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公开(公告)号：CN1423596A
公开(公告)日：2003-06-11
申请号：CN00817840.2
申请日：2000-05-03
Applicant: 3M创新有限公司
CPC classification number: B41M5/465 , B41M3/006 , H05K3/046 , Y10S430/136 , Y10S430/165
Abstract: 本发明提供了一种热物质转印供体元件,它包括热转印层和光热转换层,该光热转换层具有至少两个吸收系数不同的区域。该热转印供体元件能够通过提高转印灵敏度和减少成象缺陷来提高成象性能。
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公开(公告)号：CN1254861A
公开(公告)日：2000-05-31
申请号：CN99124360.9
申请日：1999-11-22
Applicant: 伊斯曼柯达公司
IPC: G03C1/81
CPC classification number: B32B27/10 , B32B27/32 , B32B37/0007 , B32B37/0015 , B32B37/06 , B32B2307/518 , B32B2317/12 , G03C1/79 , G03C1/81 , Y10S430/136
Abstract: 一种在将聚合物片材层压至芯材料两侧上时控制卷曲的方法,所述方法包括:提供底面聚合物片材;使所述的底面片材与热源接触;提供所述芯材料;使所述芯材料与所述底面聚合物片材接触,同时在所述底面片材和所述芯之间施加粘合剂,以形成层压材料;提供顶面聚合物片材;使所述顶面片材与所述层压材料接触,同时在所述顶面片材和所述层压材料之间施加粘合剂,以形成复合材料,其中各片材与芯的模量比大于1,所述复合材料具有所希望的卷曲。
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公开(公告)号：CN86103644B
公开(公告)日：1988-11-23
申请号：CN86103644
申请日：1986-06-11
Applicant: 株式会社日立制作所
IPC: G03F7/16 , H01L21/312
CPC classification number: G03F7/162 , Y10S430/136
Abstract: 光刻工艺，包括在衬底上旋涂光刻胶并将掩膜图形转移到光刻胶上而后进行曝光，及在图形被曝光后在衬底上形成该图形。当光刻胶显影图形因涂敷光刻胶工艺中的参数的增加或减少而脉动变化时，将参数的值设置到与脉动的极值相符。
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公开(公告)号：CN100388422C
公开(公告)日：2008-05-14
申请号：CN200510129143.3
申请日：2005-10-08
Applicant: 三星SDI株式会社
CPC classification number: H01L51/0013 , B41M5/38207 , B41M5/42 , B41M5/46 , B41M2205/12 , B41M2205/36 , H01L51/56 , Y02E10/549 , Y02P70/521 , Y10S430/136
Abstract: 本发明涉及施主衬底及有机发光显示器的制造方法。制造施主衬底的方法包括：准备包含至少一个转移区和至少一个非转移区的基衬，在基衬上形成光热转换层，使用遮蔽掩模在基衬的至少一个转移区中的光热转换层上选择性地沉积转移层，其中形成在该转移区中的该转移层比受主衬底上的对应显示区宽。然后为了制造有机发光显示器，使用激光诱导热成像来将图案化的转移层从施主衬底转移至受主衬底上的显示区。
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公开(公告)号：CN1702546A
公开(公告)日：2005-11-30
申请号：CN200510068402.6
申请日：2005-04-29
Applicant: 施乐公司
IPC: G03C1/76
CPC classification number: G03C1/73 , G03C1/685 , Y10S430/136 , Y10S430/163
Abstract: 一种形成图像的方法，包括：(a)提供一种包括基质和光致变色材料的可重复成像的介质，其中介质能够显示色对比度和缺少色对比度；(b)将介质暴露在与预定图像对应的成像光下，产生暴露区域和非暴露区域，其中色对比度出现在暴露区域和非暴露区域之间而允许与预定图像相当的暂时图像在可见时间内可见；(c)使暂时图像处于室内环境条件下达一段图像擦除时间，将色对比度变成缺少色对比度，不使用图像擦除设备就擦除了暂时图像；和(d)任选地重复步骤(b)和(c)多次，使介质经过多次额外的形成暂时图像和擦除暂时图像的循环。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1404584A
