一种适用于功率器件的可靠性测试电路及方法

    公开(公告)号:CN115421017A

    公开(公告)日:2022-12-02

    申请号:CN202211170388.0

    申请日:2022-09-23

    Abstract: 本发明公开了一种适用于功率器件的可靠性测试电路及方法,包括:采样电路、控制电路、电平转换电路和驱动电路;所述采样电路用于与功率器件的栅极相连,采集功率器件的栅极电流;所述控制电路的输入端与所述采样电路相连,根据采样电路输出的栅极电流产生或不产生PWM信号;所述电平转换电路的输入端与所述控制电路的输出端,对控制电路输出的PWM信号进行电平转换;所述驱动电路的输入端与所述电平转换电路的输出端相连,其输出端用于与功率器件的栅极相连,控制功率器件的开/关。本发明利用PWM技术对被测功率器件的门极‑发射极/源极进行开关控制,在高温下,对功率器件进行HTGB可靠性考核。

    一种屏蔽栅型IGBT器件的制造方法

    公开(公告)号:CN113889408A

    公开(公告)日:2022-01-04

    申请号:CN202111196987.5

    申请日:2021-10-14

    Inventor: 王鑫

    Abstract: 本发明属于功率半导体器件设计技术领域,具体涉及一种屏蔽栅型IGBT器件的制造方法,包括:在半导体衬底上光刻刻蚀形成深沟槽;在深沟槽底部和侧壁形成第一源极绝缘层,并在深沟槽内填充第一源极导电物质;对半导体衬底进行各项同性刻蚀,在深沟槽顶部形成顶部沟槽;在顶部沟槽内形成栅介质层,并填充栅极导电物质;形成第二源极导电物质,第二源极导电物质与第一源极导电物质在所述深沟槽内连接;形成P型体区,在P型体区内形成N型源区;形成隔离介质层,接触孔及正面金属层;形成背面形成集电极区及背面金属层。使用本发明的方法制造屏蔽栅型IGBT器件,解决了接触孔对偏问题,工艺简单可控,降低了制造风险,提高了制造良率。

    一种大功率半导体器件及其制备方法

    公开(公告)号:CN113140617A

    公开(公告)日:2021-07-20

    申请号:CN202110280013.9

    申请日:2021-03-16

    Abstract: 本发明公开了半导体器件技术领域的一种大功率半导体器件及其制备方法,降低了裂片过程中出现碎片的几率,提高了产品的合格率和产量。包括:在芯片第一表面进行各功能模块的制作,然后在第一表面的划片道处制作第一埋层;在芯片第二表面进行各功能模块的制作,然后在第二表面上制作与第一埋层相对的第二埋层;对芯片进行裂片,使芯片沿第一埋层和第二埋层产生裂痕,进而分割成若干个独立的半导体器件。

    一种半导体模块结构
    55.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113140524A

    公开(公告)日:2021-07-20

    申请号:CN202110348467.5

    申请日:2021-03-31

    Abstract: 本发明公开了一种半导体模块结构,包括:基板、半导体芯片、触点元件和顶板,所述半导体芯片设有第一主电极和第二主电极,所述第一主电极耦接所述基板,所述第二主电极耦接所述触点元件,所述触点元件为螺纹结构,所述顶板与所述触点元件通过螺纹连接。通过采用触点元件的方式,单独旋转调节触点元件的高度来调整半导体芯片所承载的压力,实现单颗芯片压力可调,解耦芯片间的压力,实现芯片间应力均衡,一致性更高;通过采用螺纹结构的触点元件增大导电面积,降低热阻,提高通流能力,提高可靠性;针对超过阈值压力的部分通过承压体来承担,使得半导体芯片上的压力在规定的范围内,外部压力变化不会导致半导体芯片表面的压力变化。

