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公开(公告)号:CN1902545B
公开(公告)日:2011-04-13
申请号:CN200480039159.9
申请日:2004-11-25
Applicant: 伊斯曼柯达公司
Inventor: S·D·斯拉特
CPC classification number: B41M5/44 , B41M5/443 , G03C1/7614 , G03C2001/7635 , G03C2200/35 , Y10S430/162
Abstract: 本发明提供了成像元件,其包括载体,在载体上具有依次的至少一个成像层、至少一个包含提供抗刮伤性的润滑剂的中间层和至少一个包含提供耐磨性的不同的润滑剂的最外层,以及处理所述元件的方法。所述元件具有提高的耐久性,特别是在抗刮伤和耐磨(特别是照相磨损)性方面具有提高的耐久性,同时保持性能并且易于制造。优选所述元件用于制造印刷电路板或者生产印刷版,其中磨损和刮伤的问题是特别尖锐的。
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公开(公告)号:CN1351279A
公开(公告)日:2002-05-29
申请号:CN01137594.9
申请日:2001-10-30
Applicant: 伊斯曼柯达公司
IPC: G03C1/76
CPC classification number: G03C1/7614 , G03C2001/7635 , G03C2200/36 , Y10S430/162
Abstract: 本发明涉及有保护性外涂层的照片元件,该涂层能够防止指印、普通玷污和溅落液体。该涂层含一种环氧原料、酸性聚合物和水溶性的亲水粘结剂。在一个实施方案中,照片元件包括支持体;在该支持体上覆盖有至少一层卤化银乳剂层;一层冲洗加工液可渗透的外涂层盖在该卤化银乳剂层上,使得最终产品具有防水性而无需层压或熔化。本发明也涉及包括将上述照片元件显影的照片制作方法。
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公开(公告)号:CN1902545A
公开(公告)日:2007-01-24
申请号:CN200480039159.9
申请日:2004-11-25
Applicant: 伊斯曼柯达公司
Inventor: S·D·斯拉特
CPC classification number: B41M5/44 , B41M5/443 , G03C1/7614 , G03C2001/7635 , G03C2200/35 , Y10S430/162
Abstract: 本发明提供了成像元件,其包括载体,在载体上具有依次的至少一个成像层、至少一个包含提供抗刮伤性的润滑剂的中间层和至少一个包含提供耐磨性的不同的润滑剂的最外层,以及处理所述元件的方法。所述元件具有提高的耐久性,特别是在抗刮伤和耐磨(特别是照相磨损)性方面具有提高的耐久性,同时保持性能并且易于制造。优选所述元件用于制造印刷电路板或者生产印刷版,其中磨损和刮伤的问题是特别尖锐的。
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公开(公告)号:CN1407393A
公开(公告)日:2003-04-02
申请号:CN02130349.5
申请日:2002-08-16
Applicant: 伊斯曼柯达公司
CPC classification number: G03C1/06 , G03C1/7614 , G03C2001/7635 , Y10S430/162
Abstract: 本发明涉及一种包含珠光颜料的照相元件。
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公开(公告)号:CN1353330A
公开(公告)日:2002-06-12
申请号:CN01137922.7
申请日:2001-11-06
Applicant: 伊斯曼柯达公司
CPC classification number: G03C5/16 , G03C1/46 , G03C5/17 , G03C5/26 , G03C2001/0055 , G03C2001/03511 , G03C2001/03564 , G03C2001/7635 , G03C2005/168 , G03C2007/3025 , G03C2200/26 , G03C2200/27 , G03C2200/52 , Y10S430/167 , Y10S430/168
Abstract: 高性能射线摄影胶片,当以该两面带有增感屏的射线摄影成像组件成像时,呈现视觉适应性反差。这些胶片在其支持体的两面都涂有单个卤化银乳剂层,而没有常规用于控制交岔度的粒状染料。此外,本胶片可以快速加工以提供所要求的具有视觉适应性反差的影像,即高阶曝光区反差至少是低阶曝光区反差的1.5倍。这样在射线摄影影像的较高密度区可以更好地看到强反差物像,而对较低曝光区的密度感光测定特性没有不良影响。这些胶片对于使用各种各样曝光和冲洗加工条件的通用射线摄影成像法甚为适用。
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公开(公告)号:CN1281160A
公开(公告)日:2001-01-24
申请号:CN00121655.4
申请日:2000-07-17
Applicant: 伊斯曼柯达公司
IPC: G03C1/89