公开(公告)日：2003-03-19
申请号：CN01805228.2
申请日：2001-02-02
Applicant: 部鲁尔科学公司
CPC classification number: G03F7/091 , Y10S430/136 , Y10S430/151
Abstract: 提供在基片表面涂布有机抗反射涂层的改进方法和所产生的前体结构。概括地说，该方法包括使抗反射化合物化学沉积(CVD)到基片表面上。在一个实施方式中，所述的化合物高度应变(如应变能至少约为10千卡/摩尔)，并包含两个经连接基团相连的环状部分。最优选的单体是[2.2](1，4)－萘并烷(naphthalenophane)和[2.2](9，10)－蒽并烷(anthracenophane)。CVD法包括对抗反射化合物加热使其蒸发，然后使蒸发的化合物热解成稳定的双自由基，后者随后聚合到沉积室中的基片表面上。本发明方法用于在具有超亚微米(不大于0.25微米)细部的大基片表面上提供高度保形的抗反射涂层。
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公开(公告)号：CN1236907A
公开(公告)日：1999-12-01
申请号：CN99107003.8
申请日：1999-05-21
Applicant: 伊斯曼柯达公司
IPC: G03D15/06
CPC classification number: G03D5/003 , G03D5/006 , G03D5/067 , Y10S430/136 , Y10S430/162
Abstract: 一种把有预定粘度的溶液施加到光敏材料比如照片上的装置和方法,其包括传送该光敏材料通过一个罐。在该罐中安装一个引导件有效地把溶液引导到在第一和第二滚轮之间的辊隙部分附近的区域。这一设置在滚轮之间的辊隙部分的附近产生至少一个液滴,使得实现把溶液均匀地和一致地施加到光敏材料上,同时,使得驱动滚轮中的一上滚轮保持为均匀的湿润的状态。
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公开(公告)号：CN1033903A
公开(公告)日：1989-07-12
申请号：CN88107380
申请日：1988-10-27
Applicant: 株式会社东芝
IPC: H01J9/14
CPC classification number: H01J9/142 , B05C9/04 , H01J2209/015 , Y10S430/136
Abstract: 依靠在带状金属片(1)二个主表面上分别形成光敏树脂层来形成阴罩。在第一主表面向上时把树脂液(13)涂覆在第一主表面上以形成第一树脂层，并在使金属片(1)保持水平的同时干燥树脂液。类似地，在第二主表面向上时把树脂液(23)涂覆在第二主表面上以形成第二树脂层，并在使金属片(1)保持水平的同时干燥树脂液。依靠曝光和冲洗在第一、二树脂层中形成预定开口，对金属片裸露部分刻蚀以在其中形成微孔。
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公开(公告)号：CN1800989B
公开(公告)日：2011-11-16
申请号：CN200510138098.8
申请日：2005-11-14
Applicant: E.I.内穆尔杜邦公司
CPC classification number: G03G15/06 , G03F7/18 , G03F7/36 , G03G15/75 , G03G2215/0631 , Y10S430/136
Abstract: 本发明涉及一种具有圆筒载体的感光元件形成印刷印版的设备和工艺，特别是，属于热处理感光元件以形成凸版图案、特别是形成圆筒形苯胺印刷印版的设备和工艺。该设备和工艺包括支撑圆筒载体，以适应具有各种尺寸的圆筒载体的感光元件的热处理。
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公开(公告)号：CN100451830C
公开(公告)日：2009-01-14
申请号：CN01805228.2
申请日：2001-02-02
Applicant: 布鲁尔科技公司
CPC classification number: G03F7/091 , Y10S430/136 , Y10S430/151
Abstract: 提供在基片表面涂布有机抗反射涂层的改进方法和所产生的前体结构。概括地说，该方法包括使抗反射化合物化学沉积(CVD)到基片表面上。在一个实施方式中，所述的化合物高度应变(如应变能至少约为41.87千焦/摩尔)，并包含两个经连接基团相连的环状部分。最优选的单体是[2.2](1，4)-萘并烷(naphthalenophane)和[2.2](9，10)-蒽并烷(anthracenophane)。CVD法包括对抗反射化合物加热使其蒸发，然后使蒸发的化合物热解成稳定的双自由基，后者随后聚合到沉积室中的基片表面上。本发明方法用于在具有超亚微米(不大于0.25微米)细部的大基片表面上提供高度保形的抗反射涂层。
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