CH2Cl、CH2F、C2F5、正C3F7、异C3F7、OCF3、OC2F5、OC3F7、C(CF3)3、CH2(CF3)、CH(CF3)2、COCF3、COC2F5、COCH3、COC2H5。
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公开(公告)号：CN1254860A
公开(公告)日：2000-05-31
申请号：CN99124469.9
申请日：1999-11-19
Applicant: 伊斯曼柯达公司
IPC: G03C1/805
CPC classification number: B41M7/0027 , B41M5/41 , B41M5/508 , G03C1/79 , G03C1/805 , G03G7/0086 , Y10S430/162
Abstract: 发明涉及一种含有支持体的成像元件,所述支持体含有粘合于其背面的可剥离聚合物层,当剥离了所述可剥离聚合物层后在其上有一粘合剂层。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1176404A
公开(公告)日：1998-03-18
申请号：CN97118014.8
申请日：1997-07-12
Applicant: 柯尼卡株式会社
CPC classification number: B41M7/0027 , G03C7/3046 , G03C11/08 , G03D15/06 , Y10S430/162 , Y10T428/31551
Abstract: 公开了一种其上具有图像载体层和保护层的信息记录材料,该图像载体层包括亲水性聚合物。该保护层包括含水聚氨酯树脂或含水聚丙烯酸酯树脂。获得一种具有优越的防水性、防划痕性、光泽度、图像存储稳定性和防指纹性能的信息记录材料。
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公开(公告)号：CN1902545B
公开(公告)日：2011-04-13
申请号：CN200480039159.9
申请日：2004-11-25
Applicant: 伊斯曼柯达公司
Inventor： S·D·斯拉特
CPC classification number: B41M5/44 , B41M5/443 , G03C1/7614 , G03C2001/7635 , G03C2200/35 , Y10S430/162
Abstract: 本发明提供了成像元件，其包括载体，在载体上具有依次的至少一个成像层、至少一个包含提供抗刮伤性的润滑剂的中间层和至少一个包含提供耐磨性的不同的润滑剂的最外层，以及处理所述元件的方法。所述元件具有提高的耐久性，特别是在抗刮伤和耐磨(特别是照相磨损)性方面具有提高的耐久性，同时保持性能并且易于制造。优选所述元件用于制造印刷电路板或者生产印刷版，其中磨损和刮伤的问题是特别尖锐的。
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公开(公告)号：CN101441418A
公开(公告)日：2009-05-27
申请号：CN200810174269.6
申请日：2006-05-15
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: G03F7/2041 , G03F7/11 , Y10S430/162
Abstract: 一种图案的形成方法，其包括：在被加工膜上形成感光性树脂膜；通过涂布法在上述感光性树脂膜上形成用于保护上述感光性树脂膜的保护膜；通过浸渍液对上述感光性树脂膜的部分区域选择性地进行液浸曝光，将上述浸渍液提供到上述感光性树脂膜上；在形成上述保护膜后，且在对上述感光性树脂膜的部分区域进行选择性液浸曝光之前，将上述保护膜的表面平滑化；除去上述保护膜；以及，通过选择性地除去上述感光性树脂膜的曝光区域或者非曝光区域，形成由上述感光性树脂膜构成的图案。
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公开(公告)号：CN100398575C
公开(公告)日：2008-07-02
申请号：CN200510092116.3
申请日：2005-08-19
Applicant: 海力士半导体有限公司
IPC: C08F220/10 , C08F220/52 , C08F232/08 , C08F4/32 , G03F7/11
CPC classification number: G03F7/0045 , C08F220/06 , C08F220/18 , C08F222/06 , C08F232/08 , G03F7/0046 , G03F7/091 , Y10S430/105 , Y10S430/151 , Y10S430/162 , Y10S522/904
Abstract: 本发明公开一种由下式1表示的产光酸聚合物：其中R1为C1-10烃或其中氢原子全部地或部分地经氟原子取代的C1-10烃；R2为氢或甲基；及a、b、c与d表示各单体的摩尔分数且为约0.05至约0.9，使得a、b、c与d的和等于1。因为式1的产光酸聚合物为非水溶性且用作产光酸剂，其可用于制备用于浸渍蚀刻法的顶部抗反射涂布组合物。
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公开(公告)号：CN1407399A
公开(公告)日：2003-04-02
申请号：CN02130350.9
申请日：2002-08-16
Applicant: 伊斯曼柯达公司
CPC classification number: B32B27/20 , B32B27/32 , B32B27/34 , B32B27/36 , B32B27/365 , B32B2307/416 , B32B2323/046 , B32B2323/10 , B32B2559/00 , G03C1/76 , G03C1/79 , G03C1/795 , Y10S430/162
Abstract: 本发明涉及一种包括至少一层取向聚烯烃和珠光颜料的层的成像元件。
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