CPC classification number: G03C11/08 , C08L25/08 , C08L25/14 , C08L33/04 , C09D127/08 , G03C1/7614 , G03C1/85 , G03C7/00 , G03C7/24 , G03C7/38 , G03C7/3835 , G03C2001/7448 , G03C2001/7621 , G03C2001/7635 , G03C2200/08 , G03C2200/10 , G03C2200/36 , G03C2200/51 , Y10S430/162 , C08L2666/04
Abstract: 本发明涉及一种罩面层组合物,它包括Tg等于或低于30℃的水不溶性聚合物,该聚合物包括75—100%(重量)具有右式(1)的单体,式中:X和Y与说明书中定义相同;和其中所述罩面层组合物被叠加在载体上的成像感光卤化银乳液层上,所述卤化银乳液层包含1H-吡唑并[1,5-b][1,2,4]三唑型深红成色剂。任选所述聚合物组合物可包含具有30℃以上的Tg的第二种聚合物。式(1)如上。
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公开(公告)号:CN1475859A
公开(公告)日:2004-02-18
申请号:CN03146482.3
申请日:2003-07-11
Applicant: 伊斯曼柯达公司
CPC classification number: G03C1/385 , G03C1/32 , G03C1/38 , G03C1/85 , G03C2001/7635 , G03C2200/42
Abstract: 一种涂料组合物,用于在照相元件中形成外层,所述组合物包含两种或多种表面活性剂、一种亲水粘合剂、和消光颗粒的水溶液;其中,表面活性剂之一由下式(I)表示:Rf-CH2CH2-(B)y-A (I),其中,Rf是F(CF2CF2)n-,n为3和4或3、4和5,所有n=3的Rf的分数至少为40%;B是二价连接基团;y是0或1;且A是具有反离子的阴离子基团或两性基团。还公开了含有该涂料组合物的照相元件。
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公开(公告)号:CN1329276A
公开(公告)日:2002-01-02
申请号:CN01121474.0
申请日:2001-06-11
Applicant: 伊斯曼柯达公司
Inventor: T·H·怀特斯特斯德斯 , 姚慧玲 , A·亚塞克
CPC classification number: G03C1/7614 , G03C1/047 , G03C1/74 , G03C2001/7635 , Y10S430/136 , Y10S430/162
Abstract: 本发明提供一种容许照相冲洗药液恰当扩散的明胶基、水性可涂、照相元件用护膜。该护膜包含10~50wt%明胶和50~90wt%(以整个护膜的干涂布重量为基准)平均直径介于10~500nm的疏水颗粒。在元件上施涂一种蛋白酶,使之与护膜层反应性地结合。本发明一种实施方案的照相元件可采用普通洗印设备不加修改地曝光并冲洗,从而提供带有防水保护层的成象的元件。
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公开(公告)号:CN1297165A
公开(公告)日:2001-05-30
申请号:CN00128458.4
申请日:2000-11-23
Applicant: 伊斯曼柯达公司
CPC classification number: G03C1/7614 , G03C1/775 , G03C1/79 , G03C1/795 , G03C11/08 , G03C2001/7635 , G03C2200/50 , Y10S430/162
Abstract: 公开了一种照相元件,包括支持体,卤化银乳剂层和可渗透加工液的涂层。该涂层由具有酸性功能基团的含聚氨酯的组分组成,其中含聚氨酯的组分的量可以为20~100重量%,任选的乙烯基组分的量为0~80重量%,且含聚氨酯的组分可以包括单一的聚氨酯聚合物,或含有两种或多种聚合物的互穿网络。该涂层还包括分子量为150,000或更小的聚乙烯醇聚合物,条件是当分子量超过100,000时,水解度小于95%。还公开了一种包括使照相元件显影的制备照片的方法。
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公开(公告)号:CN1281161A
公开(公告)日:2001-01-24
申请号:CN00121673.2
申请日:2000-07-17
Applicant: 伊斯曼柯达公司
IPC: G03C1/89
CPC classification number: G03C1/7614 , B41M7/0027 , G03C1/047 , G03C1/95 , G03C11/08 , G03C2001/03594 , G03C2001/7635 , G03C2200/36 , Y10S430/162
Abstract: 本发明涉及一种用于成像产品的罩面层组合物,该组合物包括:基于所述罩面层干沉积物30—95%(重量)的疏水聚合物,所述疏水聚合物为结构1单体的均聚物或包含基于所述单体总重量至少30%(重量)的共聚物和基于所述罩面层干沉积物5—70%(重量)的明胶,式中:R和X1、X2、X3、X4和X5与说明书中定义相同。
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