公开(公告)号：CN100480861C

公开(公告)日：2009-04-22

申请号：CN200410095181.7

申请日：2004-10-27

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： C·A·胡根达姆 ,  B·斯特里克 ,  J·C·H·穆肯斯 ,  E·T·M·比拉亚特 ,  A·Y·科勒斯恩臣科 ,  E·R·鲁普斯特拉 ,  J·J·S·M·梅坦斯 ,  B·A·斯拉格赫科 ,  P·A·J·蒂内曼斯 ,  H·范桑坦

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/00

CPC classification number: G03F7/70866 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70808

Abstract: 液体通过入口提供给投影系统最后元件和基底之间的贮液器。溢流口排出给定水平面上方的液体。该溢流口位于入口之上，这样液体就不断更新且液体压力保持基本恒定。

公开(公告)号：CN1612053A

公开(公告)日：2005-05-04

申请号：CN200410095181.7

申请日：2004-10-27

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： C·A·胡根达姆 ,  B·斯特里克 ,  J·C·H·穆肯斯 ,  E·T·M·比拉亚特 ,  A·Y·科勒斯恩臣科 ,  E·R·鲁普斯特拉 ,  J·J·S·M·梅坦斯 ,  B·A·斯拉格赫科 ,  P·A·J·蒂内曼斯 ,  H·范桑坦

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/00

CPC classification number: G03F7/70866 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70808

Abstract: 液体通过入口提供给投影系统最后元件和基底之间的贮液器。溢流口排出给定水平面上方的液体。该溢流口位于入口之上，这样液体就不断更新且液体压力保持基本恒定。