    一种不同工况下IGBT器件各物理层温度监测仿真方法

    公开(公告)号:CN112560318A

    公开(公告)日:2021-03-26

    申请号:CN202011530910.2

    申请日:2020-12-22

    Abstract: 本发明公开了一种不同工况下IGBT器件各物理层温度监测仿真方法,通过三维制图软件,建立IGBT器件的3D热仿真模型;将3D热仿真模型导入Icepak仿真软件,对3D热仿真模型进行瞬态CFD模拟计算;将CFD模拟计算结果作为Simplorer仿真软件的输入,创建降阶模型;使用Simplorer建立IGBT动态封装模型;基于封装模型在Simplorer中搭建单相PWM逆变电路拓扑模型,通过PWM控制所述拓扑模型,得到IGBT器件动态封装模型的电压和电流数据;将所述电压和电流数据输入降阶模型,得到IGBT、二极管的结温以及IGBT器件各物理层的温度随时间变化的曲线。本发明大大减少了仿真计算的时间。

    一种采用超声焊接端子的半导体功率模块

    公开(公告)号:CN111787695A

    公开(公告)日:2020-10-16

    申请号:CN202010721380.3

    申请日:2020-07-24

    Abstract: 本发明公开了一种采用超声焊接端子的半导体功率模块,所述下壳体设置在金属基板上,下壳体内设置有多个间隔,每个间隔内设置有绝缘陶瓷衬板,每块绝缘陶瓷衬板上设置有IGBT芯片和FWD芯片,IGBT芯片和FWD芯片构成一个半桥电路,多个半桥电路构成一个全桥电路;所述下壳体两端分别嵌入有功率端子,功率端子的末端与绝缘陶瓷衬板相连接;所述信号端子嵌入间隔内设置的横梁,信号端子末端分别与绝缘陶瓷衬板相连接。本发明简化了模块的生产过程,提高了模块的生产效率,增强模块工作的可靠性。

    一种沟槽型IGBT结构及其制作方法
    58.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118156293A

    公开(公告)日:2024-06-07

    申请号:CN202211516026.2

    申请日:2022-11-30

    Abstract: 本发明公开了一种沟槽型IGBT结构及其制作方法,其中,IGBT结构的集电极上设有N型衬底,N型衬底上表面两端均设有P+区;N型衬底上表面形成沟槽,沟槽内形成N型注入区,N型注入区内设有第一二氧化硅层,第一二氧化硅层内设有下分离栅,下分离栅上设有第二二氧化硅层,第二二氧化硅层上设有上分离栅,第一二氧化硅层和第二二氧化硅层构成栅氧层;沟槽的两侧设有P型沟道区,P型沟道区上设有N+发射区;N+发射区、上分离栅以及栅氧层的上表面形成层间介质层;N型衬底两侧上表面通过孔光刻和刻蚀进行开孔,孔内形成P+区;P+区、N+发射区以及层间介质层的上表面形成金属连接层。本发明能够获得的兼顾导通压降低、开关速度快以及动态损耗低的IGBT结构。

    一种SiC逆导型绝缘栅双极型晶体管器件及其制造方法

    公开(公告)号:CN112951905B

    公开(公告)日:2024-03-29

    申请号:CN202110096995.6

    申请日:2021-01-25

    Abstract: 本发明公开了一种SiC逆导型绝缘栅双极型晶体管器件及其制造方法,晶体管器件包括金属集电极,从金属集电极开始依次布置有第一导电类型衬底、第一导电类型buffer层、第二导电类型集电极、第一导电类型漂移区;在第一导电类型衬底和第一导电类型buffer层中有若干个沟槽,沟槽穿透第一导电类型衬底层和第一导电类型buffer层,沟槽内的填充集电极穿透第一导电类型衬底和第一导电类型buffer后与第二导电类型集电极相连;所述第二导电类型集电极是相互分离的阵列结构,各第二导电类型集电极与所述沟槽相对应。本发明的晶体管器件,将续流二极管集成到SiC IGBT中,降低电路寄生参数的同时,提高芯片面积利用率。

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